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[发明专利]细胞的制备方法-CN202310020578.2在审
发明人：山本健太;岸田纲郎;素轮善弘;山本俊郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C12N5/077 文献下载
摘要：本发明将提供制备体细胞的方法，其包括将哺乳动物的已分化的体细胞在用于诱导分化除了上述已分化的体细胞以外的其它体细胞的培养基中，在TGF‑β通路抑制剂的存在下进行培养，从而使上述已分化的体细胞转换为其它体细胞。
细胞制备方法

[发明专利]细胞的制备方法-CN201680074941.7有效
发明人：山本健太;岸田纲郎;素轮善弘;山本俊郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： C12N5/071 文献下载
摘要：本发明将提供制备体细胞的方法，其包括将哺乳动物的已分化的体细胞在用于诱导分化除了上述已分化的体细胞以外的其它体细胞的培养基中，在TGF‑β通路抑制剂的存在下进行培养，从而使上述已分化的体细胞转换为其它体细胞。
细胞制备方法

[发明专利]雪旺氏细胞及其制备方法-CN202210086740.6在审
发明人：素轮善弘;岸田纲郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2015-09-11 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C12N5/10 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种不经由ES细胞或iPS细胞等多能性干细胞而直接(通过直接重编程)得到雪旺氏细胞的方法。作为解决所述的课题的手段，提供一种制备雪旺氏细胞的方法，其包含在哺乳动物的体细胞中导入选自由SOX10基因及KROX20基因构成的组中的至少1种基因或其表达产物的工序。
雪旺氏细胞及其制备方法

[发明专利]一种尿路上皮细胞的诱导剂和尿路上皮细胞的诱导方法-CN202080060572.2在审
发明人：井上裕太;松田修;岸田纲郎;浮村理;关诚 -专利权人：细流而希佳股份有限公司
申请日： 2020-08-28 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C12N15/85 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种尿路上皮细胞的制备方法，其能够应用于治疗泌尿系统疾病，尤其是尿路上皮细胞损伤引起的疾病或尿路上皮细胞缺失或功能障碍引起的疾病，以及提供通过方法所制备的尿路上皮细胞和用于诱导(制备)尿路上皮细胞的培养基。由诱导尿路上皮细胞的方法制备的尿路上皮细胞能够应用于治疗泌尿系统疾病，该方法包括通过向哺乳动物的体细胞导入以下外源因子中至少一种的步骤，FOXA1(叉头盒蛋白A1，Forkhead box A1)基因或其表达产物、TP63(肿瘤蛋白P63，tumor protein P63)基因或其表达产物、MYCL(L‑Myc)基因或其表达产物、以及KLF4(Kruppel样因子4，Kruppel‑like factor 4)基因或其表达产物。
一种路上细胞诱导剂诱导方法

[发明专利]雪旺氏细胞及其制备方法-CN201580049009.4有效
发明人：素轮善弘;岸田纲郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2015-09-11 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： C12N5/10 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种不经由ES细胞或iPS细胞等多能性干细胞而直接(通过直接重编程)得到雪旺氏细胞的方法。作为解决所述的课题的手段，提供一种制备雪旺氏细胞的方法，其包含在哺乳动物的体细胞中导入选自由SOX10基因及KROX20基因构成的组中的至少1种基因或其表达产物的工序。
雪旺氏细胞及其制备方法

[发明专利]成骨细胞及其制备方法-CN201680061707.0有效
发明人：山本健太;岸田纲郎;山本俊郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2016-08-19 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C12N5/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供制备成骨细胞的方法，所述成骨细胞在对伴随各种肿瘤、外伤、手术等的骨缺损的修复、牙周病为代表的骨吸收、骨折、骨质疏松症等的治疗中能够应用，且癌变的危险性较少。作为解决该课题的办法，提供包括向哺乳动物的体细胞导入Oct9基因或其表达产物的工序，并从上述体细胞制备成骨细胞的方法。
细胞及其制备方法

[发明专利]成骨细胞的制备方法及成骨细胞诱导剂-CN201580023967.4有效
发明人：山本健太;岸田纲郎;山本俊郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： C12N5/071 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种制备可用于骨缺损的修复和对骨吸收、骨折或骨质疏松症等的治疗、没有癌变危险性的成骨细胞的方法。作为解决所述的课题的方案，提供一种制备成骨细胞的方法，其特征在于，将哺乳动物的经分化的体细胞，在培养基中在选自由(1)他汀化合物、(2)酪蛋白激酶1抑制剂、(3)cAMP诱导剂及(4)组蛋白甲基转移酶抑制剂构成的组中的至少1种化合物的存在下进行培养，将所述体细胞变换为成骨细胞。
细胞制备方法诱导剂

[发明专利]成骨细胞和制备成骨细胞的方法-CN201480048547.7有效
发明人：山本健太;岸田纲郎;山本俊郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2014-07-24 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： C12N15/09 文献下载
摘要：本发明涉及从哺乳动物的体细胞制备成骨细胞的方法以及通过所述方法制备的成骨细胞，所述方法包括向体细胞中导入骨相关基因或骨相关基因的表达产物以及重编程相关基因或重编程相关基因的表达产物，或者独立地向体细胞中导入重编程相关基因或重编程相关基因的表达产物，所述骨相关基因包括选自Runx2(R)、Osterix(O)和Dlx5(D)中的至少一种，所述重编程相关基因包括选自Oct家族、c‑Myc(M)、L‑Myc(L)、Klf家族、Lin‑28和Sox2中的至少一种。
细胞制备方法

