[发明专利]取向性化学吸附单分子膜的制造方法无效

专利信息
申请号: 99103654.9 申请日: 1999-03-11
公开(公告)号: CN1228543A 公开(公告)日: 1999-09-15
发明(设计)人: 小川一文;野村幸生;大竹忠 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02F1/13
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张元忠,杨丽琴
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 向性 化学 吸附 分子 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种取向性化学吸附单分子膜的制造方法,该方法包括:工序(A)准备一种表面亲水性的基材,使含有碳链或硅氧烷结合链的硅烷系表面活性剂与此表面接触,借助两者起化学反应使该硅烷系表面活性剂分子的一端与该基材表面结合固定而形成化学吸附单分子膜;工序(B)所述基材在朝向指定方向的状态下用有机溶剂蒸气进行蒸气洗涤,此时借助凝结在该基材表面上的有机溶剂的液流,使组成该单分子膜的、结合固定在该基材表面上的分子进行一次取向。

2.按照权利要求1的制造方法,其中连同工序(A)和工序(B)在内,还包括工序(C)用偏振光照射该结合固定分子的一次取向化学吸附单分子膜,使该结合固定的分子朝向该偏振方向进行二次取向。

3.按照权利要求2的制造方法,其中作为上述硅烷系表面活性剂,是含有感光性基,和至少一种直链碳链和硅氧烷结合链的分子链,和至少一个选自氯甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸甲硅烷酯基的官能团的硅烷系表面活性剂。

4.按照权利要求3的制造方法,其中该感光性基是至少一个选自肉桂酰基、查耳酮基,异丁烯酰基和联乙炔基的官能团。

5.按照权利要求1的制造方法,其中作为上述硅烷系表面活性剂,是含有至少一个选自三氟甲基、甲基、乙烯基、烯丙基、乙炔基、苯基、芳基、卤原子、烷氧基、氰基、氨基、羟基、羰基、酯基和羧基的官能团的硅烷系表面活性剂。

6.按照权利要求1的制造方法,其中作为硅烷系表面活性剂,是含有直链碳链和硅氧烷结合链的至少一种分子链,和至少一个选自氯甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸甲硅烷酯基的官能团的硅烷系表面活性剂,把不含水的非水有机溶剂用作该蒸气洗涤用有机溶剂。

7.按照权利要求6的制造方法,其中作为上述非水有机溶剂,是含有至少一个选自烷基、氟代烃基、氯代烃基、和硅氧烷基的官能团的非水有机溶剂。

8.按照权利要求1的制造方法,其中工序(A)中,含有大量SiO基的涂膜在基材表面上形成,借助于此涂膜形成单分子膜。

9.一种使用权利要求1的取向性化学吸附单分子膜制造方法来制造液晶取向膜的方法,其特征在于,工序(A)中该基材是配备有电极的基板,使该硅烷系表面活性剂与至少此电极的侧表面接触。

10.按照权利要求9的液晶取向膜的制造方法,其中连同工序(A)和工序(B)在内,还包括工序(D)对该结合固定分子的一次取向单分子膜进行光照射,使该感光性基相互聚合或交联使该取向状态固定化。

11.按照权利要求10的液晶取向膜的制造方法,其中该工序(D)中,借助对单分子膜进行偏振光照射,使固定而且取向的分子二次取向的同时,导致该感光性基相互聚合或交联使该二次取向状态固定化。

12.一种多畴液晶取向膜的制造方法,其特征在于在权利要求11的液晶取向膜制造方法中用图案状偏振光照射2次以上。

13.按照权利要求9的液晶取向膜的制造方法,其中作为上述硅烷系表面活性剂,是含有至少一个选自氯甲硅烷基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸甲硅烷酯基的官能团的硅烷系表面活性剂。

14.按照权利要求10的液晶取向膜的制造方法,其中该感光性基是至少一个选自肉桂酰基、查耳酮基,异丁烯酰基和联乙炔基的感光性基。

15.按照权利要求9的液晶取向膜的制造方法,其中作为上述硅烷系表面活性剂,是多种硅烷系表面活性剂相混合。

16.按照权利要求15的液晶取向膜的制造方法,其中把长度不同的多种硅烷系表面活性剂混合用作该硅烷系表面活性剂,借助改变混合物中较短硅烷系表面活性剂分子的长度,把该混合物中最长硅烷系表面活性剂分子对基板的倾度调节成一定角度。

17.按照权利要求15的液晶取向膜的制造方法,其中混合使用长度不同的多种硅烷系表面活性剂用作该硅烷系表面活性剂,借助改变该多种硅烷系表面活性剂的混合比,把该混合物中最长硅烷系表面活性剂分子对基板的倾度调节成一定角度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/99103654.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top