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[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法-CN202310203680.6在审
发明人：金炯式;朴种熙;朴弘植;曹雨辰 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H10K59/12 文献下载
摘要：本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法。该显示装置包括：基底；薄膜晶体管，设置在基底上，并且包括半导体层；层间绝缘层，设置在薄膜晶体管上；数据导电层，设置在层间绝缘层上，并且包括辅助电极和连接到薄膜晶体管的半导体层的晶体管电极；通孔层，设置在数据导电层上；像素电极层，设置在通孔层上，并且包括：像素电极和与像素电极分开的虚设像素电极；中间层，设置在像素电极层上；以及公共电极，设置在中间层上。辅助电极包括主导电层和上部子导电层。辅助电极的主导电层的侧表面设置为比辅助电极的上部子导电层的侧表面靠内。
显示装置制造方法

[发明专利]包括柔性显示器的电子装置-CN201980025577.9有效
发明人：金正真;金基大;朴正植;朴弘植;罗孝锡;崔锺哲 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：公开了一种包括柔性显示器的电子装置。电子装置可以包括：第一结构；包括第一板，第一板包括第一表面和面向与第一表面相反的方向的第二表面；第二结构，包括面向第一板的第二表面的第二板和从第二板延伸的第一侧壁；柔性触摸屏显示器；以及设置在第一结构和第二结构之间的相机装置。
包括柔性显示器电子装置

[发明专利]蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法-CN201810631619.0有效
发明人：郑钟铉;朴弘植;梁熙星;金奎佈;申贤哲;李秉雄;李相赫;李大雨 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
蚀刻组合以及使用制造金属图案薄膜晶体管方法

[发明专利]蚀刻剂组合物及使用其制造金属图案和薄膜晶体管衬底的方法-CN201811019029.9有效
发明人：梁熙星;朴弘植;郑锺鉉;金相佑;李大雨 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：提供了蚀刻剂组合物，包含10wt％至20wt％的过氧化氢、0.1wt％至2wt％的基于唑的化合物、0.1wt％至10wt％的无机酸化合物、0.1wt％至5wt％的水面稳定剂、0.01wt％至0.1wt％的氟化物、0.1wt％至10wt％的基于硫酸盐的化合物以及以使得所述蚀刻剂组合物的总重量为100wt％的量包含的水。根据本发明构思的实施方案的蚀刻剂组合物可以用于蚀刻含铜和钼‑钛合金的金属膜以形成金属图案，或者用于制造薄膜晶体管衬底。
蚀刻组合使用制造金属图案薄膜晶体管衬底方法

[发明专利]基板、包括基板的显示设备和制造显示设备的方法-CN201711055728.4有效
发明人：郑钟铉;朴弘植;姜胜培;金基泰;裵俊佑;梁熙星 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-11-01 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供了一种基板、包括基板的显示设备和制造显示设备的方法。显示设备包括第一基板、面向第一基板的第二基板以及布置在第一基板和第二基板之间液晶层。第一基板和第二基板中的一个包括基底基板和光阻挡图案，光阻挡图案被布置在基底基板的两个表面中面向另一表面的一个表面上，光阻挡图案暴露基底基板的部分。光阻挡图案包括布置在基底基板上的半透反射层、布置在半透反射层上的相位匹配层以及布置在相位匹配层上的反射金属层。相位匹配层和反射金属层包括具有基本相同的蚀刻率的材料。
基板包括显示设备制造方法

[发明专利]显示装置-CN202111293346.1在审
发明人：俞炳汉;朴弘植;李基准;林奭炫;赵炫珉;李大荣 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：提供了显示装置，该显示装置包括：显示层，该显示层包括有效区和邻近有效区的外周区；生物特征信息传感层；该生物特征信息传感层设置在显示层下方并且包括传感器；和光学图案层，该光学图案层设置在生物特征信息传感层和显示层之间的光学图案平面上并且包括阻光部件和比阻光部件具有更高的透光率的透射部件，其中阻光部件的上表面为凹面，并且远离光学图案平面凹陷。
显示装置

[发明专利]蚀刻液组合物及利用该组合物的金属布线的制造方法-CN201711082676.X有效
发明人：裵俊佑;朴弘植;金奎佈;申贤哲;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：根据本发明的一个实施例提供一种蚀刻液组合物及利用该组合物的金属布线的制造方法，蚀刻液组合物包含：8重量％至20重量％的过硫酸盐系化合物；从0.1重量％至5重量％的1‑氮系环型化合物、0.05重量％至1重量％的3‑氮系环型化合物及这些化合物的混合物中选择的1种以上的氮系环型化合物；0.1重量％至1重量％的氟系化合物；0.1重量％至1重量％的铜腐蚀防止化合物；以及余量的水。
蚀刻组合利用金属布线制造方法

[发明专利]一种图案化的金属导线和基板的组合-CN201810026111.8有效
发明人： 朴弘植;李旺宇;金俸均;郑钟铉;林永祐;金奎布;徐源国;申贤哲;韩筵昊;李骐范;曹三永 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-06-26 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：一种图案化的金属导线和基板的组合，所述基板具有在其上形成的所述金属导线，所述金属导线包括：包含铟和锌的氧化物层；以及铜基层，设置在所述包含铟和锌的氧化物层之上或之下，其中，所述包含铟和锌的氧化物层的氧化锌量等于或高于按重量计10％并且低于按重量计约35％。用于蚀刻铜基配线层的湿法蚀刻组合物，包含按重量计约40％至按重量计约60％之间的磷酸、按重量计约1％至按重量计约10％之间的硝酸、按重量计约3％至按重量计约15％之间的乙酸、按重量计约0.01％至按重量计约0.1％之间的铜离子化合物、按重量计约1％至按重量计约10％之间的硝酸盐、按重量计约1％至按重量计约10％之间的乙酸盐，和余量的水。
一种图案金属导线组合

