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[发明专利]涂布装置及涂布方法-CN201610144177.8在审
发明人：奥田大辅;池森一博 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2016-03-14 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布装置及涂布方法，通过所述涂布装置及涂布方法进行混合时，能够使容易凝集的两种液不发生凝集地混合，并将其涂布于基板而形成薄膜。该涂布装置(1)包括：管道(7a)，供给涂布液(a)；管道(7b)，供给涂布液(b)；混合装置(4)，对来自管道(7a)和管道(7b)的涂布液(a)和涂布液(b)进行混合；过滤装置(5)，对在混合装置(4)生成的混合涂布液(c)进行过滤；接口管(3)，其中形成有用于排出被混合和过滤的混合涂布液(c)的狭缝，通过从狭缝排出混合涂布液(c)来将混合涂布液(c)涂布在基板(W)上，从而在基板(W)上形成薄膜。
装置方法

[发明专利]缝喷嘴、涂布方法以及涂布装置-CN201610172096.9在审
发明人：铃木晓雄;谷义则;北村义之 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：提供一种缝喷嘴、涂布方法以及涂布装置，该缝喷嘴能够减小存在于涂布膜的宽度方向两端部的膜厚不良部的长度而扩大膜厚均匀的产品区域。本发明的缝喷嘴(10)具有：供给口(16)，其供给涂布液；集流腔(13)，其使从供给口供给的涂布液在长度方向上分散；以及流路部(14)，其与集流腔连接而将涂布液引导至喷出口(17)，该缝喷嘴还具有：喷出口面(20)，其与喷出口大致同一平面；以及一对上升面(21L、21R)，它们分别与喷出口面的长度方向两端的缘部相连并向集流腔侧延伸，当流路部的与集流腔的连接位置处的长度方向长度为We、喷出口的长度方向长度为Wd时，We＞Wd。
喷嘴方法以及装置

[发明专利]加热干燥装置-CN201610171873.8在审
发明人：滨川健史;奥田大辅;冈本贯志 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： B05D3/02 文献下载
摘要：提供加热干燥装置，对于搬送路径上的基板，也能够以抑制形成在基板上的涂布膜产生干燥不匀的方式进行干燥。该加热干燥装置在一边将基板超声波振动上浮一边进行搬送的搬送装置的搬送路径上对基板进行加热干燥，其具有：加热器部，其对基板上的涂布膜进行加热；腔室盖部，其通过与振动板抵接而形成腔室部，并在腔室部内将基板保持为密封状态；以及排气部，其对腔室部内进行排气，在腔室盖部中设置有顶板，在腔室盖部与振动板抵接了的状态下，该顶板与振动板上的基板接近而与基板整个面相对，排气部构成为一边通过从排气口对腔室部内进行排气而将腔室部内形成为减压状态，一边通过使加热器部进行加热而使基板上的涂布膜干燥。
加热干燥装置

[发明专利]标印装置和图案生成装置-CN201580009197.8在审
发明人：田尾正则;冈部均;中谷友哉 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2015-01-15 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：提供一种标印装置，能够同时实现加工精度的提高和作业时间的缩短。具体而言，标印装置(1)具有：作为第1标印部的第1激光加工部(3a、3b)，其按照第1点径对被加工物进行标印；作为第2标印部的第2激光加工部(5a、5b)，其按照点径比所述第1点径小的第2点径对所述被加工物进行标印；以及作为分割描绘图案登记部的装置PC(7)，其将描绘图案分割成由第1激光加工部(3a、3b)描绘的第1描绘图案和由第2激光加工部(5a、5b)描绘的第2描绘图案并进行登记。
装置图案生成

[发明专利]减压干燥装置和基板处理系统-CN201610090240.4在审
发明人：伊藤祯彦;池森一博 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2016-09-07 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：提供一种减压干燥装置和基板处理系统。在具有多级腔室式减压干燥装置的片状基板用干燥装置中，利用单一的真空泵应对所有腔室的减压动作。减压干燥装置具有：多个减压用腔室；单一的真空泵，该真空泵的进气口经由配管与各腔室连接；阀，其控制各腔室的排气和减压状态，且与所述各腔室对应地分别设置于所述配管；以及控制装置，其根据预先设定的减压序列控制各阀。
减压干燥装置处理系统

