专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光基板及显示装置-CN202180002797.7在审
  • 徐文结;何敏;谢晓冬;庞斌;桑华煜;张新秀;赵雪;王静 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司
  • 2021-09-29 - 2023-08-01 - H01L27/15
  • 一种发光基板(100)及显示装置。发光基板(100)包括发光区(110)和边框区(160)。发光基板(100)包括衬底(10)、位于衬底(10)上的多个发光单元(102)和多条信号线(30)。发光单元(102)位于发光区(110),包括驱动电路(103)及至少一个发光元件(104)。多个发光单元(102)沿第一方向(D1)布置成M行且沿与第一方向(D1)交叉的第二方向(D2)布置成N列。多条信号线(30)包括沿第一方向(D1)延伸的N条目标信号线(31);边框区(160)包括发光基板(100)位于第一列发光单元(101)外侧的区域、位于第N列发光单元(101)外侧的区域和位于第一行发光单元外侧的区域。第一列发光单元(101)和/或第N列发光单元(101)的目标信号线(31)包括顺次连接的第一延伸段(311)、连接段(312)及第二延伸段(313),第一延伸段(311)与驱动电路(103)相连且位于边框区(160),第一延伸段(311)、连接段(312)及第二延伸段(313)围合形成容纳区,包围至少两组发光单元(102)。
  • 发光显示装置
  • [发明专利]一种基于约束非负矩阵分解的高光谱解混方法-CN202011465565.9有效
  • 郭宝峰;贾响响;丁繁昌;刘宝洋;迟昊宇;徐文结 - 杭州电子科技大学
  • 2020-12-14 - 2022-12-30 - G01N21/25
  • 本发明公开一种基于约束非负矩阵分解的高光谱解混方法,包括步骤:S1、将丰度矩阵的稀疏性约束、丰度图的平滑性约束、端元的平滑性约束整合到NMF方法的目标函数中,以得到所需的整体目标函数;S2、初始化端元矩阵A、丰度矩阵S、辅助矩阵L和权重矩阵W;S3、对端元矩阵A、丰度矩阵S、辅助矩阵L和权重矩阵W进行迭代更新求解,并判断是否达到终止条件,若未达到则利用更新后的结果继续进行迭代更新,若达到则停止迭代并输出最终的端元矩阵以及丰度矩阵。本发明结合高光谱数据特点,引入端元平滑性约束、丰度稀疏性约束、丰度平滑约束,以限制解的范围,获得更符合真实数据的解,减少解混误差。相比其他传统方法,在端元提取和丰度估计方面都取得了较好结果。
  • 一种基于约束矩阵分解光谱方法

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