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[发明专利]一种转移方法及转移系统-CN202010547333.1有效
发明人：李欣曈;洪温振;柘涛 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供了一种转移方法及转移系统，其中，所述转移方法包括：提供一液体，将多种待转移的微型发光元件置于所述液体中，并使各种所述微型发光元件之间形成高度差；提供一转移装置，所述转移装置包括多种拾取头，各种所述拾取头的长度不同；待不同长度的所述拾取头分别与位于所述液体中不同高度的所述微型发光元件接触后，拾取所述微型发光元件。本发明的转移方法由于采用了液体作为多种待转移微型发光元件的载体，借助于液体就可以使得多种待转移微型发光元件之间形成高度差，之后通过使用具有不同长度的拾取头拾取液体中具有不同高度的微型发光元件，拾取头拾取微型发光元件的过程简单，操作方便。
一种转移方法系统

[实用新型]蚀刻机台装置-CN202022136615.0有效
发明人：兰升友;柘涛;易熊军;杨富可;黄韬 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蚀刻机台装置。蚀刻机台装置包括：机体，机体具有沿晶圆的移动方向依次设置的第一蚀刻槽、第二蚀刻槽和水槽；快门，快门为多个，第一蚀刻槽和第二蚀刻槽之间的槽壁上、第二蚀刻槽和水槽之间的槽壁上分别开设有槽壁开口，各槽壁开口处分别对应设置有一个能够平移滑动的快门，以遮挡或避让槽壁开口，以使晶圆能够穿过槽壁开口在第一蚀刻槽、第二蚀刻槽和水槽之间移动。本实用新型解决了现有技术中蚀刻机台的元器件易腐蚀以及各工作区间之间互相影响的问题。
蚀刻机台装置