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- [发明专利]研磨装置及研磨方法-CN201910645186.9有效
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关正也;中西正行;柏木诚
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株式会社荏原制作所
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2019-07-17
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2023-10-20
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B24B21/00
- 本发明提供一种能够在晶片等基板的边缘部形成具有直角截面的阶梯形状的凹陷的研磨装置及研磨方法。研磨装置在基板(W)的边缘部形成阶梯形状的凹陷。研磨装置具备使基板(W)以旋转轴心CL为中心旋转该基板旋转装置(3)；具有将研磨带(38)按压于基板(W)的边缘部的第一外周面(51a)的第一辊(51)；以及具有与第一外周面(51a)接触的第二外周面(54a)的第二辊(54)，第二辊(54)具有限制研磨带(38)向远离旋转轴心CL的方向的运动的带止挡面(75)，带止挡面(75)位于第一外周面(51a)的半径方向外侧。
- 研磨装置方法
- [发明专利]镀覆装置-CN202180003017.0有效
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关正也;富田正辉;张绍华
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株式会社荏原制作所
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2021-02-22
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2023-03-31
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C25D17/06
- 本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
- 镀覆装置
- [发明专利]镀覆装置以及镀覆处理方法-CN202080039920.8有效
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张绍华;増田泰之;关正也
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株式会社荏原制作所
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2020-12-08
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2023-03-24
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C25D21/04
- 本发明涉及镀覆装置以及镀覆处理方法。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的工艺气体而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)，在阳极室(13)配置有阳极(11)；和基板保持件(30)，配置于比阳极室靠上方的位置，并保持作为阴极的基板(Wf)，阳极具有沿上下方向延伸的圆筒形状，镀覆装置还具备：气体存积部(60)，以在与阳极之间具有空间，并且覆盖阳极的上端、外周面以及内周面的方式设置于阳极室，存积从阳极产生的工艺气体；和排出机构(70)，使存积于气体存积部的工艺气体排出到镀覆槽的外部。
- 镀覆装置以及处理方法
- [发明专利]预湿模块和预湿方法-CN202180005800.0有效
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关正也
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株式会社荏原制作所
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2021-05-31
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2023-03-21
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C25D5/00
- 提高基板的被处理面的清洗处理和脱气处理的效率。预湿模块(200)具备：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；预湿室(260)，其具备具有与基板(WF)的被处理面(WF‑a)相向的相向面(262a)的盖构件(262)和安装于盖构件(262)的相向面(262a)的外缘部的筒状构件(264)；升降机构(230)，其构成为使预湿室(260)升降；脱气液供给构件(204)，其构成为对形成于预湿室(260)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的预湿空间(269)供给脱气液；喷嘴(268)，其安装于盖构件(262)的相向面(262a)；以及清洗液供给构件(202)，其构成为经由喷嘴(268)而对基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给清洗液。
- 模块方法
- [发明专利]镀覆装置-CN202180016348.8在审
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富田正辉;关正也
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株式会社荏原制作所
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2021-06-11
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2022-10-18
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C25D17/00
- 提供一种顺畅地进行镀覆液向被镀覆面的接触并且能够抑制气泡残留于被镀覆面的镀覆装置。镀覆装置的基板保持器具有：头部模块，用于与基板接触来进行保持；倾斜模块，构成为使头部模块倾斜；以及升降模块，构成为使头部模块升降。倾斜模块具有：第一部件；第二部件，支承头部模块并且相对于第一部件连接为能够绕旋转轴旋转；以及致动器，用于使第二部件绕旋转轴旋转。旋转轴从保持于头部模块的基板的中心偏移，升降模块构成为通过使倾斜模块的第一部件升降来使基板保持器升降。
- 镀覆装置
- [发明专利]基板的接液方法和镀覆装置-CN202080071289.X在审
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张绍华;关正也
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株式会社荏原制作所
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2020-12-28
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2022-09-02
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C25D17/00
- 通过简单的构造减少附着于被镀覆面的气泡的量。基板的接液方法包括：保持步骤(102)，在该步骤中，以使基板的被镀覆面与收容于镀覆槽的镀覆液的液面相向的方式通过背板保持基板的背面；供给步骤(104)，在该步骤中，通过以镀覆液向上穿过配置于镀覆槽内的阻挡体的中央部的多个贯通孔的方式对镀覆槽内供给镀覆液而使镀覆液的液面的中央部鼓起；第1下降步骤(106)，在该步骤中，使支承构件朝向镀覆液的液面下降，上述支承构件用于支承被保持构件保持的基板的被镀覆面的外缘部；以及第2下降步骤(108)，在该步骤中，在通过供给步骤(104)而使镀覆液的液面的中央部鼓起的状态下，以由通过第1下降步骤(106)而下降的支承构件与保持构件夹持基板的方式使保持构件下降。
- 方法镀覆装置
- [发明专利]镀覆装置以及镀覆方法-CN202111552453.1在审
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关正也;张绍华
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株式会社荏原制作所
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2021-12-17
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2022-08-30
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C25D17/00
- 本发明提供能够抑制镀覆液的液体飞溅的技术。镀覆装置具备：具有内槽(11)的镀覆槽(10)、基板支架、构成为在水平方向往复移动由此搅拌存积于内槽(11)的镀覆液的搅拌桨(50)，搅拌桨(50)具有：第1部位(51)，该第1部位(51)配置为插通于在内槽的外周壁设置的孔，并且将内槽的内部与内槽的外部跨接，并构成为搅拌存积于内槽的镀覆液；第2部位(53)，该第2部位(53)配置于内槽的外部，并且配置为比第1部位靠上方；以及连接部位(52)，该连接部位(52)配置于内槽的外部并将第1部位与第2部位连接。
- 镀覆装置以及方法
- [发明专利]镀覆装置、以及基板支架操作方法-CN202080027461.1在审
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富田正辉;关正也
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株式会社荏原制作所
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2020-12-09
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2022-08-19
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C25D17/06
- 本发明实现基板保持的可靠性较高的基板支架。镀覆模块包含用于收容镀覆液的镀覆槽、用于以被镀覆面朝向下方的状态保持基板的基板支架(440)、以及用于使基板支架(440)升降的升降机构。基板支架(440)包含用于支承基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的外周部的支承机构(460)、配置在基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的背面侧的浮板(472)、用于向将浮板(472)远离基板(Wf)的背面的方向进行施压的浮动机构(490)、以及用于通过抵抗浮动机构(490)对基板(Wf)的作用力来将浮板(472)按压于基板(Wf)的背面的按压机构(480)。
- 镀覆装置以及支架操作方法
- [发明专利]预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法-CN202210460141.6在审
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关正也;矢作光敏;山田展也
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株式会社荏原制作所
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2022-04-28
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2022-07-15
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C25D5/00
- 提供对基板高效地进行前置处理的预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法。预湿模块(200)包括：脱气槽(210)，其收容脱气液；处理装置(258)，其包括喷嘴(268)，其对被处理面向上的基板的被处理面供给清洗液；基板保持架(220)，其具有配置于脱气槽与处理装置之间且保持第1基板的第1保持构件(222)和保持第2基板的第2保持构件(224)；以及驱动机构(230)，其使基板保持架旋转和升降，驱动机构(230)包括：旋转机构(240)，其使基板保持架在使第1基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第1状态和使第2基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第2状态之间旋转；和升降机构(248)，其使基板保持架升降。
- 模块脱气循环系统方法
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