专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]冷却板、冷却模块及工艺系统-CN202011169939.2在审
  • 黄一原;刘镒诚;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2020-10-28 - 2022-04-29 - C23C14/54
  • 一种工艺系统,配置来对工件进行工艺,包含工站,包括入口端及出口端,经配置以自该入口端接收所述工件,并由该出口端将所述工件移出该工站;回流设备,包括设置在该工站外的回流轨道,所述回流轨道经配置以使所述工件自所述出口端移动到所述入口端移动;及冷却模块,设于所述回流轨道且与外界环境流体连通。所述冷却模块包括:冷却板,具有经配置以接触所述工件的冷却面;及液态界面生成模块,设于所述冷却板,且经配置以在所述冷却面及所述工件之间生成液态界面。
  • 冷却模块工艺系统
  • [实用新型]冷却板、冷却模块及工艺系统-CN202022437973.5有效
  • 黄一原;刘镒诚;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2020-10-28 - 2021-09-21 - C23C14/54
  • 一种工艺系统,配置来对工件进行工艺,包含工站,包括入口端及出口端,经配置以自该入口端接收所述工件,并由该出口端将所述工件移出该工站;回流设备,包括设置在该工站外的回流轨道,所述回流轨道经配置以使所述工件自所述出口端移动到所述入口端移动;及冷却模块,设于所述回流轨道且与外界环境流体连通。所述冷却模块包括:冷却板,具有经配置以接触所述工件的冷却面;及液态界面生成模块,设于所述冷却板,且经配置以在所述冷却面及所述工件之间生成液态界面。
  • 冷却模块工艺系统
  • [发明专利]镀膜用磁性承载装置-CN201610939604.1有效
  • 叶崇宇;苏晖家;叶承朋;颜嘉宏;黄琬瑜;卢木森;黄一原 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2016-11-01 - 2019-05-17 - C23C14/50
  • 一种镀膜用磁性承载装置,是用来承载至少一待镀物,其包含一个基座、一个导磁单元,及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面,并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本发明中,该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。本发明于该镀膜用磁性承载装置内引入该导磁单元,使该导磁单元与该磁性单元间距有一高度差,令该导磁单元的各凸柱顶面的高度大于该磁性单元的顶面高度,以借此消除该磁性单元所产生的磁场总量中的垂直分量的磁场,并有效地贡献出水平分量的磁场。
  • 镀膜磁性承载装置
  • [实用新型]镀膜用磁性承载装置-CN201621163994.X有效
  • 叶崇宇;苏晖家;叶承朋;颜嘉宏;黄琬瑜;卢木森;黄一原 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2016-11-01 - 2017-09-08 - C23C14/50
  • 一种镀膜用磁性承载装置,是用来承载至少一待镀物,其包含一个基座、一个导磁单元,及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面,并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本实用新型中,该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。本实用新型于该镀膜用磁性承载装置内引入该导磁单元,使该导磁单元与该磁性单元间距有一高度差,令该导磁单元的各凸柱顶面的高度大于该磁性单元的顶面高度,以借此消除该磁性单元所产生的磁场总量中的垂直分量的磁场,并有效地贡献出水平分量的磁场。
  • 镀膜磁性承载装置
  • [发明专利]自冷式移动式镀膜承载盘-CN201510008257.6有效
  • 叶崇宇;苏晖家;叶承朋;张倧伟;黄一原;黄琬榆;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2015-01-08 - 2017-06-13 - C23C14/50
  • 本发明提供一种自冷式移动式镀膜承载盘,包含一载盘单元,及一相变化物质。该载盘单元内部形成有一密闭空间。该相变化物质填置于该载盘单元的密闭空间中。该相变化物质能自该载盘单元吸收一热能,以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热,且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。借由该相变化物质本身于相变过程所需的熔解潜热,以自该载盘单元吸收该热能,能带走于溅镀过程中累积在待镀物上的高温热能,以借此提升散热效果并从而改善镀膜质量。
