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[发明专利]光沉积制备Bi/BiVO₄复合光电阳极材料的方法-CN201610936131.X有效
发明人：王其召;牛腾娇;和继娟;白燕;张淑玲;佘厚德;王芳平 -专利权人：西北师范大学
申请日： 2016-11-01 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种光沉积制备Bi/BiVO₄复合光电阳极的方法，是将BiVO₄电极浸于Bi(NO₃)₃·5H₂O的乙二醇/水混合溶液中，光照使得在BiVO₄电极表明均匀生长一层灰黑色膜；用乙醇洗涤，即得Bi/BiVO₄复合光电阳极。本发明利用简单的光还原过程将Bi金属粒子成功的负载到了多孔BiVO₄薄膜上，而且金属Bi粒子的引入扩大了钒酸铋对可见光吸收范围；另外，金属Bi粒子中的电子转移到BiVO₄导带上从而提高载流子的浓度，在纯Na₂SO₄溶液中BiVO₄表面的空穴氧化了部分金属Bi纳米粒子，有效促进了电子‑空穴对的分离，提高了光电化学分解水的性能。
沉积制备 bi bivo4 复合光电阳极材料方法

[发明专利]用于制备金属结构的方法-CN201810354776.1在审
发明人： P.W.德奥里维拉;K.莫;E.阿茨 -专利权人：新型材料莱布尼兹研究所公益性有限责任公司
申请日： 2011-11-23 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备金属结构的方法，其中将包含光催化活性物质的引发剂组合物施加到基底上。向该层上涂覆通过纳米棒的光催化活性可还原成金属的前体组合物。然后将结构模板施加到引发剂层上，部分挤出前体组合物，接着辐照该基底。由此可以获得结构化金属结构。
前体组合物金属结构基底制备光催化活性物质施加引发剂组合物光催化活性结构化金属辐照结构模板纳米棒引发剂涂覆还原挤出金属

[实用新型]一种往复式光触媒浸涂装置-CN201721671558.8有效
发明人：刘飞俭 -专利权人：广东澄宇实业有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本实用新型是一种往复式光触媒浸涂装置。包括第二导向轴辊、带状浸涂网、水性涂料箱、电机、传动机构、第一导向轴辊、从动轴辊、紫外线灯管、紫外线光区、箱体，箱体底部装有水性涂料箱，箱体上部设有紫外线光区，紫外线光区内装有紫外线灯管，电机的输出轴与传动机构的主动件连接，带状浸涂网绕在传动机构的从动件、从动轴辊、第一导向轴辊、第二导向轴辊形成闭合环网结构，带状浸涂网经过水性涂料箱及紫外线光区。本实用新型的带状浸涂网一端浸入水性涂料箱的涂料中，反应过的旧涂层在池中溶解，带状浸涂网在运行过程中反复涂装新鲜含有纳米二氧化钛的涂料，通过紫外线光区，作为“催化剂”助力UV光电反应。且本实用新型水性涂料箱只需观察水性涂料箱的水位，适时补充清水即可。
水性涂料紫外线光浸涂导向轴辊本实用新型紫外线灯管从动轴辊浸涂装置光触媒往复式涂料电机纳米二氧化钛光电反应箱体上部运行过程浸入闭合环从动件旧涂层输出轴网结构主动件涂装催化剂溶解清水水位新鲜补充观察

[发明专利]一种利用CO₂激光裂解聚硅氧烷材料制备SiOC陶瓷涂层的方法-CN201610140988.0有效
发明人：刘军;乔玉林;薛胤昌;张平;臧艳 -专利权人：中国人民解放军装甲兵工程学院
申请日： 2016-03-11 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用CO₂激光裂解聚硅氧烷材料制备SiOC陶瓷涂层的方法。该方法首先制备聚硅氧烷材料的混合溶液，采用刷涂或喷涂法在铁基金属表面制备涂层A；在惰性气体保护下，使用连续高能可控激光扫描涂层A，使其发生反应，生成SiOC陶瓷涂层。本发明通过激光裂解聚硅氧烷材料制备陶瓷涂层，其制备周期短，陶瓷表面光滑且孔隙率低，所得陶瓷涂层具有良好的防腐耐磨特性。本发明为解决单纯铁基金属材料难以在某些苛刻工况下可靠服役提供了新的方法。
陶瓷涂层聚硅氧烷材料裂解制备惰性气体保护铁基金属材料制备聚硅氧烷制备陶瓷涂层表面制备混合溶液激光扫描连续高能耐磨特性陶瓷表面铁基金属制备周期孔隙率喷涂法可控刷涂光滑防腐激光

