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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]反射型光掩模及反射型光掩模基板-CN201080014323.6有效
发明人： 松尾正 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2010-03-23 - 公布日： 2012-03-07 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：目的在于提供一种能够降低投影效应的反射型光掩模及反射型光掩模基板，所述投影效应会导致EUV光的转印精度的劣化现象。本发明是一种反射型光掩模，用于通过反射EUV光来照射反射光，其特征在于，具有：基板，高反射部，其形成在所述基板上，低反射部，其形成在所述高反射部之上，且被刻画了图案；被刻画了图案的所述低反射部至少层叠一层以上；被刻画了图案的所述低反射部的至少一层是含有Sn和氧的层。
反射型光掩模型光掩模基板

[发明专利]反射型光掩模基板及其制造方法、反射型光掩模、半导体器件的制造方法-CN200680052132.2无效
发明人： 松尾正;金山浩一郎;田村信平 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2006-12-06 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：反射型光掩模基板(10)包括：衬底(1)、在衬底(1)上形成并反射曝光用光的多层反射膜(2)、在多层反射膜(2)上形成并保护多层反射膜(2)的保护膜(3)、在保护膜(3)上并吸收曝光用光的吸收体层(5)、在吸收体层(5)和保护膜(3)之间形成并对吸收体层(5)的曝光转印图案形成时进行的蚀刻有抗腐蚀性的缓冲膜(4)，保护膜(3)是含Zr和Si的化合物、或是含Zr和Si以及O或N中的至少任意一种的化合物、或是含Ru、C、或Y中的至少任意一种的单质或化合物。
反射型光掩模基板及其制造方法型光掩模半导体器件

[发明专利]反射型光掩模坯料、反射型光掩模及使用它的半导体装置的制造方法-CN200580042178.1有效
发明人：金山浩一郎;松尾正;西山泰史 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的目的在于提高通过观察DUV光的反射率对比度来进行用于EUV光刻法的反射型光掩模的图案检查时的精度。提供一种在基板(1)上层叠了多层反射膜(2)、光吸收性叠层(4)的反射型光掩模坯料，其中，通过在含有钽和硅的具有EUV光吸收能力的第1光吸收层(41)上层叠含有氮和氧中的至少一种、钽和硅的具有DUV光吸收能力的第2光吸收层(42)来构成光吸收性叠层(4)。
反射型光掩模坯料使用半导体装置制造方法

[发明专利]附支撑体的液晶放映用彩色偏振片及彩色液晶放映机-CN99814691.9有效
发明人：古桥繁树;松尾正;川边和幸 -专利权人：日本化药株式会社;日商宝来科技股份有限公司
申请日： 1999-12-17 - 公布日： 2002-01-16 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明开发了可用于蓝色波道(蓝色光用)的亮度和偏振光性能都较好的附支撑体的彩色偏振片。所述偏振片由含有作为双色性分子的芪类水溶性偶氮染料的偏振片和支撑体组成,所述偏振片在波长420～500nm范围内的单板平均透光率在39%以上,垂直交叉位置的平均透光率在0.4%以下,在波长650～780nm范围内的垂直交叉位置的平均透光率在4%以上。
支撑液晶放映彩色偏振放映机

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