  • 移动式镀膜承载
  • [实用新型]用于生产线的可移动式载盘装置-CN201621038667.1有效
  • 叶承朋;苏晖家;叶崇宇;张倧伟;黄一原;黄琬瑜;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2016-09-06 - 2017-03-22 - H01L21/673
  • 一种用于生产线的可移动式载盘装置,是用于承载一待处理基板并于一生产线中的一传送机构上移动,其包含一金属承板、一电极板及一绝缘单元。该金属承板能移动地位于该传送机构上并包括一穿孔。该电极板设置于该金属承板的上方并供承载该待处理基板。该电极板具有一面向该金属承板的穿孔且裸露于该金属承板的穿孔外的电源载入区。该绝缘单元设置于该金属承板上且夹置于该金属承板与该电极板间,并围绕该电极板的一周缘及该待处理基板的一周缘。该绝缘单元具有至少一与该金属承板的穿孔相通并裸露出该电极板的电源载入区的穿孔。借金属承板及绝缘单元令待处理基板于实施等离子蚀刻程序时,辅助等离子横越待处理基板上表面以增进其表面处理的均匀性。
  • 用于生产线移动式装置
  • [发明专利]用于生产线的可移动式载盘装置-CN201610803606.8在审
  • 叶承朋;苏晖家;叶崇宇;张倧伟;黄一原;黄琬瑜;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2016-09-06 - 2016-11-16 - H01L21/673
  • 一种用于生产线的可移动式载盘装置,是用于承载一待处理基板并于一生产线中的一传送机构上移动,其包含一金属承板、一电极板及一绝缘单元。该金属承板能移动地位于该传送机构上并包括一穿孔。该电极板设置于该金属承板上方并供承载该待处理基板。该电极板具有一面向该金属承板的穿孔且裸露于该金属承板的穿孔外的电源载入区。该绝缘单元设置于该金属承板上且夹置于该金属承板与该电极板间,并围绕该电极板的一周缘及该待处理基板的一周缘。该绝缘单元具有至少一与该金属承板的穿孔相通并裸露出该电极板的电源载入区的穿孔。借金属承板及绝缘单元令待处理基板于实施等离子蚀刻程序时,辅助等离子横越待处理基板上表面以增进其表面处理的均匀性。
  • 用于生产线移动式装置
  • [实用新型]极间式靶材阴极装置-CN201620312480.X有效
  • 叶崇宇;苏晖家;叶承朋;颜嘉宏;黄琬瑜;卢木森;黄一原 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2016-04-14 - 2016-09-21 - C23C14/35
  • 一种极间式靶材阴极装置,包含一个主要磁铁单元、一个靶材及一个辅助磁铁单元。主要磁铁单元包括一个外环磁铁组件与一个具反向延伸的两个端缘的内磁铁组件。靶材设于外环磁铁组件与内磁铁组件间且具一个溅射面及一个相反于溅射面的背面,并包括两个各具反向延伸的第一端缘与第二端缘的主体部与至少一个弯曲部。主体部的第一端缘与第二端缘互相对应,且弯曲部连接于主体部的第一端缘或第二端缘。辅助磁铁单元与靶材间隔设置且相对溅射面靠近背面,并包括至少一个间隔设置于内磁铁组件的该两个端缘中的一者与外环磁铁组件间以邻近弯曲部的第一辅助磁铁组件,令垂直溅射面的磁场强度均匀分布。
  • 极间式靶材阴极装置
  • [发明专利]双门闸阀装置及具双门闸阀装置的镀膜设备-CN201510160155.6在审
  • 黄一原;卢木森;陈文隆 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2015-04-07 - 2015-09-23 - C23C14/56
  • 一种双门闸阀装置包含一个基座、两个闸门单元,及一个输送单元。该基座包括一个环腔壁、一个位于该环腔壁一端且具有一个入阀口的入口端壁、一个位于该环腔壁另一端且具有一个出阀口的出口端壁、一个介于该入口端壁与该出口端壁之间且具有一个间阀口的间隔壁,及一个抽气孔。该环腔壁、该入口端壁与该间隔壁共同界定出一个缓冲腔。该环腔壁、该间隔壁与该出口端壁共同界定出一个衔接腔。所述闸门单元分别对应设置于该缓冲腔内与该衔接腔内,且分别用于启闭该入阀口与该间阀口,产生双重隔离的效果,此外,该入口端壁与该出口端壁的距离不大于500mm,使设备成本得以降低。
  • 闸阀装置具双门镀膜设备
  • [实用新型]磁性靶材装置-CN201520313048.8有效
  • 叶崇宇;苏晖家;叶承朋;张倧伟;黄琬瑜;卢木森;黄一原 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2015-05-15 - 2015-09-16 - C23C14/35
  • 一种磁性靶材装置,包含一个由非磁性金属制成的背板,及一个由磁性金属制成的溅镀靶。该溅镀靶包括一个设置于该背板的基底面、一个相反于该基底面的轰击面,及至少一个由该轰击面贯通至该基底面的导磁通道,该基底面至该轰击面的直线距离能定义一个靶材厚度,该导磁通道包括一个由该轰击面朝该背板方向延伸的第一导磁段、一个连通该第一导磁段并与该第一导磁段形成一个第一夹角延伸的第二导磁段,及一个连通该第二导磁段并与该第二导磁段形成一个第二夹角地朝该背板延伸的第三导磁段,该第二导磁段具有一个延伸长度,该延伸长度与该靶材厚度的比值不小于0.3且不大于1。
