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- [发明专利]曝光系统、光刻机及曝光方法-CN202011126454.5在审
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侯宝路;周畅
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2020-10-20
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2022-04-22
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G03F7/20
- 本发明提供的曝光系统包括依次设置的灯室结构、耦合镜组、匀光单元、中继镜组和投影物镜;所述曝光系统还包括光阑和/或所述灯室结构具有快门,所述光阑设置于所述快门后方或所述中继镜组的孔径光阑位置;所述灯室结构用于提供光束,所述光束经所述耦合镜组、匀光单元、中继镜组传输至所述投影物镜,通过平滑调整所述光阑的口径或所述快门的口径以衰减所述光束,实现所述曝光系统的能量的连续衰减。进一步的,所述耦合镜组还包括变焦切换组件,通过平滑调整变焦切换组件配合平滑调整所述光阑或者所述快门的孔径,可以实现能量连续衰减的同时,保证所述曝光系统的光学性能不变。
- 曝光系统光刻方法
- [发明专利]一种应用于建筑工程造价预算的辅助装置-CN202011545906.3有效
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何畏;周畅
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重庆工程职业技术学院
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2020-12-24
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2022-03-29
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F16M11/04
- 本方案属于建筑工程技术领域,公开了一种应用于建筑工程造价预算的辅助装置。包括测绘仪和支架;还包括箱体,所述箱体内设有防摔机构,所述防摔机构包括充气瓶和第一气囊,所述充气瓶内设有压缩气体,所述充气瓶上设有阀门,所述箱体上端包括与测绘仪连接的第一板块和位于第一板块四周的第二板块,所述第一板块和第二板块之间设有间隙,所述第一气囊设在间隙内;所述第一气囊的开口处与充气瓶的瓶口处密封连接;所述第一气囊充气状态从间隙中露出的长度比测绘仪长。本方案通过引入箱体、充气瓶和气囊,可在测绘仪摔倒过程迅速对气囊充气,为测绘仪形成保护,防止测绘仪因为摔坏而延误工期后者造成测量数据不准确而造成不必要的损失。
- 一种应用于建筑工程造价预算辅助装置
- [发明专利]测量校正装置和测量校正方法-CN201911011711.8有效
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宋涛;徐兵;周畅;李煜芝
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2019-10-23
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2022-03-25
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G01D18/00
- 本发明公开了一种测量校正装置和测量校正方法。该测量校正装置包括:承载单元、基准单元、测量单元以及处理单元;承载单元包括朝向测量单元一侧的承载面,承载面包括第一区域以及包围第一区域的第二区域,第一区域用于承载待测样品,第二区域用于承载基准单元;基准单元固定于承载单元的第二区域;基准单元包括多个定位标记,定位标记在承载面内具有理论位置信息;测量单元用于测量至少部分定位标记在承载面的实际位置信息,并将实际位置信息传输至处理单元;处理单元用于根据实际位置信息和理论位置信息得到定位标记的位置校正信息。本发明的技术方案可减小测量校正误差,有利于精确校正,从而提高位置信息的测量精度。
- 测量校正装置方法
- [发明专利]一种掩模制作装置及制作方法-CN201911008393.X有效
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周畅;黄元昊;罗闻
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2019-10-22
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2022-03-15
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C23C14/04
- 本发明公开一种掩模制作装置,包括:张网模块,用于拉伸掩模,并将所述掩模传送至掩模框架上;掩模检测模块,用于检测所述掩模条在所述掩模框架上的位置信息;掩模固定模块,用于将所述掩模固定在所述掩模框架上;第一位移测量模块,用于测量所述张网模块和所述掩模固定模块的位置信息。通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息,进而可以更精确的获取掩模的实际位置,从而通过调整张网模块的拉伸和位移,使掩模更精确的移动到预设的位置,从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度;以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息,提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度,从而提高了金属掩模版的制作精度。
- 一种制作装置制作方法
- [实用新型]一种模块化可调擦窗器-CN202120499374.8有效
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周畅
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周畅
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2021-03-09
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2022-03-11
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A47L1/06
- 本实用新型公开了一种模块化可调擦窗器,包括拼接式支架,所述拼接式支架是由多个拼接块通过弹性连接件依次首尾相连构成,所述拼接式支架上侧固定安装有定位伸缩把手,所述拼接块的下侧开设有胶条安装槽,且固定安装于拼接块侧壁上的支撑块上贯穿开设有胶条容置槽,胶条组件的一端穿过胶条安装槽插入端部拼接块内侧的胶条容置槽内,所述拼接式支架下侧固定设置有两块底板,所述底板上铺设有棉布片,两块所述底板分别与拼接式支架两端的拼接块底部固定连接。该擦窗器,通过拉动拼接式支架,拼接块相互远离,整体机构伸长,两块棉布片错位,胶条组件从胶条容置槽向胶条安装槽滑动,从而适应不同长度的窗体,增强适用性。
- 一种模块化可调擦窗器
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