[发明专利]骨骼肌细胞及其诱导方法-CN201780081655.8在审
发明人：若尾纯子;岸田纲郎;田尻达郎;松田修 -专利权人：京都府公立大学法人
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： C12N5/10 文献下载
摘要：一种诱导骨骼肌细胞的方法，该方法包括将MyoD家族基因或其表达产物以及Myc家族基因或其表达产物导入到哺乳动物的体细胞中的工序。
骨骼肌细胞表达产物诱导家族基因哺乳动物体细胞

[发明专利]集束离子束装置-CN201610069206.9有效
发明人：八坂行人;小堺智一;松田修;杉山安彦;相田和男;荒卷文朗;大庭弘 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2016-02-01 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明提供集束离子束装置，其搭载有能够使从更高亮度的气体电场电离离子源释放的离子沿着离子光学系统的光轴长时间稳定持续释放，且能够长时间形成集束离子束的气体电场电离离子源集。在搭载有具有释放离子的发射极的气体电场电离离子源的集束离子束装置中，发射极采取使尖锐化的铱和异类金属细线固定而成的形状。
集束离子束装置

[发明专利]修正装置-CN201410418547.3有效
发明人：荒卷文朗;八坂行人;松田修;杉山安彦;大庭弘;小堺智一;相田和男 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2014-08-22 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：本发明公开一种修正装置，其对于试样的损伤较小，在长时间内稳定且效率良好地进行掩膜等的细微部位的修正。修正装置(10)至少具备气体电场电离离子源，其具有锐化的针尖；冷却单元，其冷却针尖；离子束镜筒(11)，其使在气体电场电离离子源产生的气体的离子集束，形成集束离子束；试样工作台(15)，其设置经通过离子束镜筒(11)形成的集束离子束照射的试样，并能够移动；试样室(13)，其内置试样工作台(15)；以及控制部(20)，其通过集束离子束修正作为试样的掩膜(14)或纳米压印光刻的模具。气体电场电离离子源以氮作为离子，并具备通过铱单晶构成的针尖，该铱单晶具有能够产生离子的单一的顶点。
修正装置

[发明专利]铱针尖、及使用铱针尖的离子源、电子源、显微镜和装置-CN201410389960.1有效
发明人：小堺智一;松田修;杉山安彦;相田和男;荒卷文朗;八坂行人;大庭弘 -专利权人：日本株式会社日立高新技术科学
申请日： 2014-08-08 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本发明提供铱针尖、及使用铱针尖的离子源、电子源、显微镜和装置。本发明能够位置再现性良好地制作形成于铱针尖的前端部的前端为1个原子的角锥结构，既能够使得杂质不易附着，又能够长时间保持前端的1个原子。铱针尖在锐化的＜210＞方位的单晶的前端部具有角锥结构，该角锥结构的前端仅通过{210}方位的1个铱原子形成，该铱原子由1个{100}结晶面和2个{111}结晶面包围。将形成角锥结构的前端的1个铱原子作为第1层，第1层的正下方的第2层具有位于三角形的顶点的3个铱原子，第2层的正下方的第3层具有位于三角形的顶点和边的6个铱原子。
针尖使用离子源电子显微镜装置

[发明专利]蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂制备液-CN201310112019.0有效
发明人： 松田修;菊池信之;林田一良;白旗里志 -专利权人：和光纯药工业株式会社
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂制备液，能够对半导体基板上的钛(Ti)系金属膜或钨(W)系金属膜进行蚀刻，蚀刻剂由含有下述(A)、(B)和(C)、以及(D-1)和/或(D-2)的溶液构成：(A)过氧化氢、(B)具有羟基的膦酸系螯合剂、(C)碱性化合物、(D-1)铜防蚀剂、0.01重量%～3重量%的(D-2)具有羟基的膦酸系螯合剂以外的不具有氧化力的2种以上的阴离子种。
蚀刻方法制备

[发明专利]半导体表面用处理剂组合物和使用该组合物的半导体表面的处理方法-CN200980108005.3有效
发明人：水田浩德;松田修 -专利权人：和光纯药工业株式会社
申请日： 2009-03-06 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供能够在低温且短时间内容易地将半导体元件等的制造工艺中的防反射膜层剥离的半导体表面用处理剂组合物和使用该组合物的半导体表面的处理方法；还提供不仅能够剥离防反射膜层和抗蚀剂层这两层、还能将蚀刻工序中产生的抗蚀剂固化层剥离的半导体表面用处理剂组合物和使用该组合物的半导体表面的处理方法。本发明涉及半导体表面用处理剂组合物，其特征在于，该组合物含有在水中产生氟离子的化合物、碳自由基产生剂和水，根据需要还含有有机溶剂。本发明还涉及半导体表面的处理方法，其特征在于使用上述组合物。
半导体表面用处组合使用处理方法

[发明专利]蚀刻剂、蚀刻方法及蚀刻剂制备液-CN200880121508.X有效
发明人： 松田修;菊池信之;林田一良;白旗里志 -专利权人：和光纯药工业株式会社
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及能够对半导体基板上的钛(Ti)系金属膜或钨(W)系金属膜进行蚀刻的半导体基板用蚀刻剂，其由含有下述(A)、(B)和(C)、以及(D-1)和/或(D-2)的溶液构成：(A)过氧化氢、(B)具有羟基的膦酸系螯合剂、(C)碱性化合物、(D-1)铜防蚀剂、0.01重量％～3重量％的(D-2)具有羟基的膦酸系螯合剂以外的不具有氧化力的2种以上的阴离子种。
蚀刻方法制备

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