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[实用新型]用于偏光显微镜的偏光状态识别装置-CN202121676408.2有效
发明人：苏桂芬;刘凤民;冯俊岭 -专利权人：自然资源实物地质资料中心
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本实用新型公开了用于偏光显微镜的偏光状态识别装置，及显微镜领域，包括用于采集偏光显微镜显微图像的图像采集装置、用于显示检偏器使用状态的识别物、用于检测识别物状态的检测器和计算机，识别物固定在检偏器上，检测器的检测频率与图形采集装置的采集频率一致；当偏光显微镜的检偏器进行切换时，位于检测器检测作用端的识别物发生相应的变化，由于识别物的每个状态对应检偏器的每个使用状态，计算机便可以通过检测器检测到识别物的当下情况，判断偏光显微镜的偏光状态，并将偏光状态直观的展示在使用者面前，避免使用者在遗忘或者不确定偏光状态的情况下，得出错误的结果，对后期的研究造成严重的影响。
用于偏光显微镜状态识别装置

[发明专利]一种多角度偏振探测仪在轨定标方法及装置-CN201811594809.6有效
发明人：刘李;陈兴峰;史婷婷;闵祥军;潘志强;韩启金 -专利权人：中国资源卫星应用中心
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：一种多角度偏振探测仪在轨定标方法，包括如下步骤：步骤一、根据偏振定标所需的地物类型，确定符合偏振定标的地物条件和定标像元；根据所述定标像元计算太阳几何和观测几何；步骤二、基于地表参数、大气参数、步骤一所述的太阳几何和观测几何，计算目标反射光的偏振态；步骤三、根据步骤一所述的定标像元和步骤二所述的目标反射光的偏振态，建立传感器偏振辐射模型；步骤四、根据步骤三所述的传感器偏振辐射模型，确定定标系数。本发明通过合适的自然景物来替代人工标准光源，实现偏振载荷在轨偏振定标。
一种角度偏振探测仪定标方法装置

[发明专利]大气-海雾模拟装置中水雾附着的抑制系统-CN202111150253.3有效
发明人：张肃;王鹏程;李英超;战俊彤;付强;宋俊宏 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：大气‑海雾模拟装置中水雾附着的抑制系统，属于偏振传输实验测试领域，包括第一偏振发射系统、第二偏振发射系统、第三偏振发射系统、第一偏振接收系统、第二偏振接收系统、第三偏振接收系统、大气‑海雾模拟装置和数据处理系统，本发明利用模拟系统正方形箱体内均匀充雾的方式，确保相同光学厚度下，通过单层水平方向偏振传输等效获得垂直方向双层偏振传输的实验结果，达到抑制垂直方向水雾影响的效果。该系统在抑制水雾影响的同时，通过垂直路径与等效路径同时探测的方式，也可得到不同充雾时间光学玻璃附着水雾对偏振传输特性结果的影响，从而提高大气‑海雾环境偏振传输特性实验的准确性，为多层介质下偏振探测传输的研究提供新的测试系统。
大气模拟装置水雾附着抑制系统

[实用新型]一种便于调节观察的自动旋光仪-CN202122391725.6有效
发明人：资春鹏;王斯雨 -专利权人：成都安满生物医药科技有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本实用新型提供一种便于调节观察的自动旋光仪，涉及自动旋光仪技术领域，包括旋光仪本体和底板，所述旋光仪本体的底部固定安装有连接框，所述连接框的内部滑动连接有连接块，所述连接框的内部转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的表面对称开设有正反螺纹，所述连接块的内部开设有螺纹孔，螺纹孔与螺纹杆相啮合，所述连接块与底板之间转动连接有连接杆，所述旋光仪本体的表面固装有显示面板，所述显示面板的外侧设置有擦拭结构。本实用新型，通过设置该连接块，使工作人员能够转动螺纹杆，使螺纹杆带动连接块移动，从而使连接块带动连接杆转动，对旋光仪本体的高度进行调节，操作简单，以便工作人员进行观察操作。
一种便于调节观察自动旋光仪

[发明专利]Mueller矩阵图像的获取系统及获取方法-CN202111444964.1在审
发明人：权乃承 -专利权人：西安理工大学
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明Mueller矩阵图像的获取系统及获取方法，公开了包括依次设置形成光学系统的光源S、准直镜CL、起偏器P、样品V、超表面M、成像镜L、探测器D；超表面M具体结构为：在单晶硅片上表面沉积金属膜，以单晶硅片中心为坐标原点，划分为四个象限，对每个象限的金属膜表面采用光刻工艺按照偏振吸收角度开设印刻单元，每个印刻单元内刻蚀金属纳米线和硅纳米线；成像镜L包括四个凸透镜，每个凸透镜的光轴正对每个象限的中心；本发明中采用超表面作为检偏臂，不存在运动部件，与现有装置相比，在分析目标表面出射光的偏振态时不需要进行旋转，可通过单次曝光得到偏振态的变化，探测时间更快。
mueller 矩阵图像获取系统方法