[发明专利]一种紫外光化学水浴沉积法制备硫化锌薄膜的方法-CN201510186561.X有效
发明人：张军;邵乐喜;廖峻;莫德云 -专利权人：岭南师范学院
申请日： 2015-04-20 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及半导体光电材料技术领域，提供了一种紫外光化学水浴沉积法制备硫化镉薄膜或硫化锌薄膜的方法。本发明将金属源CdSO4或ZnSO4、络合剂、含S2O32‑的硫源、H2SO4溶液混合，调节H2SO4溶液的加入量使混合液pH≥3.5，将衬底浸渍于混合液中，并保持液面与衬底的上底面的距离为2~5mm，紫外光照射，衬底上形成硫化镉或硫化锌薄膜。本发明首次采用紫外光化学水浴方法制备硫化镉或硫化锌薄膜，对比传统化学浴法，紫外光化学水浴法只在光照的位置发生反应而沉积薄膜，通过控制紫外光源光斑的位置和形状即可控制薄膜形状，通过光照时间控制薄膜厚度，材料利用率高，产生的废液也少很多，制备得到无针孔、均匀一致的高质量薄膜。
一种紫外光化学水浴沉积法制硫化薄膜硫化锌方法

[发明专利]一种通过γ辐照制备石墨烯基纳米贵金属复合材料的新方法-CN201510644597.8有效
发明人：徐志伟;岳云豪;吴腾飞;王维;陈磊 -专利权人：天津工业大学
申请日： 2015-09-25 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开的是一种通过γ辐照制备石墨烯基纳米贵金属复合材料的新方法。其内容包括氧化石墨吸附贵金属离子，通过γ辐照来诱导贵金属离子还原，氧化石墨会随着片层间贵金属纳米颗粒的形成和生长逐渐剥离，并且氧化石墨也会在辐照作用下还原，最终获得石墨烯基纳米贵金属复合材料。本发明的优势在于(1)以氧化石墨为原料，利用贵金属纳米颗粒的形成与生长来剥离氧化石墨，最终得到石墨烯，降低了制备成本；(2)能够实现贵金属与氧化石墨的一步还原，简化了工艺流程；(3)整个制备过程条件温和易调控，安全性高；(4)γ辐照能效高，穿透力强，有利于材料的大批量制备，能够推进石墨烯基纳米贵金属复合材料的工业化进程。
一种通过辐照制备石墨纳米贵金属复合材料新方法

[发明专利]一种具有自清洁功能石墨烯基薄膜的制备方法-CN201410472524.0有效
发明人：张东;李秀强 -专利权人：同济大学
申请日： 2014-09-16 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有自清洁功能石墨烯基薄膜的制备方法，分别配制氧化石墨烯分散液与二氧化钛分散液，并将氧化石墨烯分散液与二氧化钛分散液共混后得到氧化石墨烯/二氧化钛分散液，将氧化石墨烯/二氧化钛分散液喷射到目标基板上，得到氧化石墨烯基薄膜；紫外光照射氧化石墨烯基薄膜，对其还原，得到具有自清洁功能石墨烯基薄膜。与现有技术相比，本发明通过喷涂制备氧化石墨烯基薄膜，在利用紫外光照射，所制备的石墨烯基薄膜具有一定的导电性的同时，也具有一定的自清洁功能。同时本发明的石墨烯基薄膜可进一步将其应用于石墨烯基导电涂层及石墨烯基表面应变传感器等领域。
一种具有清洁功能石墨薄膜制备方法