[发明专利]涂布装置-CN201610059267.7在审
发明人：藤原久嘉 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2016-01-28 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B05D3/06 文献下载
摘要：提供涂布装置，能够在刚进行UV固化液的涂布后照射UV光，而且能够自由地设定该UV光的照射量，由此能够高精度地形成UV固化液膜的膜厚。涂布装置构成为具有：平台，其具有载置基板的基板载置面；涂布单元，其一边相对于所述平台向一个方向相对地移动，一边对载置在所述基板载置面上的基板涂布UV固化液；UV照射部，其从所述平台的与所述基板载置面垂直的侧面侧照射UV光；以及反射部，其使所述UV照射部的UV光向基板载置面侧反射。
装置

[发明专利]涂布液泵单元以及涂布装置-CN201510726032.4在审
发明人：滨川健史;伊藤俊文 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布液泵单元以及涂布装置，即使是在基板上形成薄膜的情况下也能够抑制横向不匀的产生。涂布液泵单元对涂布装置的涂布单元供给涂布液，所述涂布装置使基板和所述涂布单元相对移动而在基板上形成涂布膜，所述涂布液泵单元的特征在于，在所述涂布液泵单元中，供给涂布液的泵主体、对该泵主体传递驱动力的滚珠丝杠驱动部以及产生驱动力的电动机部按上述顺序配置在同一轴上，在所述电动机部与所述滚珠丝杠驱动部之间设置有行星辊减速器。
涂布液泵单元以及装置

[发明专利]涂布装置以及滞留空气去除方法-CN201510726031.X在审
发明人：铃木晓雄 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够容易地去除配管内的滞留空气的涂布装置以及滞留空气去除方法。本发明的涂布装置构成为：通过使多个配管连结而将蓄留涂布液的涂布液容器与喷出涂布液的涂布单元连接，并通过涂布单元喷出涂布液容器中的涂布液，其中，所述配管通过用于将配管彼此连结的配管连结部而被连结，在所述涂布单元与配置于最接近所述涂布单元的位置上的所述配管连结部之间具有逆流送液装置，该逆流送液装置通过所述配管向所述涂布液容器侧进行送液。
装置以及滞留空气去除方法

[发明专利]浮起输送装置-CN201510378437.3在审
发明人：宫岛勇也 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2015-07-01 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： B05C9/14 文献下载
摘要：本发明提供一种浮起输送装置，其能够不使基板破损地对其进行浮起输送。浮起输送装置具有：浮起台(2)，其使基板(W)浮起；手部(51)，其具有与基板的端面抵接的抵接部(53)，通过使抵接部与借助浮起台(2)而浮起的基板的端部抵接来把持基板；以及行走机构(52)，其使手部沿基板的输送方向移动，浮起台的基板浮起面(23)在与输送方向垂直的宽度方向上比基板的宽度窄，所述基板浮起面是使基板浮起的面，当手部把持基板时，抵接部在宽度方向上在比基板浮起面靠外侧的位置与基板抵接，抵接部的下端位于比基板浮起面低的位置。
浮起输送装置

[发明专利]基板处理装置、掩模设置方法、膜形成装置及膜形成方法-CN201480010240.8在审
发明人：本田显真;岩出卓 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2014-02-18 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： B05B5/08 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置，能够抑制因在基板与掩模之间形成间隙而引起掩模的开口图案的转印性变差的情况。具体而言，该电喷雾装置(100)(基板处理装置)具有配置在基板(5)附近且具有规定的开口图案的掩模(3)，掩模(3)构成为：在掩模(3)的端部(3a)附近被支承的状态下，掩模(3)向下方的挠曲变形量(d2)成为基板(5)向下方的挠曲变形量(d1)以下的大小。
处理装置设置方法形成

[发明专利]透明导电膜的形成方法和薄膜加热干燥装置-CN201510079502.2在审
发明人：内潟外茂夫;山下元气;奥田大辅 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2015-02-13 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供透明导电膜的形成方法和薄膜加热干燥装置，提供一种在利用PEDOT/PSS形成透明导电膜时能够提高导电性的透明导电膜的形成方法和透明导电膜(薄膜)干燥装置。所述透明导电膜的形成方法为：通过将使作为溶剂的水中含有包含聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)和聚苯乙烯磺酸(PSS)的导电性高分子材料所得到的涂布材料涂布至被处理基材上而形成涂布膜，在腔室内对该涂布膜进行加热干燥处理，从而使上述涂布膜干燥并在被处理基材上形成透明导电膜，该形成方法中，上述加热干燥处理的构成如下：在以上述溶剂的沸点以上的干燥温度进行保持的同时，在腔室内进行了抑制上述涂布膜的溶剂的蒸发的干燥延迟处理之后再进行促进溶剂的蒸发的干燥促进处理。
透明导电形成方法薄膜加热干燥装置