[发明专利]激光二极管、光集成装置及其制造方法-CN202080055424.1在审
发明人：崔武汉;金仁普;朴弘植 -专利权人：庆北大学校产学协力团
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： H01S5/40 文献下载
摘要：一种光集成装置可以包括：基底；第一激光二极管，设置在基底上并且以横磁模(TM模)振荡；以及第二激光二极管，设置在基底上并且以横电模(TE模)振荡，其中，第一激光二极管包括圆盘形的第一主体以及穿透第一主体的通孔。
激光二极管集成装置及其制造方法

[发明专利]显示装置-CN202110817893.9在审
发明人：白炅旼;申铉亿;李周炫;朴弘植 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G09G3/32 文献下载
摘要：提供了一种显示装置，所述显示装置包括：基底；数据线，在基底上；第一绝缘层，在数据线上；第一晶体管，在第一绝缘层上；第二绝缘层，在第一晶体管上；像素电极，在第二绝缘层上，像素电极电连接到第一晶体管；以及辅助数据图案，在第二绝缘层上，与像素电极在同一层上，辅助数据图案电连接到数据线。
显示装置

[发明专利]蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法-CN201711043223.6有效
发明人：梁熙星;朴弘植;郑锺铉;金奎佈;申贤哲;李秉雄;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C23F1/20 文献下载
摘要：本发明的一实施例提供一种蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法，所述蚀刻液组合物相对于总重量包括：磷酸，50至70重量％；硝酸，0.5至5重量％；氯化物，0.1至1重量％；磺酸化合物，0.5至5重量％；以及水，20至40重量％。
蚀刻组合以及有机发光显示装置制造方法

[发明专利]蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法-CN201711373532.X有效
发明人：金俸均;郑在祐;朴弘植;金奎佈;申贤哲;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法。一实施例所涉及的蚀刻液组合物包含8重量％至20重量％的过硫酸盐、0.1重量％至10重量％的磷酸或亚磷酸、0.1重量％至5重量％的磷酸盐化合物、0.1重量％至6重量％的单氮类环状化合物、0.1重量％至5重量％的磺酸类化合物、0.1重量％至2重量％的唑类化合物及余量的水，所述唑类化合物与所述单氮类环状化合物的含量比为1:1至1:2。
蚀刻组合使用薄膜晶体管显示面板制造方法

[发明专利]制造导电图案的方法、显示装置及制造显示装置的方法-CN202110187862.X在审
发明人：金载运;朴弘植;郑锺铉 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：公开了制造导电图案的方法、显示装置及制造显示装置的方法。所述制造导电图案的方法包括：在基底上形成导电金属材料层和导电覆盖材料层；在导电覆盖材料层上形成作为蚀刻掩模的光致抗蚀剂图案；通过使用第一蚀刻剂对导电覆盖材料层进行蚀刻来形成第一导电覆盖图案；通过使用第二蚀刻剂对导电金属材料层和第一导电覆盖图案进行蚀刻来形成导电金属层和第二导电覆盖图案；以及通过使用第三蚀刻剂对第二导电覆盖图案进行蚀刻来形成导电覆盖层。第二导电覆盖图案包括与导电金属层叠置的第一区域以及与导电金属层不叠置的第二区域，并且导电覆盖层的形成步骤包括对第二导电覆盖图案的第二区域进行蚀刻以形成导电覆盖层。
制造导电图案方法显示装置

[发明专利]蚀刻剂组合物及使用其制造薄膜晶体管基板的方法-CN201610213008.5有效
发明人：安守民;金荣俊;朴弘植;鞠仁说;朴英哲;刘仁浩;李承洙;李钟文;林大成 -专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
申请日： 2016-04-07 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：一种蚀刻剂组合物，基于所述蚀刻剂的总重量，所述蚀刻剂组合物包含：约0.5wt％至约20wt％的过硫酸盐、约0.01wt％至约2wt％的含氟化合物、约1wt％至约10wt％的无机酸、约0.5wt％至约5wt％的环胺化合物、约0.1wt％至约5wt％的含氯化合物、约0.1wt％至约10wt％的脂族磺酸、约1wt％至约20wt％的有机酸或有机酸盐、和水。
蚀刻组合使用制造薄膜晶体管方法

[发明专利]显示装置-CN202010994503.0在审
发明人：白炅旼;李周炫;金载运;朴弘植;申铉亿 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L23/492 文献下载
摘要：本公开涉及一种显示装置，包括：基板，包括显示区域和焊盘区域；第一导电层，位于基板上；第一绝缘膜，位于第一导电层上，第一绝缘膜具有第一接触孔和焊盘开口，第一接触孔位于显示区域中以暴露第一导电层，焊盘开口在焊盘区域中暴露第一导电层，第一导电层被布置为使得：在被第一绝缘膜覆盖的第一区域中，第一导电层的第二导电覆层完全地位于第一导电层的第一导电覆层上；在与第一接触孔交叠的第二区域中，第二导电覆层完全地位于第一导电覆层上；并且在由焊盘开口暴露的第三区域中，第一导电覆层的至少一部分不被所述第二导电覆层覆盖。
显示装置

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