专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种货箱转运仓储机-CN202223164220.7有效
  • 柯明峰;王文斐;李党伟;金律君;崔海洋;尤聘渊;陈利;冯亮;王伟伟;徐骋远;刘文勇;吴逸飞;简松焕 - 浙江国自机器人技术股份有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-05-26 - B65G1/04
  • 本实用新型公开了一种货箱转运仓储机,包括:机架;提升装置,提升装置包括设置在机架上的导轨、升降设置在导轨上的提升架、设置在提升架上的转运输送机构以及驱动提升架升降的第一升降执行机构;暂存装置,暂存装置包括设置在机架上的暂存架、设置在暂存架上的暂存输送机构;转运装置,转运装置包括设置在机架上的对接输送机构、用于连接对接输送机构和暂存输送机构的中间输送机构,转运输送机构上设有用于穿过转运输送机构的避让口,对接输送机构、中间输送机构和暂存输送机构的输送方向相同,对接输送机构的输送方向与转运输送机构的输送方向垂直分布。本方案空间紧凑,结构简单;节省仓库占地面积,提高空间利用率,提高货箱运输的效率。
  • 一种货箱转运仓储
  • [实用新型]力流变抛光机-CN202023037954.X有效
  • 袁巨龙;吕冰海;柯明峰;傅琳;吕迅;段世祥;张涛 - 杭州智谷精工有限公司
  • 2020-12-17 - 2021-11-23 - B24B1/00
  • 力流变抛光机,其包括底架;底架上设有抛光槽,抛光槽由槽底、槽外圈和槽内圈组成;抛光槽的上方对应设有运动总成;运动总成包括公转盘;公转盘上设有一组沿周向分布并可作转动的自转轴;公转盘与升降装置的升降轴通过转动副联接;升降轴上套设有导电滑环,自转轴驱动电机与导电滑环电性连接;公转盘的中部设有拨轮孔,拨轮孔的边缘沿周向设有一组传动卡块,对应的,槽内圈的外侧设有可由公转驱动电机驱动的拨轮,拨轮上设有用于和传动卡块配合的传动卡槽;升降轴与拨轮同轴设置。该设备可以实现工件表面高效、高质量的抛光,同时使用方便,可靠性高。
  • 流变抛光机
  • [实用新型]带有通孔的球型零件专用的砂带抛光装置-CN202023337836.0有效
  • 袁巨龙;吕冰海;柯明峰;李晓琪;张涛;吕迅 - 杭州智谷精工有限公司
  • 2020-12-31 - 2021-08-27 - B24B21/02
  • 带有通孔的球型零件专用的砂带抛光装置,包括:X自动直线滑台沿X;圆弧摆动机构设于X自动直线滑台上;圆弧摆动机构的摆动轴心线经过夹持状态下工件的球心;砂带机通过升降机构设于圆弧摆动机构上,可以升降,且可以相对圆弧摆动机构的摆动轴心线沿圆弧往复摆动。在砂带抛光过程中,砂带机的砂带在带有通孔的球型零件的表面往复运动,砂带对工件表面的作用力始终指向球面的球心,可以使工件表面不同位置受到的抛光压力一致,相对于现有技术所采用的人工方式,不仅加工效率高,成本低,且抛光均匀性好,抛光后工件表面质量一致性好。
  • 带有零件专用抛光装置
  • [发明专利]液压马达平面配流组件的抛光方法-CN202110061831.X在审
  • 吕冰海;袁巨龙;柯明峰;周亚峰;张涛;吕迅 - 新昌浙江工业大学科学技术研究院;杭州智谷精工有限公司
  • 2021-01-18 - 2021-05-07 - B24B21/00
  • 液压马达平面配流组件的抛光方法,所述液压马达平面配流组件由轴承钢制得,其具有呈球面状的外表面,且内部沿轴向设有通孔,其特征在于,抛光加工时:工件夹持转动装置对工件从内侧实现夹持并驱动工件旋转;砂带机设于工件的正上方,对工件施加设定压力,并沿工件的表面往复摆动,运行的砂带通过摩擦对工件的表面材料进行去除;砂带机的摆动轴心线经过工件的球心并与工件的轴线垂直;砂带机上的砂带为A6或A30金字塔砂带;抛光过程包括粗抛和精抛。相对于现有技术所采用的人工方式,不仅加工效率高,成本低,且抛光均匀性好,抛光后工件表面质量一致性好,并且将两道工序整合在一起,即将砂带抛光和布轮抛光整合在一起,简化加工过程。
  • 液压马达平面组件抛光方法
  • [实用新型]基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置-CN202021500568.7有效
  • 周亚峰;吕冰海;邵琦;柯明峰;段世祥 - 浙江工业大学
  • 2020-07-27 - 2021-04-06 - B24B37/005
  • 一种基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置,包括研磨盘模块、电源模块、反馈控制模块、电解液模块和轴承滚子,所述研磨盘模块中,上研磨盘可实现上下运动,对轴承滚子进行加压,吸附轴承滚子使其转动力矩大于摩擦阻力矩,从而实现轴承滚子接触恒定,摩擦恒定,使轴承滚子的连续稳定自转,实现研磨主运动,螺旋沟槽位于上研磨盘下表面,与轴承滚子接触,下研磨盘位于上研磨盘下方,与上研磨盘同轴线,直线沟槽位于下研磨盘上表面,直线沟槽表面为金属结合剂固着磨料磨具,沿直线沟槽的直线进给运动以及沿螺旋槽的螺旋运动用于维持研磨盘工作面的面形,轴承滚子出口位于下研磨盘中心。本实用新型高表面质量、高批一致性、高形位精度。
  • 基于氧化状态主动控制轴承滚子elid研磨装置

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