专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种铁碳内电解旋转床设备-CN201420598273.6有效
  • 李生富;尹连仲;卢剑 - 重庆市旺利原农业发展有限公司
  • 2014-10-16 - 2015-03-04 - C02F1/461
  • 本实用新型公开了一种铁碳内电解旋转床设备,包括进料斗、卧式旋转反应筒、调速旋转装置、出料中间槽和分离回流槽,所述卧式旋转反应筒一端与进料斗连接,另一端设置正对出料中间槽上方的出料口,所述卧式旋转反应筒内设有呈螺旋状分布的扬料叶片,所述卧式旋转反应筒内出料端设有防止固体反应料外泄的反向螺旋回料板,所述出料中间槽通过管道与分离回流槽连接,所述分离回流槽通过回流提升泵与进料斗连接。本实用新型将铁碳内电解反应从传统的固定床静态氧化还原反应,改为旋转床动态反应,具有自清洗、自活化功能,确保处理效果稳定可靠。
  • 一种铁碳内电解旋转设备
  • [实用新型]一种LED面膜-CN201420006711.5有效
  • 张伟;卢剑 - 广州市淼胜网络科技有限公司
  • 2014-01-02 - 2014-06-11 - A61N5/06
  • 本实用新型涉及一种LED面膜,包括固定膜、反光膜、透光膜、均光膜、固定带和LED组件,所述固定膜上设置有细孔,所述反光膜、LED组件、透光膜和均光膜依次叠加在固定膜上一层,所述透光膜和固定膜边缘相邻,所述透光膜和固定膜通过边缘处固定组合,所述均光膜可安装拆卸于透光膜上一层,所述固定带设置于固定膜两侧,所述固定带与固定膜可拆卸连接。相对现有技术,本实用新型结构简单、成本低、使用方便,且有良好护理效果的LED面膜。
  • 一种led面膜
  • [实用新型]一种残极炭块压脱、运输及存储的设备配置-CN201320765628.1有效
  • 卢剑 - 贵阳铝镁设计研究院有限公司
  • 2013-11-29 - 2014-05-07 - C25C3/12
  • 一种残极炭块压脱、运输及存储的设备配置,以解决现有高残极炭块在经输送机进入后续生产工序前,残极炭块装卸及车辆运输过程中,不仅耗费人力物力,影响生产效率,在此过程中还会产生大量粉尘,污染环境,影响工作人员的健康,同时,残极炭块运输到指定地点后,由于从车辆上转移到炭块料仓内很不方便,需额外提供场地存放残极炭块,增加了土地的需求面积的问题。包括压脱机,还包括料箱、轨道吊运设备和炭块料仓,料箱上设置有吊绳安装孔或吊绳安装挂钩,轨道吊运设备的吊运轨道设置在压脱机出料口和炭块料仓进料口的上方。本实用新型用于残极炭块的回收利用。
  • 一种残极炭块压脱运输存储设备配置
  • [发明专利]电解质粉配料及贮存输送系统装置-CN201110378369.2有效
  • 卢剑;颜非亚 - 贵阳铝镁设计研究院有限公司
  • 2011-11-24 - 2013-06-05 - C25C3/14
  • 本发明公开了一种高效、节能、环保的电解质粉配料及贮存输送系统装置,在两栋电解厂房间设置双层电解质粉储仓,在双层电解质粉储仓的新鲜氧化铝仓(1)、电解质仓(4)之间设置定量给料螺旋输送机(2)及沸腾床(3),定量给料螺旋输送机(2)及沸腾床(3)组成配料系统,在电解质仓(4)之下设置输送设备(5),输送设备(5)与加料装置(6)连接。通过双层电解质料仓及上、下仓间配料系统的设置,可实现高效率满足生产工艺要求又节约能源、保护环境的目标。
  • 电解质配料贮存输送系统装置
  • [发明专利]一种基于宏设计集成电路版图的方法-CN201110171227.9有效
  • 高立博;刘梦新;卢剑;罗家俊 - 中国科学院微电子研究所
  • 2011-06-23 - 2012-12-26 - G06F17/50
  • 本发明提供一种基于宏设计集成电路版图的方法,特征在于包括以下步骤:(1)针对设计要求,拆分目标版图到多个最简图形单元;(2)与库对比,查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元,如果是,则进行到步骤(3),否则转到步骤(4);(3)调用相应的宏,设定参数,进行拼接,形成器件版图;(4)制作新宏,添加到所述库中,接下来按照步骤(3)形成器件版图。通过本发明,可以实现版图的复用,使得不同工艺之间转化迁移更便利,同时避免大量重复单元绘制时引起偏差与设计工时的浪费,提高精度与工作效率。利用制作宏的方法,可以定制化的制作新的宏,并添加到宏库中,使宏库的规模、适用性及实用性不断提高。
  • 一种基于设计集成电路版图方法

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