[发明专利]生产氧化锌膜的方法-CN201610602132.0在审
发明人：松下伸广;清野裕斗 -专利权人： NEC东金株式会社;国立大学法人东京工业大学
申请日： 2016-07-27 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：一种根据本发明用于生产氧化锌膜的方法，其包括混合锌盐、氨水和有机酸以制备含有锌氨络合物的源溶液的步骤(步骤1)；使用源溶液以液相沉积法在基底上沉积氧化锌膜的步骤(步骤2)；以及采用UV光照射所沉积的氧化锌膜以从沉积的氧化锌膜除去有机酸的步骤(步骤3)。本发明可以提供了一种用于生产氧化锌膜的方法，其可以简化生产装置的结构。
生产氧化锌方法

[发明专利]面向生物油应用的内燃机活塞环摩擦表面涂层及其制备方法-CN201410502675.6有效
发明人：徐玉福;彭玉斌;郑晓静;张斌;胡献国 -专利权人：合肥工业大学
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种面向生物油应用的内燃机活塞环摩擦表面涂层及其制备方法，该涂层的组成为Ni‑MoS2‑GO‑P复合材料，本发明的制备方法采用激光诱导活塞环摩擦表面微织构与化学镀同步涂层工艺，其特征是利用激光诱导方法控制Ni、MoS2、GO与P以特定比例在活塞环摩擦表面微织构的同时沉积在其摩擦表面，从而制备出具有良好防腐耐磨作用的涂层。本发明的优点是制备过程简便易操作，成本较低，涂层与基体结合力强，涂层表面晶粒均匀可控，根据需要调节涂层微织构三维形貌与涂层厚度，进而可实现生物油环境下对内燃机活塞环摩擦表面起到有效防护作用。
面向生物应用内燃机活塞环摩擦表面涂层及其制备方法

[发明专利]用于在衬底上沉积抗蚀剂薄层的设备和工艺-CN201280061213.4有效
发明人： G.M.丹纳;H.G.加特斯;V.S.塔拉索夫;P.E.凯恩;P.G.梅登;E.M.萨赫斯 -专利权人： 1366科技公司
申请日： 2012-10-12 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明涉及薄聚合物膜在衬底上的形成。描述了一种设备，该设备用于将固体聚合物抗蚀剂转化为小颗粒的气溶胶，使颗粒带静电并将其沉积在衬底上，并且使颗粒流动为连续的层。还描述了一种设备，该设备用于通过加热抗蚀剂以形成例如适合雾化的低粘度液体并且应用射流或冲击雾化以及气溶胶颗粒定径的技术来形成气溶胶，从而将固体聚合物抗蚀剂转化为小颗粒的气溶胶。还描述了使用电离气体在气溶胶颗粒上赋予电荷以及使用一系列充电装置建立将带电颗粒流导向至衬底的电场的方法。该系列充电装置和相关联的设备导致气溶胶颗粒的高收集效率。
用于衬底沉积抗蚀剂薄层设备工艺

[发明专利]铜膜形成用组合物和使用其的铜膜的制造方法-CN201580007860.0在审
发明人：阿部徹司;斋藤和也 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2015-02-04 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明提供：涂布在基体上，通过使用氙灯的闪光灯法进行处理，从而能够以低温且低能量得到具有充分的导电性且与基体的密合性高的铜膜的、不含微粒等固相的溶液状的铜膜形成用组合物。一种铜膜形成用组合物，其含有：甲酸铜或其水合物；选自由下述通式(1)所示的化合物和下述通式(1’)所示的化合物组成的组中的至少1种二醇化合物；特定的色素化合物；和，用于溶解这些成分的有机溶剂，将甲酸铜或其水合物的含量和乙酸铜或其水合物的含量的总计设为1摩尔/kg时，以0.1～6.0摩尔/kg的范围含有二醇化合物。
形成组合使用制造方法

