[发明专利]用于半导体器件制备的显影设备及其控制方法无效
申请号: | 97113629.7 | 申请日: | 1997-06-20 |
公开(公告)号: | CN1087445C | 公开(公告)日: | 2002-07-10 |
发明(设计)人: | 金东浩;安雄宽;朴济应;李炳官 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邹光新,傅康 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 半导体器件 制备 显影 设备 及其 控制 方法 | ||
1.一种用于半导体器件制备的显影设备,包括:
工作台;
装在工作台上并装有适量显影液的容器;
装在容器上方、支撑已曝光晶片的旋转盘,与图案形成面相反的晶片的一面固定在此旋转盘上;
使旋转盘转动的驱动电机;
使旋转盘垂直传动以使晶片在容器中上下移动的垂直驱动器;
使旋转盘和垂直驱动器绕驱动电机的转轴垂直的轴转动一定角度以使晶片的图案形成面有选择地远离容器而转向上或朝向容器而转向下的翻转驱动器;
提供适量显影液到容器中的显影液供应器;以及
喷洒清洗液到晶片图案形成面上的清洗液供应器。
2.根据权利要求1的显影设备,其特征在于,旋转盘包括:
由驱动电机转动、内有真空通道的旋转轴;
连接到旋转轴真空通道、并具有许多吸孔以便用真空固定晶片在上面的吸盘;
固定在垂直驱动器上、支撑旋转轴的轴套;以及
固定在轴套上、包围吸盘上部的轴承座。
3.根据权利要求2的显影设备,其特征在于,旋转盘还包括防止晶片沾污的装置,通过该装置惰性气体被喷送到用真空固定在吸盘上的晶片的边缘上。
4.根据权利要求3的显影设备,其特征在于防止晶片沾污的装置包括:
以预定间隔装在轴承座外的外罩;
形成在轴承座和外罩之间的隔离物;
形成在隔离物底端的第一开口;以及
输送惰性气体经过隔离物到第一开口外的气体输送管。
5.根据权利要求4的显影设备,其特征在于,第一开口沿吸盘边缘呈环状形成,以便使惰性气体均匀喷送到晶片底面的边缘上。
6.根据权利要求1的显影设备,其特征在于垂直驱动器包括:
固定在翻转驱动器上的翻转架;
可沿翻转架垂直移动、使旋转盘和驱动电机装在上面的滑板;以及
垂直移动滑板的传动装置。
7.根据权利要求6的显影设备,其特征在于传动装置包括:
和翻转架相垂直地固定、并在其两端被可旋转支撑的滚珠螺杆;
固定在滑板一边并导向滚珠螺杆的滚珠轴承;
在左右方向转动滚珠螺杆的驱动电机;以及
把驱动电机的驱动力传送到滚珠螺杆的一对皮带轮和皮带。
8.根据权利要求7的显影设备,其特征在于驱动电机是步进电机。
9.根据权利要求7的显影设备,其特征在于翻转架在其两端装有一对和滚珠螺杆平行的导轨,该导轨和形成在滑板两端的引导凸缘相配合。
10.根据权利要求9的显影设备,其特征在于导轨和引导凸缘的接合处在截面形成倒三角形。
11.根据权利要求1的显影设备,其特征在于翻转驱动器包括:
装在工作台上的固定架;
装在固定架上、用空气压力使输出轴在左右方向转动设定角度的驱动装置;以及
固定在驱动装置的输出轴上、被可旋转地支撑在固定架上、并使垂直驱动器固定在上面的套筒。
12.根据权利要求11的显影设备,其特征在于驱动装置是用空气压力工作的旋转汽筒。
13.根据权利要求11的显影设备,其特征在于,输出轴由驱动装置转动的角度为180°。
14.根据权利要求1的显影设备,其特征在于,容器包括在其上部的第二开口,大到足以允许晶片进出,容器的中心位于旋转盘的移动轴上。
15.根据权利要求14的显影设备,其特征在于,容器还包括连接到排放显影液和清洗液的输出管上的许多出口。
16.根据权利要求15的显影设备,其特征在于容器还包括在其底部的许多显影液进口,显影液进口连接到显影液供应器。
17.根据权利要求14或15的显影设备,其特征在于容器在其底部装有许多连接到清洗液供应器的喷嘴。
18.根据权利要求17的显影设备,其特征在于喷嘴以90°到160°之间的角度喷洒清洗液。
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