[实用新型]同位素X荧光镀层测厚仪无效
| 申请号： | 89212407.5 | 申请日： | 1989-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN2064500U | 公开（公告）日： | 1990-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张泽夏;娄慧玲;胡为 | 申请（专利权）人： | 湖南省技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02 |
| 代理公司： | 湖南省专利事务所 | 代理人： | 李由 |
| 地址： | 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 同位素 荧光 镀层 测厚仪 | ||
【权利要求书】：
1、一种同位素X荧光镀层测厚仪，由探头、X荧光光谱分析器和微机运算器组成，本实用新型的特征在于其探头结构：激发源采用238PuX射线源；准直器为Fe、Pb、Sn片复合而成，其形状设计成狭长形；探测器采用鼓形正比计数器；放射源和探测器分别从两个方向朝向样品倾斜安装。
2、根据权利要求1所述的测厚仪，其特征在于探头样品台板上刻有V形槽。
3、根据权利要求1或2所述的测厚仪，其特征在于待测样品测量位置与放射线的反方向成120～130°夹角，与探测器轴线的夹角为20～30°。
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