[发明专利]OAM模式切换器-CN202111234051.7在审
发明人：贺炎亮;曾庆计;刘俊敏;谢智强;吴海生;关志伟;李瑛;范滇元;陈书青 -专利权人：深圳大学
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种OAM模式切换器，包括若干个超表面结构单元，所述超表面结构单元由GST相变材料构成，所述超表面结构单元包括基底和单层GST纳米块，所述单层GST纳米块设置于所述基底上，所述若干个超表面结构单元排布成具有特定方位角分布的螺旋相位阵列。本申请可以通过触发超表面结构单元上GST相变材料的相态的切换，实现对入射光束的OAM模式进行调制和切换。
oam 模式切换

[发明专利]一种基于偏振光技术的稻米籽粒新陈度无损定量检测方法及其系统-CN202111369297.5在审
发明人：吴跃;傅婕 -专利权人：中南林业科技大学
申请日： 2021-11-18 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于偏振光技术的稻米籽粒新陈度无损定量检测方法及其系统，所述方法包括：构建稻米籽粒的偏振光数据与稻米籽粒新陈度之间的定量分析模型，所述偏振光数据为结合RGB颜色空间的偏振光数据；获取待测稻米的偏振光数据，并根据所述定量分析模型确定所述待测稻米的新陈度。其中，本发明创造性的引入了偏振光技术，构建了偏振光数据与稻米籽粒新陈度之间的定量分析模型，用于稻米新陈度检测。其过程无需粉碎制备样品，可以原籽粒形式以实现更快速、更准确、更简单的无损稻米新陈度的检测。
一种基于偏振光技术稻米籽粒新陈度无损定量检测方法及其系统

[发明专利]一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统-CN201910328302.4有效
发明人：王春华;刘刚;李力;张亚丽;赵静静;黄宁新 -专利权人：上海大学
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统，包括：光源、透镜、第一偏振片、第一四分之一波片、消偏振分光棱镜、第一10倍物镜、目标物、第二10倍物镜、第二四分之一波片、第二偏振片、第一成像透镜、第一CMOS相机、第三四分之一波片、第三偏振片、第二成像透镜，第二CMOS相机和计算机；本发明的一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统，将这两种方式结合起来，通过一次实验可以同时得到目标物前向和后向Mueller矩阵，相比反射式偏振显微成像或透射式偏振显微成像可以更加全面的反映目标物的微观结构信息。
一种透射反射 mueller 矩阵偏振显微成像系统

[发明专利]一种基于纳米阵列结构的生物大分子检测方法及装置-CN202111229062.6在审
发明人：熊吉川;王宏泽;刘学峰;金霄;张衡;徐彬;刘卫平;倪斌 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于纳米阵列的生物大分子检测方法及装置，方法包括：获取纳米阵列基片上与纳米阵列结合的待检测生物大分子对应的散射原图；根据散射原图中每个像素点的光强变化信息，绘制初始偏振参数图谱；对初始偏振参数图谱进行降噪处理，获取待对比的偏振参数图谱；将待对比的偏振参数图谱与预设数据库中的偏振参数图谱进行对比，获取与待对比的偏振参数图谱一致的目标偏振参数图谱，根据目标偏振参数图谱，以及生物大分子的数量以及位置和偏振参数图谱的对照关系，快速确定纳米阵列上生物大分子的位置以及对应的生物大分子数量。本发明可以快速检测出低浓度的生物大分子。
一种基于纳米阵列结构生物大分子检测方法装置

[实用新型]一种双面电极极化的实时监测装置-CN202121406560.9有效
发明人：王东周;刘齐鲁;王孚雷;桑元华;刘宏 -专利权人：济南量子技术研究院
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双面电极极化的实时监测装置，其沿光传播方向依次包括光源、第一偏振片、电极极化装置、第二偏振片和成像系统，所述电极极化装置下方设有温度控制系统；所述电极极化装置内设有极化晶体，所述极化晶体朝向成像系统的一面镀膜透明导电材料；所述成像系统用于监测极化晶体的成像过程。
一种双面电极极化实时监测装置

