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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]结构上的光致抗蚀剂图案制作工艺-CN201610666664.0有效
发明人：史佩珊;郭琬琳;张宜翔;林嘉祺;赖俊丞 -专利权人：力晶积成电子制造股份有限公司
申请日： 2016-08-15 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明公开一种结构上的光致抗蚀剂图案制作工艺，包括：提供基底，此基底包括第一区以及多个第二区，其中第二区位于第一区的相对两侧，且多个突起图案形成于基底上；在第一区上形成光致抗蚀剂图案，其中当突起图案至少位于第一区上且与待形成的光致抗蚀剂图案的位置重叠时，在形成光致抗蚀剂图案之前，移除突起图案。
结构光致抗蚀剂图案制作工艺

[发明专利]提升图案精密度的方法-CN201510143553.7有效
发明人：林品宏;林嘉祺;赖俊丞 -专利权人：力晶积成电子制造股份有限公司
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开一种提升图案精密度的方法，包括下列步骤。提供目标图案。将目标图案分解成多个分割图案。分别由多个分割图案产生多个光致抗蚀剂强度分布。处理多个分割图案的多个光致抗蚀剂强度分布，得到光致抗蚀剂强度分布图像。根据光致抗蚀剂强度分布图像定义高感光区域以及强度不足区域。修正所述光致抗蚀剂强度分布图像的强度不足区域。根据修正后的光致抗蚀剂强度分布图像得到结果图案。
提升图案精密度方法

[发明专利]检测光刻热点的方法-CN201510244597.9有效
发明人：张宜翔;林嘉祺;叶信杏;史佩珊;赖俊丞 -专利权人：力晶科技股份有限公司
申请日： 2015-05-14 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种检测光刻热点的方法，其步骤包含接收一布局图形数据，对该布局图形数据进行空间影像模拟以析取出多种空间影像强度指数，根据一种或多种这些空间影像强度指数的组合产生出多种空间影像检测子，再根据这些空间影像检测子的数值来判定出所对应的光刻热点位置与种类。
检测光刻热点方法

[发明专利]双调显影用光掩模-CN201310103910.8在审
发明人：张宜翔;林嘉祺;林鸿铭 -专利权人：力晶科技股份有限公司
申请日： 2013-03-28 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： G03F1/30 文献下载
摘要：本发明公开一种双调显影用光掩模，其包括开口图案区以及不完全透光图案。开口图案区包括多个透光图案与多个不透光图案，且由透光图案与不透光图案于双调显影用光致抗蚀剂中定义出多个开口图案。不完全透光图案围绕开口图案区。
显影用光

[发明专利]接触窗开口的形成方法-CN201110412986.X无效
发明人：蔡孟峰;张宜翔;林嘉祺;陈奕炘;吴家铭 -专利权人：力晶科技股份有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开一种接触窗开口的形成方法，其包括下列步骤。首先，提供基底，基底包括密集区与独立区。接着，在基底上形成材料层。然后，在密集区中的材料层上形成多个牺牲图案，且在相邻两个牺牲图案之间具有第一开口。接下来，在各牺牲图案两侧分别形成间隙壁，且间隙壁彼此分离设置。之后，移除牺牲图案，而于相邻两个间隙壁之间形成第二开口。再者，形成填满第二开口的平坦层。随后，在平坦层中形成第一狭缝，第一狭缝暴露出位于第二开口下方的部分材料层。继之，移除由第一狭缝所暴露出的部分材料层，而在材料层中形成多个第三开口。
接触开口形成方法

[发明专利]输送装置-CN201010221414.9无效
发明人：张智能;徐岳圣;林嘉祺;萧博戎;唐炳顺;朱良堃;张家铭 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2010-06-30 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： B65G7/02 文献下载
摘要：一种输送装置，包括一本体、至少一滚轮、至少一承载架以及至少一微减震单元。本体包括一支撑结构以及一承载结构，该承载结构连接该支撑结构。滚轮连接于该本体。承载架由该承载结构所承载。微减震单元设于该承载架与该承载结构之间。应用本发明的输送装置，由于可通过微减震单元有效吸收微震动，因此可避免晶片受到碰撞而损坏，提升产品良率。
输送装置

[发明专利]手持式电子设备及其控制显示内容的方法-CN200910108899.8无效
发明人：邓宁;陈继健;林嘉祺;吴建屏 -专利权人：幻音科技(深圳)有限公司;幻音数码有限公司
申请日： 2009-08-12 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G06F3/048 文献下载
摘要：一种手持式电子设备包括加速度计、处理器及输入/输出控制器。加速度计用于感应手持式电子设备所处的加速度，并生成相应的加速度信号。处理器用于对加速度信号进行坐标的重整，并根据经过重整的手持式电子设备在预定的动作控制时的加速度信号及第一显示内容信息重新计算第二显示内容信息。输入/输出控制器用于输出第二显示内容信息。本发明还提供一种手持式电子设备的控制显示内容的方法。
手持电子设备及其控制显示内容方法

[发明专利]填充开口、介层开口与沟槽的方法-CN200510125252.8有效
发明人：严永松;陈桂顺;林嘉祥;林嘉祺;林宗宪 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2005-11-22 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种填充开口、介层开口与沟槽的方法，具体涉及一种等向性扩散填充方法，对一结构进行热流处理，此结构包括光致抗蚀剂层与热流材料层，以于其间产生一交联层，以减少疏－密介层图案区间的阶层高度差，以使随后的沟槽制程最佳化且减化制程步骤。
填充开口沟槽方法

[发明专利]填隙工艺-CN02156380.2有效
发明人：翁俊仁;陈瓀懿;潘鸿赐;李秋德;吴德源;林嘉祥;严永松;林嘉祺;曾盈崇 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-12-18 - 公布日： 2004-06-09 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种填隙工艺，此填隙工艺提供一个已形成有介电层的衬底，且于介电层中形成有开口。接着，于介电层上与开口中形成填隙材料层，再去除部分填隙材料层至露出介电层表面。然后，对填隙材料层与介电层表面进行填隙材料处理工艺，以使填隙材料层表面能够趋于平坦化，进而使得后续形成于其上的底层抗反射层或其它材料层能够具有良好的平坦特性。
填隙工艺

[发明专利]图案转移的方法-CN02124620.3有效
发明人：方震宇;黄志贤;林嘉祺;黄瑞祯 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-06-14 - 公布日： 2003-12-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种图案转移的方法，在图案光阻形成在底材上后，先对图案光阻进行一硬化程序，接着才将硬化处理过的图案光阻的图案转移至底材。在此，常见的硬化程序是硅化程序，并且可以只硬化图案光阻的顶部，也可以硬化图案光阻的顶部与侧壁。并且，可以在执行硬化程序之前，先改变图案光阻高度与缩小图案光阻临界尺寸。显然地，由于硬化处理过的图案光阻的蚀刻阻值大于图案光阻材料的蚀刻阻值，可以有效地减少图案光阻在图案转移程序所受到的蚀刻，进而克服图案失真的问题，以及克服习知技术为避免光阻被蚀刻耗尽而必需使用较厚的图案光阻时，图案光阻的临界尺寸受限于显影能力而不能进一步降低的问题。
图案转移方法

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