专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种膜层沉积方法-CN202110012080.2有效
  • 桂铭阳;罗兴安;张春雷;蒋志超;胡淼龙;张高升 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-01-06 - 2022-09-02 - C23C16/505
  • 本申请提供一种膜层沉积方法,基于等离子体气相沉积,包括:将待形成膜层的元件暴露在等离子体腔室中;提供等离子体;通入膜层生成气体,在所述等离子体的作用下,所述膜层生成气体在所述待形成膜层的元件表面形成膜层;间断性地对所述等离子体腔室进行抽气,在抽气阶段,所述腔室内保持预设真空度。由于在等离子体沉积过程中,进行抽气体过程,抽气过程对等离子体场分布造成影响,使得等离子体场分布相对于现有技术中的不均匀而言,较为杂乱随机,从而使得等离子体轰击晶圆的区域相对均匀,进而使得膜层沉积在晶圆表面的厚度相对于现有技术而言,更加均匀,使得晶圆受到膜层的应力较为均匀,改善了晶圆发生形变和破片的情况。
  • 一种沉积方法
  • [发明专利]三维存储器及其形成方法、及存储系统-CN202111643248.6在审
  • 张浩;李明;桂铭阳 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-12-29 - 2022-04-08 - H01L27/11524
  • 一种三维存储器形成方法包括:提供基层,基层包括衬底及设置在衬底上的中间层;于中间层内形成第一孔,第一孔内形成有填充材料;于中间层上形成堆叠层,堆叠层包括交替排布的第一绝缘层及第一牺牲层;形成贯穿堆叠层的第二孔;去除填充材料,形成由第一孔及第二孔构成的深孔,第一牺牲层的侧面暴露于深孔的侧壁;经深孔去除第一牺牲层,并形成第一栅极结构。本公开实施例先形成第一孔,再利用填充材料作为刻蚀停止层,形成第二孔,深孔底部关键尺寸及深孔底部的位置预先通过第一孔设置,改善深孔刻蚀沟槽均一性,保证深孔底部关键尺寸,提高深孔底部关键尺寸与深孔顶部关键尺寸比值,且能够确保刻蚀完全,不会存在刻蚀不充分的情况。
  • 三维存储器及其形成方法存储系统
  • [发明专利]薄膜制备装置、薄膜制备装置的控制方法与控制装置-CN202010997159.0在审
  • 胡淼龙;罗兴安;张高升;桂铭阳;蒋志超;张春雷 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-09-21 - 2020-12-29 - C23C16/52
  • 本申请提供了一种薄膜制备装置、薄膜制备装置的控制方法与控制装置,该薄膜制备装置包括:壳体,具有反应腔体;支撑结构,位于反应腔体内;加热器,位于反应腔体内的支撑结构上;热辐射结构,位于反应腔体的底壁和加热器之间,热辐射结构在加热器上的投影位于加热器的部分区域内,热辐射结构用于向加热器辐射热量。该薄膜制备装置在反应腔体的底壁和加热器之间加入热辐射结构,辐射结构可以向其在加热器上对应的投影区域辐射热量,来调整加热器的部分区域温度,从而可以调整加热器位于对应投影区域上的这部分薄膜的相关参数,即该薄膜制备装置通过热辐射结构可以调整加热器上的薄膜的局部的相关参数,进而保证了薄膜局部相关参数的均匀性。
  • 薄膜制备装置控制方法

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