[发明专利]一种基于椭圆偏振原理的空间电荷快速测量平台及方法-CN202111359436.6在审
发明人：李庆民;高浩予;任瀚文;程思闳;史昀祯;綦天润;王健;丛浩熹 -专利权人：华北电力大学
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于椭圆偏振原理的空间电荷快速测量平台及方法，所述平台包含激励发生模块、极化传感模块、椭圆偏振探测模块以及信号恢复校正系统，其中：激励发生模块主要由飞秒激光源、双电光分子电光聚合物以及光学镜组组成，用于产生太赫兹脉冲激励；极化传感模块包含高压电源以及弹光传感器，可实现极化电压施加，并保障激励脉冲的有效加载与弹性波信号可靠传播；椭圆偏振探测模块主要由氦氖激光源、光学斩波器、锁相放大器、光电平衡探测器以及光学镜组构成，用以实现电荷弹性波信号的快速测量；信号恢复校正系统主要用于空间电荷信息的处理还原，以及信号传变过程中所产生畸变的校正恢复。较传统空间电荷方法，椭圆偏振测量技术的引入可有效提高空间电荷测量速度，实现绝缘材料空间电荷分布状态的快速测量。
一种基于椭圆偏振原理空间电荷快速测量平台方法

[实用新型]分振幅同时偏振成像系统-CN202121208814.6有效
发明人：赵敏;朱一峰 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2021-06-01 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型的分振幅同时偏振成像系统，包括望远透镜组、分振幅偏振和成像透镜组三大模块。目标辐射光经过前置的望远透镜组后，压缩准直入射到分光棱镜分为两路光。其中一路透射光通过沃拉斯顿棱镜，分为两种不同偏振态的光。另一路反射光通过半波片和沃拉斯顿棱镜，分为两种不同偏振态的光。以夹角形式出射的四种偏振态光，经双轴分口径会聚透镜组聚焦在同一个成像探测器上。上述偏振成像系统共用一个前置物镜和成像探测器，一次曝光同时获取四个不同角度的偏振图像，减少探测器的使用数量，降低系统的成本和复杂度。采用双轴分口径会聚透镜组，将两个垂直方向的偏振状态光分别会聚成像，减小偏振图像像差，便于后期图像处理。
振幅同时偏振成像系统

[发明专利]一种基于液晶偏振光栅的线偏振方向检测方法-CN202111252506.8在审
发明人：郭琦;宣艳;张浩;赵慧洁 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于液晶偏振光栅的线偏振方向检测方法，该方法的关键技术在于偏振检测系统及偏振态解算算法。偏振检测系统核心由1/4波片和液晶偏振光栅构成。实际检测时调节1/4波片快轴方向与水平方向的夹角为0°和45°，采用光电探测器分别测量两种角度下液晶偏振光栅±1级衍射光束的强度。偏振态解算算法通过斯托克斯演算，由衍射光束强度解算出入射线偏振光束的偏振方向，实现对线偏振光的偏振态表征。该方法的优点在于其使用的器件数量少，光路简单，且元件易获得，成本较低，是一种具有实用价值的线偏振检测方法。
一种基于液晶偏振光栅方向检测方法

[发明专利]一种穆勒矩阵测量装置-CN202111260156.X在审
发明人：李泓毅;麦浩基;杨尚潘;刘碧旺;高墨涵;崔玮婷;黄鸿衡;吴南寿;曾亚光;钟俊平;韩定安 -专利权人：佛山科学技术学院;佛山市灵觉科技有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种穆勒矩阵测量装置，包括：光源、第一分光器、第二分光器、第一检偏器、接收光路、第二检偏器，光源产生多个不同偏振态的入射偏振光，经第一分光器分成两路入射偏振光；其中一路入射偏振光进入第一检偏器进行实时检偏；另一路入射偏振光经入射光路投射在样品上；接收光路接收样品被照射后所散射的出射光后传输至第二检偏器进行实时检偏；其中，光源包括多个用于分别产生不同偏振态的入射偏振光的发光组件、用于控制多个发光组件开关的控制器以及将多个发光组件发出的入射偏振光投射到第一分光器上的投射组件。本发明能够快速连续地转换入射偏振光的偏振态，满足对快速变化的样品进行穆勒矩阵测量。
一种穆勒矩阵测量装置

[发明专利]一种晶圆最大加工损伤的精准定位方法-CN201910721403.8有效
发明人：黄辉;崔长彩;廖信江;李慧慧 -专利权人：华侨大学
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆最大加工损伤的精准定位方法，在晶圆的非加工面沉积用于辅助测量的薄膜层，非加工面与加工面相互平行且呈背向设置，非加工面为光滑无损表面；再在晶圆的加工面进行至少一道减薄加工操作，并在每一道减薄加工操作之前后，将椭偏仪的入射光以设定的入射角扫描非加工面上的薄膜层，入射光在薄膜层和晶圆中经反射和折射后出射的椭偏信号经椭偏仪探测器接收，一旦在晶圆的辅助测量薄膜层上探测到的椭偏信号出现变化，则该出现椭偏信号变化对应的位置即为最大加工损伤位置。它具有如下优点：实现全局、无损、快速精准定位晶圆上的最大加工损伤位置，实时跟踪晶圆的加工状态，对实际晶圆的加工工艺的选择与优化具有重要的指导意义。
一种最大加工损伤精准定位方法