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[发明专利]成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法-CN202011483391.9有效
发明人：石井博;柏仓一史 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供抑制由吸附于静电卡盘时的静电卡盘与基板的相对位置偏移导致的吸附力的降低的成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。成膜装置使成膜材料隔着掩模在基板上成膜，包括：第1基板支承部，配置在腔室内，支承基板的第1边的周缘部；第2基板支承部，配置在腔室内，支承与第1边相向的第2边的周缘部；基板吸附部件，配置在腔室内的第1及第2基板支承部上方，用于吸附基板；位置调整部件，用于进行基板吸附部件与基板间的对位；以及控制部，控制第1及第2基板支承部朝向基板吸附部件的升降。在控制部使第1及第2基板支承部中的至少一方朝向基板吸附部件上升后且在基板的吸附开始前，位置调整部件进行基板吸附部件与基板间的对位。
装置方法电子器件制造

[实用新型]掩模组件以及用于制造显示装置的装置-CN202222711572.3有效
发明人：金世一;金珉奭;朴钟圣;李尚玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及掩模组件以及用于制造显示装置的装置。所述掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；第一掩模，布置在所述掩模框架上并且在对应于所述开口区域的区域中包括至少一个第一开口部分；以及第二掩模，布置在所述第一掩模上并且包括多个第二开口部分，其中所述多个第二开口部分在垂直于所述第一掩模的表面的方向上与所述至少一个第一开口部分重叠。
模组以及用于制造显示装置装置

[实用新型]掩模组件及包括掩模组件的显示装置的制造装置-CN202222696144.8有效
发明人：李锺大;张原荣 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了掩模组件和包括掩模组件的显示装置的制造装置。本实用新型包括：掩模框架，具有开口区域并且具有槽；多个掩模片，布置于所述开口区域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。
模组包括显示装置制造装置

[实用新型]掩模组件和用于制造显示装置的设备-CN202221113109.2有效
发明人：金相勳;朴钟圣;安洪均;李相信;蒋敏智 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-05-10 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种掩模组件。所述掩模组件包括：第一掩模区域，包括第一开口区域；以及第二掩模区域，包括第二开口区域、半蚀刻区域和非蚀刻区域，非蚀刻区域围绕第二开口区域和半蚀刻区域。第二开口区域中的每个包括基体部和从基体部突出的至少一个突出部。因此，掩模组件能够通过使掩模工艺中的掩模组件和工艺对象之间的排斥力的产生最小化来防止在掩模工艺中可能发生的缺陷。
模组用于制造显示装置设备

[发明专利]一种掩膜版、OLED显示屏及其制备方法-CN202211319136.X在审
发明人：安北燕;罗锦钊;胡君文 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜版，掩膜版上设有对应于显示面板AA区的第一区域和位于第一区域外围的第二区域，掩膜版上设有镂空区，镂空区用于在显示面板上蒸镀阴极材料形成阴极层，镂空区包括位于第一区域的第一镂空区、位于第二区域的第二镂空区和第三镂空区，第一镂空区对应于显示面板上的OLED区域，第二镂空区和第三镂空区对应于显示面板上的阴极信号走线区，第二镂空区、第三镂空区在第二区域上组合形成半包围图形，半包围图形围绕第一镂空区，第二镂空区连通第一镂空区。本发明对掩膜版上的镂空区进行设计，使得显示面板上形成的阴极层仅覆盖OLED区域和阴极信号走线区，有效地减小了阴极层的覆盖面积，减轻了阴极层对光线的阻挡，提升了显示屏的出光率。
一种掩膜版 oled 显示屏及其制备方法

