[发明专利]清洗装置及清洗方法无效

专利信息
申请号: 98106441.8 申请日: 1998-01-24
公开(公告)号: CN1194454A 公开(公告)日: 1998-09-30
发明(设计)人: 上川裕二;上野钦也;中敏 申请(专利权)人: 东京电子株式会社
主分类号: H01L21/302 分类号: H01L21/302;H01L21/304;B08B3/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨丽琴
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 清洗 装置 方法
【权利要求书】:

1、一种清洗装置,其特征是,具有下述机构:

贮留处理液,将被处理的基板浸入贮留的处理液中的处理槽,

配置在上述处理槽的上方,在与处理槽之间设置有输送被处理基板用开口部的干燥室,

通过上述开口部在上述处理槽与干燥室之间输送被处理基板的输送机构,

防止从上述处理槽朝干燥室内流入气体,而向上述干燥室内导入惰性气体的机构,

将上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构。

2、根据权利要求1所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部的开闭机构。

3、根据权利要求1所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部,在关闭时封闭住上述干燥室的开闭机构。

4、根据权利要求1所述的清洗装置,其特征是,将上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构带有,将含有有机溶剂的气体排出到上述干燥室内的喷嘴,该喷嘴是在将直径不同的多根管道以相互在圆周面上间隔的状态而装配成的,在内侧的管道上沿着管道的轴线方向以一定的间隔设置多个气体喷孔,并且,在外侧的管道上沿着管道的轴线方向以比管道中一个内侧管道上气体排出孔的间隔更小的间隔设置多个气体排出孔。

5、一种清洗装置,其特征是,具有下述机构:

贮留处理液,将被处理的基板浸入贮留的处理液中的处理槽,

配置在上述处理槽的上方,在与处理槽之间设置有输送被处理基板用开口部的干燥室,

通过上述开口部在处理槽与干燥室之间输送被处理基板的输送机构,

将上述开口部通过惰性气体气流层进行遮蔽的遮蔽机构,

将上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构。

6、根据权利要求5所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部的开闭机构。

7、根据权利要求5所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部,在关闭时封闭住上述干燥室的开闭机构。

8、根据权利要求5所述的清洗装置,其特征是,将上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构带有,将含有有机溶剂的气体排出到上述干燥室内的喷嘴,该喷嘴是在将直径不同的多根管道以相互在圆周面上间隔的状态而装配成的,在内侧的管道上沿着管道的轴线方向以一定的间隔设置多个气体喷孔,并且,在外侧的管道上沿着管道的轴线方向以比管道中一个内侧管道上气体排出孔的间隔更小的间隔设置多个气体排出孔。

9、一种清洗装置,其特征是,具有下述机构:

贮留处理液,将被处理的基板浸入贮留的处理液中的处理槽,

配置在上述处理槽的上方,在与处理槽之间设置有输送被处理基板用开口部的干燥室,

通过上述开口部在处理槽与干燥室之间输送被处理基板的输送机构,

使上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构,和

切断上述开口部的切断机构;

所述切断机构带有,可自由开闭开口部而设置的一对第1门和第2门,该第1门在与第2门相对的前端部上带有惰性气体排出孔,第2门则在与第1门相对的前端部上带有惰性气体吸入口,在第1门和第2门处于关闭状态时,通过从第1门的前端排出孔排出惰性气体,同时,从第2门前端的吸入口吸入惰性气体,而在第1门的前端与第2门的前端之间形成惰性气体气流层,从而切断开口部分。

10、根据权利要求9所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部的开闭机构。

11、根据权利要求9所述的清洗装置,其特征是,还具有:

开闭上述开口部,在关闭时封闭住上述干燥室的开闭机构。

12、根据权利要求9所述的清洗装置,其特征是,将上述干燥室内充满有机溶剂气体的机构带有,将含有有机溶剂的气体排出到上述干燥室内的喷嘴,该喷嘴是在将直径不同的多根管道以相互在圆周面上间隔的状态而装配成的,在内侧的管道上沿着管道的轴线方向以一定的间隔设置多个气体喷孔,并且,在外侧的管道上沿着管道的轴线方向以比管道中一个内侧管道上气体排出孔的间隔更小的间隔设置多个气体排出孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京电子株式会社,未经东京电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98106441.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top