[发明专利]控制系统以及控制方法-CN201480001312.2有效
发明人：宫本浩幸;佐佐木尚史;渡边敦;中岛一茂;西松洋平;北岛贤司 -专利权人：横河电机株式会社;东丽工程株式会社
申请日： 2014-03-05 - 公布日： 2015-02-04 - 主分类号： H01M4/04 文献下载
摘要：在将电极活性材料等涂敷物涂敷至基材时，将基材宽度方向的涂敷物的表面形状优化。本发明的控制系统具有：间隙调整部，其对用于喷出涂敷物的喷嘴和涂敷物所涂敷的基材之间的间隙进行调整；转速调整部，其对将涂敷物压送至喷嘴的泵的转速进行调整；模型计算部，其基于对涂敷物在基材宽度方向的表面形状中的上升区域的形状进行模拟而得到的端部模型、以及对表面形状中被上升区域夹着的中央区域的形状进行模拟而得到的中央部模型，通过计算求出涂敷物的表面形状；比较部，其对利用模型计算部计算出的涂敷物的表面形状和预先设定的设定形状进行比较；以及控制运算部，其基于比较部的比较结果，求出间隙调整部以及转速调整部中的至少某一者的控制量。
控制系统以及控制方法

[发明专利]含硅膜和含硅膜形成方法-CN201380011711.2有效
发明人：山下雅充;藤元高佳;岩出卓 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2014-11-19 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明提供一种膜，该膜通过为低应力且水分吸收少的密封膜结构，从而在经时变化中不会发生剥离，具有稳定的阻隔性。具体地说，提供一种含硅膜，该含硅膜具备：通过等离子体CVD法形成的包含硅元素且氧浓度为0元素％以上且小于10元素％的第1化学沉积层；和通过等离子体CVD法形成的包含硅元素且氧浓度超过35元素％且为70元素％以下的第2化学沉积层，其中，上述第1化学沉积层的厚度(L1)与上述第2化学沉积层的厚度(L2)之比L2/L1为1.5～9。
含硅膜形成方法

[发明专利]标记装置及方法-CN201380012855.X有效
发明人：滨川直良;谷川央树 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2013-02-13 - 公布日： 2014-11-19 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：提供标记装置及方法，即使是被连续地输送的标记对象物(10)也能够在无偏移的状态下连续地标记规定的描绘图案，能够提高生产性，为此，在对标记对象物(10)标记描绘图案的标记装置(1)中，其特征在于，所述标记装置(1)具备：输送部(2)，其沿着第一方向连续地输送标记对象物(10)；沿着第一方向移动标记单元(4)的标记单元第一移动部(5)和沿着第二方向移动标记单元(4)的标记单元第二移动部(6)；以及标记位置修正部(45)，所述标记装置(1)具备总控制部(95)，所述总控制部(95)对标记位置重合控制部(91)和同步移动控制部(93)进行控制，在沿着第一方向连续地输送标记对象物(10)的期间，将标记用光线(47)向标记对象物上的第一方向和第二方向的相同位置照射规定的时间。
标记装置方法

[发明专利]自动外观检查装置-CN201280065039.0有效
发明人：大久保宪治;山本比佐史 -专利权人： 东丽工程株式会社
申请日： 2012-11-09 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供一种自动外观检查装置，其能够不受摄像机的处理能力的制约而缩短检查时间。具体而言，该自动外观检查装置的特征在于，具有：载台部、扫描台部、闪光灯照明部、镜筒部、摄像部、以及检查部，所述检查部根据预先登记的检查条件，判断所摄像的检查对象物的图像是否良好，扫描台部具有测量载台部的当前位置的位置测量单元，镜筒部具有使观察光的一部分透射并且使一部分改变角度而进行反射的光分支单元，镜筒部安装有多个摄像部，使得能够分别对光分支单元所分支的光进行摄像，控制部具有对于每次摄像逐次切换用于摄像的摄像部来进行摄像的功能。
自动外观检查装置