[发明专利]掩膜板、显示背板、显示装置以及掩膜板的制备方法-CN202211668273.4在审
发明人：张峰杰;王路;王伟杰;孙中元;薛金祥 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种掩膜板、显示背板、显示装置以及掩膜板，其中，掩膜板包括：掩膜框；掩膜条，连接于掩膜框，掩膜条朝向蒸镀基板的一侧具有支撑面，支撑面设有开孔区域；掩膜片，连接于支撑面朝向蒸镀基板的一侧，掩膜片的朝向蒸镀基板的表面设有减薄区域，减薄区域沿远离蒸镀基板的方向凹陷形成，减薄区域设有多个蒸镀通孔，多个蒸镀通孔与蒸镀基板上的多个第一目标子像素一一对应，且蒸镀通孔的形状与第一目标子像素的预设形状对应；其中，多个开孔区域与多个减薄区域一一对应且正对设置，开孔区域的正投影面积大于减薄区域的正投影面积。根据本申请的技术，有利于减小掩膜片与蒸镀基板之间的间隙，降低了蒸镀工艺中的蒸镀阴影效应。
掩膜板显示背板显示装置以及制备方法

[发明专利]掩膜装置及蒸镀设备-CN202211449309.X在审
发明人：许灿宏 -专利权人：乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜装置及蒸镀设备，其中，掩膜装置包括掩膜版、挡板机构、检测件和第一控制器，掩膜版贯穿设置有第一开口，第一开口内设有多个掩膜条，并形成有多个蒸镀区域，挡板机构设置在掩膜版的下表面，挡板机构包括底座、驱动件和挡板，底座设置有与第一开口连通的第二开口，第二开口的侧壁设置有安装槽，驱动件和挡板均设置在安装槽内，驱动件与挡板连接，检测件和驱动件均与第一控制器连接。本发明的掩膜装置能够通过检测件检测玻璃基板是否破裂和是否脱落，在玻璃基板脱落前，挡板能够自动伸出安装槽外并封堵第二开口，以承接掉落的玻璃基板，从而防止玻璃基板掉落在蒸镀设备内，无需停机清理玻璃基板，有利于提高生产效率。
装置设备

[发明专利]一种精细掩膜版-CN202211523980.4在审
发明人：刘文祺;王伟杰;张粲;孙中元;焦志强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供一种精细掩膜版，该精细掩膜版包括本体，本体上设有掩模图形；本体包括：硅基衬底；位于硅基衬底之上的无机膜层，无机膜层具有压应力；及位于硅基衬底之上的应力调整层，应力调整层具有张应力，张应力与压应力的应力性质相反且相互抵消。本发明实施例提供的精细掩膜版能够减少精细掩膜版的翘曲下垂等不平整现象。
一种精细掩膜版

[发明专利]硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版-CN202211659294.X在审
发明人：刘志文;季渊 -专利权人：南京昀光科技有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅基显示面板及其蒸镀层的制备方法、掩膜版，该掩膜版用于制备硅基显示面板的蒸镀层，包括：至少一个开口部和围绕各开口部的遮挡部；遮挡部的第一表面设置有支撑结构；在平行于遮挡部的第一表面的方向上，支撑结构的尺寸小于遮挡部的尺寸；在采用掩膜版蒸镀蒸镀层时，支撑结构与硅基显示面板的硅基衬底接触。本发明的技术方案通过在遮挡部的第一表面设置支撑结构，且在平行于遮挡部的第一表面的方向上，支撑结构的尺寸小于遮挡部的尺寸，使采用该掩膜版蒸镀硅基显示面板的蒸镀层时，仅支撑结构与硅基显示面板的硅基衬底接触，从而可以减少掩膜版上附着的粉尘微粒转移到硅基衬底，进而提高硅基衬底的洁净度，提高产品性能。
显示面板及其镀层制备方法掩膜版

[发明专利]一种电致变色后视镜上的遮掩环的制备工艺-CN202211644109.X在审
发明人：郑建明;盛凯 -专利权人：常州雅谱新材料有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种电致变色后视镜上的遮掩环的制备工艺，工艺的步骤中含有：提供一透明基底；将透明基底的镀膜表面上除遮掩环的其余部分通过涂覆隔离涂料遮挡；对透明基底的镀膜表面进行镀膜，形成镀层；镀膜后将透明基底的镀膜表面上的隔离涂料和其上覆盖的镀层清除，剩余的镀层即为遮掩环，最后烘干得到带遮掩环的透明基底。它能够保证遮掩环成膜质量的同时，工艺过程较为简单，并且可以大幅提高生产效率。
一种变色后视镜遮掩制备工艺