[发明专利]光纤端面沉积金属纳米颗粒分层阵列的方法及装置-CN201510942827.9在审
发明人：汤自荣;朱桅;史铁林;黄捷;周腾远 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2015-12-16 - 公布日： 2016-04-20 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种光纤端面沉积金属纳米颗粒分层阵列的方法及装置。该方法包括：先后用食人鱼洗液和硅烷溶液对光纤端面进行预处理，在光纤端面形成一层易于同金属纳米颗粒牢固结合的单分子层；配制含有金属盐和还原剂的还原溶液，使两束激光在还原溶液中相交并产生干涉；将光纤端面置于还原溶液中两束激光的相交区域，在光纤端面形成与干涉光斑对应的周期性金属纳米颗粒分层阵列。沉积反应的光由两路激光产生干涉形成，避免了光纤对反应光的影响，使光纤端面银纳米颗粒沉积的可控性更强。
光纤端面沉积金属纳米颗粒分层阵列方法装置

[实用新型]一种铜锌锡硫薄膜的沉积装置-CN201520237864.5有效
发明人：张军;莫德云;邵乐喜;廖峻;何伟坚;彭晓霞 -专利权人：岭南师范学院
申请日： 2015-04-20 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制备技术领域，具体公开了一种铜锌锡硫薄膜的沉积装置，该装置是基于脉冲光化学的方法设计得到，包括源溶液供应装置、溶液混合装置、光化学反应装置和脉冲紫外光光源系统，所述脉冲紫外光光源系统位于光化学反应装置的上端；将沉积薄膜所需的溶液在溶液混合装置里进行混合，混合溶液进入光化学反应装置，脉冲紫外光的照射下即可在衬底上沉积铜锌锡硫薄膜。
一种铜锌锡硫薄膜沉积装置

[实用新型]一种紫外光化学水浴沉积法制备薄膜的装置-CN201520237801.X有效
发明人：张军;邵乐喜;廖峻 -专利权人：岭南师范学院
申请日： 2015-04-20 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种紫外光化学水浴沉积法制备薄膜的装置。该装置包括源溶液供应装置、溶液混合装置、紫外光化学反应装置和紫外光光源系统，所述源溶液供应装置通过管道与溶液混合装置连通，所述溶液混合装置的出液口通过管道与紫外光化学反应装置的进液口连通，所述紫外光化学反应装置的出液口再通过回流管道与溶液混合装置的进液口连通，所述紫外光光源系统在紫外光化学反应装置上方。本实用新型装置结构简单，通过控制紫外光源光斑的位置和形状即可控制薄膜形状，通过光照时间控制薄膜厚度，反应溶液可以循环利用，材料利用率高，非常适合用于紫外光化学水浴法制备薄膜，利于制备得到无针孔、均匀一致的高质量薄膜，适合于规模化工业生产。
一种紫外光化学水浴沉积法制薄膜装置

[发明专利]提供不透气性改进的多层结构-CN201280058112.1有效
发明人：史铁番·克里斯;妮可·阿尔贝罗拉;珍-保勒·加弘德;阿诺·摩利耶 -专利权人：原子能和替代能源委员会
申请日： 2012-09-24 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： C23C18/14 文献下载
摘要：本申请描述了一种多层结构以及用于获得所述多层结构的方法。所述多层结构包括基底(2)和第一叠层，所述第一叠层由SiO₂层(A)和由SiO_xN_yH_z类材料制成的层(B)组成，所述由SiO_xN_yH_z类材料制成的层(B)定位在所述基底(2)和所述SiO₂层(A)之间；其中，所述SiO₂层(A)和所述由SiO_xN_yH_z类材料制成的层(B)具有厚度(e_B、e_A)，以便所述SiO₂层(A)的厚度小于或等于60nm，所述由SiO_xN_yH_z类材料制成的层(B)的厚度(e_B)为所述SiO₂层(A)的厚度(e_A)的两倍以上，并且所述SiO₂层(A)的厚度与所述由SiO_xN_yH_z类材料制成的层(B)的厚度的总和在100nm至500nm之间；并且其中，z严格地为正值并且严格地小于比值(x+y)/5，有利地，z严格地小于比值(x+y)/10。所述生产方法包括：通过波长小于或等于220nm的VUV射线和波长大于或等于220nm的紫外辐射的辐照，使全氢聚硅氮烷类的液体无机前体进行转化。
提供不透气性改进多层结构