[发明专利]1,4－二酮吡咯并吡咯的混晶和固溶体的制备方法

权利要求书

1.制备由两种不同的下式(I)化合物构成的1，4-二酮吡咯并[3，4-c]吡咯的混晶或固溶体的方法：式中A和B相互独立地为下式基团：或式中R₁和R₂相互独立地为氢，卤素，C₁-C₁₈烷基，C₁-C₁₈烷氧基，C₁-C₁₈

烷基巯基，C₁-C₁₈烷基氨基，C₂-C₁₈烷氧基羰基，C₂-C₁₈烷基氨

基羰基，-CN，-NO₂，苯基，三氟甲基，C₅-C₆环烷基，-C＝N-(C₁-C₁₈烷基)，，咪唑基，吡唑基，三唑基，哌嗪基，

吡咯基，噁唑基，苯并噁唑基，苯并噻唑基，苯并咪唑基，吗啉基，

哌啶基或吡咯烷基，G是-CH₂-，-CH(CH₃)-，-C(CH₃)₂-，-CH＝N-，-N＝N-，-O-，-S-，-SO-，

-SO₂-，-CONH-或-NR₇-，R₃和R₄相互独立地为氢，卤素，C₁-C₆烷基，C₁-C₁₈烷氧基或-CN，R₅和R₆相互独立地为氢，卤素或C₁-C₆烷基，和R₇是氢或C₁-C₆烷基；该方法包括将式(I)的两种不同的固态化合物的混合物加热至220-380℃范围内的温度。

2.按照权利要求1的方法，其中式(I)中的A和B相互独立地为下式基团：或式中R₁和R₂相互独立地为氢，氯，溴，  C₁-C₄烷基，C₁-C₆烷氧基，C₁-

C₆烷基氨基，苯基或CN，G是-O-，-NR₇-，-N＝N-或-SO₂-，R₃和R₄为氢，和R₇是氢，甲基或乙基。

3.按照权利要求2的方法，其中式(I)中的A和B均为下式基团：式中R₁和R₂相互独立地为氢，甲基，叔丁基，氯，溴，苯基或CN。

4.按照权利要求3的方法，其中式(I)中的R₂是氢。

5.按照权利要求1的方法，其中两种不同的式(I)组分以50-95％：50-5％的摩尔比存在。

6.按照权利要求1的方法，它包括将所述两种不同的组分加热至270-340℃范围内的温度。

7.按照权利要求1的方法，它包括将所述不同的式(I)组分用常规方法紧密混合并将其加热至220-380℃范围内的温度。

8.按照权利要求1的方法，它还包括将所述不同的式(I)化合物用常规方法紧密混合并使如此获得的化合物混合物通过恒定的高温范围在升华设备中升华，所述恒定的高温范围稍低于原料物质的升华点但足以使式I化合物冷凝。

9.按照权利要求1的方法，它还包括将所述不同的式(I)化合物通过在高真空下单独蒸发以两个或更多个交替薄层涂布在玻璃或耐热聚合物上，然后对其涂布光敏聚合物保护层UV-可交联的丙烯酸酯基清漆或UV-硬化的基于丙烯酸酯的清漆和随后用激光照射它们，所述高真空足以蒸发式I的两种化合物。

10.按照权利要求1的方法，它还包括将两种不同的式(I)化合物与聚合物一起在挤塑机中在160-210℃范围内的温度分散，然后将它们在220-300℃范围内的温度模塑成模制品。