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[发明专利]有机电致发光器件-CN201280074166.7有效
发明人：黑田和男;工藤秀雄;大畑浩;内田敏治;田中洋平 -专利权人：日本先锋公司
申请日： 2012-06-20 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： H05B33/22 文献下载
摘要：一种有机EL器件，其包括设置在透光性基板上的至少一个绝缘堤岸、与堤岸相接触的透光性电极、包含发光层并形成在透光性电极上的有机层、以及形成在有机层上的反射电极。堤岸由具有等于或小于有机层的折射率的低折射率的透光性介电材料制成。堤岸具有作为相对于透光性基板倾斜的斜面的侧面，并且侧面具有从与发光层相接触的斜面到与有机层的在反射电极附近的一部分相接触的斜面朝向所述发光层的凹面形状。
有机电致发光器件

[发明专利]双面研磨装置用载具、使用此载具的双面研磨装置及双面研磨方法-CN200980132351.5有效
发明人：佐藤一弥;上野淳一;小林修一;工藤秀雄 -专利权人：信越半导体股份有限公司
申请日： 2009-07-23 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种双面研磨装置用载具，其特征在于，至少具备：载具母体，其配设在粘贴有研磨布的上下方磨盘之间，并形成有用于在研磨时对夹持于上述上下方磨盘之间的上述芯片进行保持的保持孔；环状树脂环，其沿此载具母体的保持孔内周而配置，与上述所保持的芯片的倒角部相接，以保护此倒角部；上述树脂环的内周具有凹状的槽，形成在该凹槽内的上下斜面与上述芯片的倒角部以剖面点接触的方式相接而保持上述芯片。这样，可提供双面研磨装置用载具、使用此载具的双面研磨装置及双面研磨方法，既可抑制因研磨布蠕动变形而造成的芯片外周塌边的产生，又可通过在研磨中使芯片自转来降低研磨面斜度的产生，从而提高平坦度。
双面研磨装置用载具使用方法

[发明专利]半导体基板及半导体装置-CN200880110286.1有效
发明人：大见忠弘;寺本章伸;诹访智之;黑田理人;工藤秀雄;速水善范 -专利权人：国立大学法人东北大学;信越半导体株式会社
申请日： 2008-10-06 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体基板及半导体装置，在半导体基板表面按原子台阶形成阶梯状的多个平台实质上沿同一方向形成。并且，使用该半导体基板，以在载流子移动方向(源极-漏极方向)不存在台阶的方式形成MOS晶体管。
半导体装置

[发明专利]切断方法及线锯装置-CN200880006116.9有效
发明人：大石弘;北川幸司;工藤秀雄 -专利权人：信越半导体股份有限公司
申请日： 2008-01-24 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： B24B27/06 文献下载
摘要：本发明是一种切断方法，是将钢线卷绕于多个附凹沟滚筒，一边供给切断用浆液至该附凹沟滚筒，一边使上述钢线行进地压抵晶棒，将其切断成芯片状的方法，其特征在于：切断上述晶棒时，测定于轴方向变化的晶棒的位移量，然后对应该测定的晶棒的轴方向的位移量，来控制上述附凹沟滚筒的轴方向的位移量，以此，一边控制相对于在上述轴方向变化的晶棒的全长的上述钢线的相对位置，一边切断晶棒。以此，提供一种切断方法与线锯装置，控制晶棒的切断轨迹，可降低例如被切断后的芯片的弯曲度和翘曲度等，特别是可切断成平坦状。
切断方法装置

[发明专利]多色成形体、多色成形法及基板收纳容器-CN200780044333.2有效
发明人： 工藤秀雄;山岸裕树 -专利权人：信越半导体株式会社;信越聚合物株式会社
申请日： 2007-11-14 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： B29C45/16 文献下载
摘要：提供可从性能的观点出发适当地组合多种成形材料的多色成形体、多色成形法及基板收纳容器。在准备材质互异的第一、第二成形材料，将由第一成形材料构成的一对第一成形体(1)和由第二成形材料构成的第二成形体(3)组合为一体时，各第一成形体(1)和第二成形体(3)的边界(6)的周缘部形成为薄型突片(5)。而且，薄型突片(5)形成为向前端部逐渐变尖的薄型的剖面呈大致直角三角形，尖头的倾斜角度(θ)在5°～40°的范围内，且形成边界(6)的倾斜面(7)的长度(L)为0.4～5.0mm。若使第一、第二成形体(1、3)的边界(6)的周缘部与薄型突片(5)形成为一体，就可以适当且强固地将其组合，因此无需从接合的观点出发再考虑组合。
多色成形收纳容器

[发明专利]一次写入型光记录介质-CN03136403.9无效
发明人：细田康雄;神野智施;三森步美;工藤秀雄 -专利权人：先锋株式会社
申请日： 2003-05-15 - 公布日： 2003-12-10 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种非晶态记录标记类型的相变光记录介质。该光记录介质是一种一次写入型介质，能够减小已经被记录的信息信号的劣化。根据本发明的光记录介质的记录层包括第一记录层和第二记录层。第一记录层包括第一构成，该第一构成可以通过与第二记录层中包含的成分相结合，改变成另一个在非晶态下更稳定的构成。
一次写入记录介质