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- [发明专利]液滴释放装置和液滴释放方法-CN202210262846.7在审
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三根阳介
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东京毅力科创株式会社
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2022-03-17
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2022-10-04
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B05B12/08
- 本发明的液滴释放装置和液滴释放方法能够稳定地进行液滴的释放状态的检查。液滴释放装置包括输送机构、多个释放头、检查台、介质输送部和拍摄部。输送机构沿着输送方向输送工件。多个释放头对工件释放功能液的液滴。检查台吸附检查用介质,该检查用介质接收从多个释放头释放的检查用的液滴。介质输送部在与输送方向正交的方向上输送检查用介质。拍摄部拍摄被释放到检查用介质的液滴。检查台具有多个第一分割台和多个第二分割台。多个第一分割台沿着正交的方向彼此连结。多个第二分割台相对于多个第一分割台在输送方向上相邻地配置,且沿着正交的方向彼此连结,多个第二分割台的接缝位于与多个第一分割台的接缝在输送方向上不重叠的位置。
- 释放装置方法
- [发明专利]图案喷涂检测系统-CN202111057773.X有效
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何文浩;郭跃;宋海涛;李云松;叶昌键
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中国科学院自动化研究所
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2021-09-09
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2022-09-27
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B05B12/08
- 本发明提供一种图案喷涂检测系统,图案喷涂检测系统包括两个激光线发射器、灰度相机以及数据处理装置,灰度相机与数据处理装置通信连接;数据处理装置包括:第一获取模块用于基于灰度相机获取喷枪运动前后,两个激光线发射器投影在喷涂平面上的两条激光线段的端点位置;第一计算模块用于基于两条激光线段的端点位置,得到喷枪运动前后的位置关系;喷枪运动前后的位置关系包括喷枪运动前后的距离和/或角度;喷枪运动前后的位置关系用于调整喷枪的喷涂位姿。本发明提供的图案喷涂检测系统,可以帮助解决现有技术中在喷涂完成后,不便对存在问题的喷涂区域进行修正的缺陷,实现帮助优化喷涂轨迹和喷涂位姿,提高喷涂质量。
- 图案喷涂检测系统
- [发明专利]一种出水阀-CN202111409720.X有效
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鲍先启
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浙江大农机器有限公司
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2021-11-19
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2022-09-23
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B05B12/08
- 本发明属于阀体技术领域,特指一种出水阀,包括具有出水孔的阀体,出水孔内设有限位环面,限位环面上开设有吸剂槽,阀体上设有吸剂通道,吸剂通道内设有单向组件,出水孔上分别滑动连接有文氏管体以及活塞环套,文氏管体的内孔孔径内端大于外端,液体低压时,文氏管体在弹性件下向外滑动抵靠贴合在限位环面上、且吸剂孔与吸剂槽连通;液体高压时,活塞环套在水压压力下推动文氏管体克服弹性件向内滑动。本发明结构巧妙、设计合理,在低压作业时、借助文氏管体中液体流动所产生的负压而将剂液吸入阀体内,进而达到清洁剂自动混合的目的;而在高压清洗作业时,自动停止对剂液的吸入混合,并减小吸剂结构造成的压力损失,这过程无需人为干预。
- 一种水阀
- [实用新型]一种水管用机械加压结构-CN202123265992.5有效
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王永春
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江苏信息职业技术学院
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2021-12-23
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2022-09-23
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B05B12/08
- 本实用新型公开了一种水管用机械加压结构,包括喷管,喷管的内部设置有加压机构,加压机构的外侧设置有调节机构,加压机构包括固定杆,固定杆的两端分别固定连接在喷管的两端内壁上,固定杆的上表面中心处固定连接有支撑杆,支撑杆插接在插孔内部,本实用新型的有益效果是:通过转动的螺纹筒挤压螺纹面,使螺纹筒旋转上移,螺纹筒上移时带动环形槽上移,环形槽带动内部卡接的固定块上移,固定块上移时带动圆块上移,圆块上移时使锥面靠近锥槽,进而使锥槽和锥面之间的空间减小,当水流从喷管下端通过圆孔通入锥槽和锥面之间的空间时,由于空间减小进而会导致水流受到的压力增加,进而使用户可以根据用水需要调节水流的的流速。
- 一种水管机械加压结构
- [实用新型]液滴释放装置-CN202220582362.6有效
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三根阳介
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东京毅力科创株式会社
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2022-03-17
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2022-09-13
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B05B12/08
- 本实用新型的液滴释放装置能够稳定地进行液滴的释放状态的检查。液滴释放装置包括输送机构、多个释放头、检查台、介质输送部和拍摄部。输送机构沿着输送方向输送工件。多个释放头对工件释放功能液的液滴。检查台吸附检查用介质,该检查用介质接收从多个释放头释放的检查用的液滴。介质输送部在与输送方向正交的方向上输送检查用介质。拍摄部拍摄被释放到检查用介质的液滴。检查台具有多个第一分割台和多个第二分割台。多个第一分割台沿着正交的方向彼此连结。多个第二分割台相对于多个第一分割台在输送方向上相邻地配置,且沿着正交的方向彼此连结,多个第二分割台的接缝位于与多个第一分割台的接缝在输送方向上不重叠的位置。
- 释放装置
- [发明专利]供液系统-CN202210597515.9在审
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赵春雨;葛斌;陈广进;李华;闻旭
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华虹半导体(无锡)有限公司
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2022-05-30
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2022-09-02
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B05B12/08
- 本申请公开了一种供液系统,其用于向半导体制造业中的生产系统提供特定液体材料,该特定液体材料为光刻胶、顶部抗反射涂层或聚酰亚胺,该系统包括:存储罐,其用于存储特定液体材料;至少一个缓存罐,每个缓存罐用于缓存从存储罐中输送的特定液体材料,在缓存的过程中,当需要对缓存罐进行抽真空处理时,通过真空系统对缓存罐进行抽真空处理,使缓存罐内部的压力降至预设气压以下;控制器,用于对加压系统、供给系统和真空系统进行控制,加压系统是与存储罐和缓存罐连接用于施加气压的管道系统,供给系统是与存储罐和缓存罐连接用于流通特定液体材料的管道系统,真空系统是与缓存罐连通用于对缓存罐进行抽真空处理的管道系统。
- 系统
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