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[发明专利]掩模的制造方法-CN201510038125.8在审
发明人：陈志明;曾雅萍;何铭涛 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-08-20 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模的制造方法。该方法包括下列步骤：提供一透明基板，该透明基板具有位于基板上方的第一衰减层以及位于第一衰减层上的第一图像层；在写入模式下使用第一辐射能量对第一图像层进行第一曝光步骤；对第一衰减层进行第一蚀刻步骤；对透明基板进行第二蚀刻步骤，以形成沟槽于透明基板中，且沟槽深度介于约λ/〔3x(n-1)〕至2λ/〔3x(n-1)〕之间；在扫描模式下使用一光线能量以及一掩模对第二图像层进行第二曝光步骤，其中第二曝光步骤是紧接在形成该第二图像层后进行；以及在第二曝光步骤之后，对第一衰减层进行第三蚀刻步骤。通过本发明，在扫描模式下的第二曝光步骤可以达到分辨率要求并降低第二曝光步骤的时间与制造成本。
制造方法

[发明专利]组装薄胶膜于光掩模上的方法、设备及其组装体-CN201010001427.5有效
发明人：林锦鸿;陈志成;何铭涛 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2010-01-06 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种组装薄胶膜于光掩模上的方法、设备及其组装体。在该设备中，一腔体具有至少一端口，以将该腔体填充一气氛的极度洁净干空气(XCDA)或一惰性气体。一薄胶膜组装器设置于该腔体中。一真空紫外光(VUV)光源，当该腔体填充该极度洁净干空气或该惰性气体时，用以照射一光掩模固定于该薄胶膜组装器。在该方法中，以真空紫外光照射光掩模于一气氛的极度洁净干空气或惰性气体，以及当光掩模于该气氛的极度洁净干空气或惰性气体的环境且曝露在真空紫外光中，组装一薄胶膜于该光掩模上。本发明可降低或消除光掩模模糊，并且可降低晶片低良率的风险。光掩模在模糊污染物产生之前的耐久性也得以延长，还可降低工艺费用。
组装胶膜光掩模上方法设备及其

[发明专利]掩模的制造方法-CN200710142661.8无效
发明人：陈志明;曾雅萍;何铭涛 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-08-20 - 公布日： 2008-10-08 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模的制造方法。该方法包括下列步骤：提供一基板，该基板具有位于该基板上方的第一衰减(attenuating)层以及位于该第一衰减层上的第一图像层；在写入模式下使用第一辐射能量对该第一图像层进行第一曝光步骤；对该第一衰减层进行第一蚀刻步骤；对该基板进行第二蚀刻步骤；在该第一衰减层以及该基板上形成第二图像层；使用一光线能量以及一掩模对该第二图像层进行第二曝光步骤；以及在该第二曝光步骤之后，对该第一衰减层进行第三蚀刻步骤。通过本发明，在扫描模式下的第二曝光步骤可以达到分辨率要求并降低第二曝光步骤的时间与制造成本。
制造方法

[发明专利]除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法-CN200710002271.0无效
发明人：林锦鸿;胡清旺;何铭涛 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-01-17 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法，该装置包括一激光光源、一透镜组以及一平台。平台与透镜组保持一适当的距离，并供容纳与放置具有护膜的掩模。从该激光光源发出的激光经过该透镜组投射至平台上，且投射至平台的激光穿过护膜并除去位于掩模上的杂质。本发明的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法的一较佳实施例包括下列步骤：提供一激光光源以及一平台；将具有护膜的掩模放置于平台上；以及使激光从激光光源投射至平台，并穿过该护膜，从而除去位于掩模上的杂质。本发明的优点在于：不必拆卸薄膜也能清除掩模上的杂质或异物。
除去位于被护膜覆盖掩模上杂质装置方法

[发明专利]一种包含光罩的装置以及制造该光罩的方法-CN200710088298.6无效
发明人：林锦鸿;胡清旺;何铭涛 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-03-22 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种包含光罩的装置以及制造该光罩的方法。该光罩具有一图样表面及在图样表面上成一透明层。该制造光罩的方法，其包含以下步骤：提供一光罩基材，该光罩基材包含第一材质；图样化该光罩基材以形成一图样表面；以及在该图样表面形成一阻障层，该阻障层包含第一材料。该包含光罩的装置，其包含：一透明层；一图样层，形成在透明层上；以及一光雾减少层，形成在图样层上。本发明可以减少光雾的形成，非常适于实用。
一种包含装置以及制造方法

[发明专利]光罩保护膜的卸除装置-CN03137004.7有效
发明人：李光洋;张启俊;何铭涛;邱铭乾 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2003-05-28 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种光罩保护膜的卸除装置，用以快速卸除光罩的保护膜。本发明的光罩保护膜的卸除装置是以把手固定元件作为支点，扳动ㄇ字型把手时借助连动轴将ㄇ字型把手末端的插入元件插进光罩保护膜的孔洞，并藉杠杆原理将光罩保护膜卸离光罩，如此可避免工作人员运用公知卸除器具时不小心刮伤光罩的危险，同时节省卸除光罩保护膜所花的时间。
保护膜卸除装置