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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置-CN201710059370.6有效
  • 坂下健司;矶明典 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2017-01-24 - 2021-04-09 - G02F1/1333
  • 本发明提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备：处理室(10)，具有作为顶棚起作用的顶棚罩(11)；以及槽(12)，设置在该处理室(10)内，承接从顶棚罩(11)落下的液滴。顶棚罩(11)形成为具有山部和谷部的形状，顶棚罩(11)的谷部沿着一个方向延伸，槽(12)被设置为沿着谷部的延伸方向延伸。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201710047899.6有效
  • 坂下健司;矶明典 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2017-01-20 - 2020-09-04 - H01L21/67
  • 本发明提供能够抑制污点的产生的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备具有多个顶板(11a)的处理室(10)。各顶板(11a)设置为，层叠成瓦状并倾斜，在倾斜方向上邻接的两个顶板(11a)中的、高位置的顶板(11a)的低侧的端部(B1)覆盖低位置的顶板(11a)的高侧的端部(B2)，在低侧的端部(B1)与高侧的端部(B2)之间产生间隙。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610046871.6有效
  • 高原龙平;西部幸伸;矶明典;坂下健司;松田大辉 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2016-01-25 - 2018-10-26 - H01L21/02
  • 一种基板处理装置，能够抑制基板的抖动以及输送偏移。基板处理装置(1)具备：在处理室(2)内以夹着输送路(H)的方式在输送路的上下分别设置，分别朝输送路吹送气体的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及设置在处理室内并对气体的流动进行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器设置成分别具有长条状的吹出口(13)，吹出口的长度方向在水平面内相对于基板(W)的输送方向(Ha)朝相同的方向倾斜，吹出口朝基板的输送方向的上游侧吹出气体。整流板设置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于输送路的下方且朝基板的输送方向的下游侧倾倒，将气体的流动分成沿着第1面的流动和沿着第2面的流动。
  • 处理装置
  •  1 
  • 共 4 条
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