[发明专利]蒸镀掩模的制造方法-CN202211142523.0在审
发明人：福田加一 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2022-09-20 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种用简单的方法来制造蒸镀效率优异的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法包括：将抗蚀剂图案作为掩模来形成第一镀层的步骤；使所述抗蚀剂图案变形的步骤；和将变形后的所述抗蚀剂图案作为掩模，在所述第一镀层之上形成第二镀层的步骤。通过使所述抗蚀剂图案变形，可以使变形后的所述抗蚀剂图案与所述第一镀层的一部分重叠。
蒸镀掩模制造方法

[发明专利]一种光学窗口镀膜的工艺方法及其成型模具-CN202110383864.6有效
发明人：李汇鑫 -专利权人：武汉致拓光电科技有限公司
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种光学窗口镀膜的工艺方法及其成型模具，所述方法采用多个工装实现，包括：在第一工装的预设位置放置待镀膜的光学窗口；在第一工装上方放置第二工装，使第二工装上的开口位置对准光学窗口，进行光学镀膜；取下第二工装，在第一工装上方放置第三工装，使第三工装的开口位置对准光学窗口；在第三工装表面贴覆一层固态胶膜，使固态胶膜与光学窗口的暴露部分紧密粘合；依据环形金属镀膜的内径尺寸，对固态胶膜进行激光切割，保留覆盖在光学窗口非金属镀膜区域的固态胶膜，去除多余的固态胶膜；取下第三工装，对光学窗口进行金属镀膜；去除覆盖在光学窗口非金属镀膜区域的固态胶膜。
一种光学窗口镀膜工艺方法及其成型模具

[发明专利]成膜装置-CN202011292113.5有效
发明人：关谷任史;木村龙司;新海达也;冈部俊介 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种抑制对准精度降低的成膜装置。本发明的成膜装置具备：容器；所述容器的外部的基座支承体；所述容器内的基板保持件；所述容器内的掩模保持件；基板保持件驱动机构；掩模保持件驱动机构；基板保持件驱动机构支承体，其与所述基座支承体连接；掩模保持件支承体，其与所述基座支承体连接，支承所述掩模保持件；所述基座支承体与所述基板保持件驱动机构之间的振动传递抑制构件；以及对准用相机单元，其设置于所述容器的外部且设置于所述掩模保持件支承体，用于测定基板与掩模的相对位置偏移。
装置

[实用新型]一种用于碳化硅电极制备的抽拉式掩模夹具-CN202223054704.6有效
发明人：梁红伟;韩中元;张克雄;柳阳;张振中;张贺秋;张赫之;马浩然;夏晓川 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型属于掩模夹具技术领域，公开了一种用于碳化硅电极制备的抽拉式掩模夹具，包括掩模夹具本体，其上分为均匀分布的四个镂空方孔和用于可调整图形化掩模位置的镂空滑轨；若干抽屉式掩模，用于实现图形化电极，其上开有用于精细对准的对准圆孔。本实用新型的用于碳化硅电极制备的抽拉式掩模夹具，通过抽屉式多层可抽动的掩模版设计，和不同图案掩模的嵌套组合，有效解决了实验用碳化硅样品，多层电极尺寸对准精度不高，频繁更换样品引入沾污，多个分立掩模成本过高，不易保存等问题。本掩模夹具制备节约成本，可用于实验用多层复杂的电极结构制备。
一种用于碳化硅电极制备抽拉式掩模夹具

[发明专利]成膜装置、制造系统、有机EL面板的制造系统-CN201911073583.X有效
发明人：姫路俊明 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供即使成膜室发生变形或在成膜室的内外产生振动，对准机构的动作也难以受到影响，而且轻量的成膜装置的成膜装置、制造系统、有机EL面板的制造系统。成膜装置(100)具备：真空腔室；对准驱动部(15)，配置于真空腔室的外部，对配置于真空腔室之中的掩模与基板的相对位置进行调整；以及框体，经由配置在真空腔室的侧壁(1S)之上的腿部(22)固定在真空腔室之上，框体具有与真空腔室的侧壁平行的多个梁(23、24、25)，在固定于多个梁且与真空腔室的顶板隔开间隔地被支承的支承板(21)上，固定有对准驱动部(15)。
装置制造系统有机 el 面板