专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半桥IGBT模块的芯片布局结构-CN201910589696.9有效
  • 潘政薇;李宇柱;姚二现;董长城;骆健 - 国电南瑞科技股份有限公司
  • 2019-07-02 - 2023-04-07 - H01L25/18
  • 本发明公开了一种半桥IGBT模块的芯片布局结构,包括上桥IGBT芯片和下桥IGBT芯片分别与FRD芯片通过键合线组实现芯片正面连接,栅极均位于IGBT芯片的左侧位置,上桥FRD芯片和下桥FRD芯片反面均焊接于上桥DCB衬底上;下桥IGBT芯片栅极均位于IGBT芯片的右侧位置,上、下半桥的IGBT芯片与FRD芯片分别关于模块呈中心对称分布。上、下半桥信号端子键合线的落点分别在上、下半桥的栅极信号铜层上,其落点位于在栅极信号铜层上的非相邻两颗IGBT芯片的栅极键合线落点的中间位置。通过仿真得出,本发明的三颗IGBT芯片的峰值电流差异率由30%降低至9.3%,使芯片的均流性能得到提升;芯片最大峰值电流的降低减小了开通电流对芯片的冲击,有利于芯片的长期稳定运行。
  • 一种igbt模块芯片布局结构
  • [发明专利]一种全封闭式IGBT沟槽栅结构-CN201911043146.3有效
  • 郑婷婷;李宇柱;李伟邦;骆健;董长城;叶枫叶;黄全全 - 国电南瑞科技股份有限公司
  • 2019-10-30 - 2022-11-04 - H01L29/423
  • 本发明公开了一种全封闭式IGBT沟槽栅结构,包括若干个排布的元胞区,元胞区包括两条相邻的有源沟槽,两条相邻的有源沟槽两端分别通过有源沟槽桥连形成第一封闭结构,第一封闭结构内具有两条相邻的虚拟沟槽,两条相邻的虚拟沟槽两端分别通过虚拟沟槽桥连形成第二封闭结构,第二封闭结构内形成浮空P阱区,将有源沟槽和虚拟沟槽分别设置为封闭结构,避免了单个尖端结构导致的电场集中问题,优化器件的性能,同时将虚拟沟槽设置为封闭结构,实现了虚拟沟槽内部浮空区的绝对浮空,增大了浮空区的空穴沿沟槽方向移动并从发射极排出的难度,使发射极与浮空区之间的电阻无穷大,抑制了浮空区电势因空穴排出而升高,避免引起输出曲线振荡,抑制IGBT的EMI噪声。
  • 一种封闭式igbt沟槽结构
  • [发明专利]一种绝缘栅双极型晶体管-CN201910644272.8有效
  • 李宇柱;郑婷婷;李伟邦;骆健;董长城 - 国电南瑞科技股份有限公司
  • 2019-07-17 - 2022-11-01 - H01L29/739
  • 本发明公开了功率半导体器件技术领域的一种绝缘栅双极型晶体管,旨在解决如何更加灵活地调整导通压降与关断损耗的折中关系,在保证饱和压降不增大的前提下,更好地优化开关损耗的技术问题。所述器件顶面开设有若干间隔分布的有源沟槽区和虚拟沟槽区,所述有源沟槽区包括不少于一个桥连和若干通过桥连连接的有源沟槽,所述P型阱区包括不少于一个被有源沟槽和桥连隔离形成的电位浮空的第二P型阱区,所述介质层开设有若干接触窗口,所述P型阱区还包括通过接触窗口与金属发射极导通连接的第一P型阱区。
  • 一种绝缘栅双极型晶体管
  • [发明专利]一种IGBT器件结构-CN201910643939.2有效
  • 郑婷婷;李宇柱;李伟邦;骆健;董长城 - 国电南瑞科技股份有限公司
  • 2019-07-17 - 2022-11-01 - H01L29/06
  • 本发明公开了功率半导体器件技术领域的一种IGBT器件结构,旨在解决现有技术中采用虚拟沟槽栅结构的IGBT器件关断时,沟槽区域下方积累的载流子浓度过低,导致器件的通态压降无法降低,以及随着虚拟沟槽的宽度被设计得越来越窄,增加了从虚拟沟槽多晶硅中间开出接触窗口难度的技术问题。所述器件顶面向下开设有若干间隔分布的有源沟槽和虚拟沟槽区,所述虚拟沟槽区包括不少于一个桥连和若干通过桥连连接的虚拟沟槽,所述介质层开设有接触窗口,所述P型阱区包括通过接触窗口与金属发射极连接的第一P型阱区和处于电位浮空状态的第二P型阱区。
  • 一种igbt器件结构
  • [发明专利]一种屏蔽栅型IGBT器件及其制造方法-CN202111325349.9在审
  • 王鑫;李宇柱;骆健 - 南瑞联研半导体有限责任公司
  • 2021-11-10 - 2022-03-25 - H01L29/739
  • 本发明公开了一种屏蔽栅型IGBT器件及其制造方法,包括:形成于第一掺杂类型的半导体衬底中的若干沟槽结构,沟槽结构包括顶部沟槽和深沟槽,顶部沟槽位于深沟槽两侧;顶部沟槽内设有栅介质层并填充多晶硅栅;深沟槽的底部表面和侧面形成有所述源极介质层,在深沟槽中填充下段多晶硅和若干间隔的上段多晶硅,上段多晶硅和下段多晶硅之间设置源极介质层、若干上段多晶硅之间也设置源极介质层;顶部沟槽)内的多晶硅栅通过第一接触孔连接到栅极;深沟槽内的上段多晶硅通过第二接触孔连接到发射极或栅极。优点:通过在深沟槽自由选择将上段多晶硅电性连接至栅极或者发射极,使得该器件的各极间电容调节非常灵活,能够使得器件的EMI有效降低。
  • 一种屏蔽igbt器件及其制造方法
  • [实用新型]一种IGBT沟槽栅排布结构-CN202023214251.X有效
  • 叶枫叶;李宇柱;郑婷婷;李伟邦;骆健;董长城 - 南瑞联研半导体有限责任公司
  • 2020-12-28 - 2021-08-20 - H01L29/739
  • 本实用新型公开了半导体器件技术领域的一种IGBT沟槽栅排布结构,旨在解决现有技术中输入电容和米勒电容较小,沟道电流分布不均导致小电流开通过程中发生栅极振荡的技术问题。在衬底的一个表面上依次设置有介质层和发射极金属;在衬底朝向介质层的表面上设置若干个有源沟槽栅和虚拟沟槽栅,且在相邻两个虚拟沟槽栅之间连续设置两个有源沟槽栅;在相邻两个有源沟槽栅之间依次设有P+接触区、P型阱区和N型CS层,P+接触区位于介质层一侧;在有源沟槽栅和虚拟沟槽栅之间依次设有N+发射区、P型阱区和N型CS层,N+发射区位于介质层一侧;每个P+接触区和每个N+发射区分别通过设置在介质层上的与P+接触区和N+发射区一一对应的接触窗口与发射极金属导通。
  • 一种igbt沟槽排布结构

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