  • 磁性装置
  • [发明专利]具有载盘冷却功能的镀膜系统-CN201510010395.8在审
  • 叶承朋;苏晖家;叶崇宇;张倧伟;黄一原;黄琬榆;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2015-01-09 - 2015-08-05 - C23C14/56
  • 一种具有载盘冷却功能的镀膜系统,包含一包括一盘本体与一填置于盘本体中的相变化物质的载盘、一镀膜站、一回流装置及一冷却装置。镀膜站包括一入口端与一出口端,载盘能自入口端进入镀膜站中以进行一镀膜制程。回流装置包括一设置在镀膜站外的传送单元。相变化物质能自盘本体吸收一在镀膜制程中所累积的热能,以作为至少部分的相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热,且相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间。冷却装置能自相变化物质吸收热能,以令至少部分的相变化物质自液态凝固成固态。借由载盘的改良及相变化物质本身所需的熔解潜热以提升镀膜质量,另外利用冷却装置解决镀膜系统中的散热问题。
  • 具有冷却功能镀膜系统
  • [实用新型]凹型溅镀装置-CN201420368398.X有效
  • 黄一原;沈定宇;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2014-07-04 - 2014-11-19 - C23C14/35
  • 一种凹型溅镀装置包含一个外壳座单元、一个设于外壳座单元中且呈凹型的冷却载座、一个磁石组、一个阴极靶及一个安装于外壳座单元的进出水管组,冷却载座包括一个本体、一个设置于本体且供磁石组设置的磁石容置槽组、一个设置于本体的冷却流道及一个承载面,承载面具一个平坦中段及两个自中段二侧以倾角延伸的倾斜段,阴极靶固设于承载面并包括一个叠置于中段的中央靶材,及两个叠置于倾斜段的倾斜靶材,进出水管组用于连通冷却流道,本新型借冷却载座提供配置冷却流道,利用冷却载座供磁石组与阴极靶安装以简化结构。
  • 凹型溅镀装置
  • [发明专利]可位移调整磁控管的装置-CN201110340127.4有效
  • 黄一原;卢木森;张倧伟;洪堂钦 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2011-11-01 - 2013-05-08 - H01J37/34
  • 一种可位移调整磁控管的装置,包含一个基座单元、至少一个固设在该基座单元一侧的靶材单元、一个安装在该基座单元另一侧的直线驱动单元、一个受该直线驱动单元驱动的转接单元、至少一安装在该转接单元的调整单元及至少一个连结于该调整单元的磁铁单元。该直线驱动单元能连动该转接单元、该调整单元及该磁铁单元沿一个第一方向相对于该靶材单元位移,且操作该调整单元能连动该磁铁单元沿一个第二方向调整与该靶材单元的距离。
  • 位移调整磁控管装置
  • [实用新型]真空电引入装置-CN201020283318.2有效
  • 黄一原;卢木森;张倧伟;谢礼谦 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2010-08-06 - 2011-04-06 - C23C14/56
  • 一种真空电引入装置,用于安装在一个真空腔体,该真空腔体包括一个腔壁、一个真空侧及一个大气侧,该真空电引入装置包含一个活动单元及一个包括一个固设于该腔壁的导体的固定单元,该活动单元包括一个穿设于该腔壁的绝缘棒、一个位于该大气侧的驱动模组,及一个位于该真空侧且连接该绝缘棒的电极模组,通过独立运作的该活动单元以及提供导电的该导体,使该绝缘棒气密地活动并只于位于端部的电极模组处放电,进而避免因无效放电而产生积炭。
  • 真空引入装置
  • [实用新型]水平步进式溅镀设备-CN201020123674.8有效
  • 黄一原;李福元;陈绍伟;卢木森 - 凌嘉科技股份有限公司
  • 2010-03-05 - 2010-11-24 - C23C14/34
  • 一种水平步进式溅镀设备,包含一个具有一个入口、一个出口、至少一个溅镀腔室与至少一个设置于所述溅镀腔室内并定义出一配置总长的阴极溅镀靶的溅镀站、一个具有一个设置于所述入口的入口阀门与一个设置于所述出口的出口阀门的阀门单元、一个与所述溅镀腔室相通的抽真空单元、至少一个具有一个位于所述溅镀腔室外的伺服马达与多数个设置于所述溅镀腔室内并被所述伺服马达驱动的输送滚轮的驱动单元,及一个与所述伺服马达电连接的控制单元,所述控制单元具有一个往复控制模式,控制所述伺服马达连续且周期性地正、逆往复运转,驱使所述输送滚轮往复转动,所述输送滚轮的往、复行程分别小于所述配置总长。因此可有效改善工件溅镀膜厚的均匀性。
  • 水平步进式溅镀设备

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