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[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201811571268.5有效
发明人：西田崇之;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-12-21 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种减轻供给至旋转的基板的上表面的处理液绕入至基板的下表面侧的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(1)包括保持基板(W)的基板保持部(3)。基板保持部(3)包括夹持基板(W)的各两个活动保持销(30)及固定保持销(35)。基板处理装置(1)包括从下方支撑基板保持部(3)所保持的基板(W)的两个支撑销(40)。支撑销(40)包括与基板保持部(3)所保持的基板(W)在铅垂方向上重合的内侧部分(42)。支撑销(40)的上端(40T)位于比与所述内侧部分(42)在铅垂方向上重合的重叠部分(W3)的上表面更靠下侧的位置。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780083711.1有效
发明人：津田祥太郎;平冈伸康;冲田展彬;西田崇之 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种减少附着于杯体的异物再次附着于基板的情况的技术。本发明的基板处理装置(1)具有上杯体部(32)，该上杯体部(32)具有形成为可将保持于基板保持部(10)的基板(W)包围的筒状的第一筒状部(321)及第二筒状部(322)，且第二筒状部(322)与第一筒状部(321)的上侧连结。另外，基板处理装置(1)具有杯体移动部(36)，该杯体移动部(36)通过使上杯体部(32)在铅直方向上移动，来使上杯体部(32)分别在第一筒状部(321)包围基板(W)的位置以及第二筒状部(322)包围基板(W)的位置停止。
处理装置方法

[发明专利]衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法-CN202210854232.8在审
发明人： 冲田展彬;石井淳一;中村一树;筱原敬;冈田吉文;筱原智之;髙桥拓马 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法。上侧保持装置将衬底以水平姿势保持且不使它旋转。下侧保持装置吸附保持衬底且使它旋转。使用洗净液洗净由上侧保持装置保持的衬底，使用洗净液洗净由下侧保持装置保持的衬底。处理空间的气体通过排气系统由工场的排气设备排出。在由上侧保持装置保持衬底时，不排出处理空间的气体或者以第1流量排出所述处理空间的气体。在由下侧保持装置保持衬底时，以高于第1流量的第2或第3流量排出处理空间的气体。
衬底洗净装置系统处理方法

[发明专利]衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法-CN202210790732.X在审
发明人： 冲田展彬;筱原智之;石井淳一;中村一树;筱原敬;髙桥拓马;冈田吉文;加藤洋 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。衬底对位装置包含以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部的第1支撑部件及第2支撑部件。另外，衬底对位装置具备：第1按压部件，以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底移动。第1支撑部件包含限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动的移动限制部。
衬底对位装置处理方法

[发明专利]衬底洗净装置及衬底洗净方法-CN202210773648.7在审
发明人：筱原智之;石井淳一;中村一树;冈田吉文;髙桥拓马;筱原敬;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过将洗净工具接触于由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域来将下表面中央区域洗净。通过将洗净工具接触于由第2保持部旋转的衬底的下表面外侧区域来将衬底的下表面外侧区域洗净。在下表面中央区域的洗净时，在不保持衬底的状态下使第2保持部绕铅直轴旋转。或，在下表面中央区域的洗净时，通过配置在洗净工具与第2保持部之间的气体喷出部从只离开衬底特定距离的第1高度向衬底喷出气体，且在下表面中央区域的干燥时，通过气体喷出部从比第1高度更接近衬底的第2高度向衬底喷出气体。
衬底洗净装置方法

[发明专利]衬底洗净装置及衬底洗净方法-CN202210719627.7在审
发明人：筱原智之;中村一树;冈田吉文;髙桥拓马;筱原敬;冲田展彬;石井淳一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。
衬底洗净装置方法

[发明专利]衬底清洗装置-CN202210659024.2在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;筱原敬;石井淳一;中村一树;髙桥拓马 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。
衬底清洗装置

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111042513.5在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置包含衬底处理部与衬底搬送部。衬底处理部包含构成为能保持衬底的上侧保持装置及下侧保持装置。衬底处理部中，下侧保持装置设置在上侧保持装置的下方。因此，能由上侧保持装置保持衬底的高度位置，与能由下侧保持装置保持衬底的高度位置不同。衬底搬送部具有保持衬底的第1及第2手。第2手位于比第1手下方。由第1手进行对上侧保持装置移交或接收衬底。由第2手进行对下侧保持装置接收或移交衬底。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法-CN202111079496.2在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;加藤洋;筱原敬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法。本发明的第1衬底保持部保持衬底的外周端部。第2衬底保持部在第1衬底保持部下方的位置吸附保持衬底的下表面中央区域。下表面刷在与利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置、与下表面刷与利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置之间升降。第2衬底保持部及下表面刷设置在能够在水平方向移动的可动台座上。可动台座在下表面刷与衬底的下表面外侧区域对向的位置、与下表面刷与衬底的下表面中央区域对向的位置之间移动。洗净利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面中央区域。这时，衬底的高度位置高于处理杯的上端部。洗净利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面外侧区域。这时，衬底的高度位置低于处理杯的上端部。
衬底洗净装置处理方法

[发明专利]衬底处理装置-CN202110212115.7在审
发明人： 冲田展彬;松冈启充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备：衬底保持部(120)、刷(160)、刷保持部(140)及吸引口(152r)。衬底保持部(120)保持衬底(W)。刷保持部(140)具有与刷(160)一起旋转的刷装设部(150)。吸引口(152r)设置在刷装设部(150)。在刷(160)与刷装设部(150)之间形成有露出吸引口(152r)的吸引空间(Q)。刷(160)与刷装设部(150)中的一个具有突起部(156)。刷(160)与刷装设部(150)中的另一个具有卡合孔(164q)，当刷(160)装设于刷装设部(150)时，该卡合孔(164q)供突起部(156)插入。
衬底处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201811574249.8在审
发明人： 冲田展彬;村元僚;西田崇之 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-12-21 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种减轻基板的下表面的污染的基板处理装置。保护盘(10)配置在旋转底座(21)与基板(W)之间，能够在与基板(W)朝向下方分离的分离位置与比分离位置更接近基板(W)的接近位置之间进行升降。保护盘(10)的上表面包括：内方面(12S)，设置在比多个保持销(20)更靠径向内方的位置上；以及平坦面(13S)，设置在比内方面(12S)更靠径向外方的位置，并且设置在比内方面(12S)更靠上方的位置。平坦面(13S)与基板(W)的周缘部(WEP1)之中、比外周端WE更靠径向内方的部分的下表面相向。
基板基板处理装置分离位置保护盘平坦面下表面接近位置径向外方旋转底座上表面外周端周缘部相向升降配置污染

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法及程序记录介质-CN201780014125.1在审
发明人： 冲田展彬;筱原敬 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(1)，其中，包含：基板保持旋转机构(41)，其将基板(W)保持为水平姿势，且使上述基板(W)围绕通过上述基板(W)的主面的铅垂的旋转轴线(AX)旋转；刷子(30)，其抵接于由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面并对上述基板(W)的上述主面进行清洗；第一喷嘴(10)，其向由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面喷出处理液；以及第二喷嘴(20)，其向由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面中的下游邻接区域(DR)喷出处理液，上述下游邻接区域(DR)从上述基板(W)的旋转方向的下游侧邻接于上述刷子(30)抵接于上述基板(W)的上述主面的抵接区域(AR)。
基板基板保持旋转机构主面基板处理装置刷子邻接区域喷嘴处理液抵接喷出程序记录介质抵接区域基板处理水平姿势旋转轴线邻接铅垂清洗

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