[其他]一种用等离子弧精炼硅的工艺方法无效
| 申请号： | 87104483 | 申请日： | 1987-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN87104483A | 公开（公告）日： | 1988-12-07 |
| 发明（设计）人： | 维叔·达特·道萨耶;阿尔文·威廉·罗荷尔兹 | 申请（专利权）人： | 陶氏康宁公司 |
| 主分类号： | C01B33/02 | 分类号： | C01B33/02;H05H1/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 全菁 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 精炼 工艺 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种利用气体等离子体作为能源的生产硅的工艺方法，该方法包括：
(Ⅰ)利用转移弧的结构布置，在反应器中产生一气体等离子弧，这种结构产生等离子体所需的气体量最小；
(Ⅱ)把二氧化硅和固体还原剂直接馈入到反应器和等离子弧中；
(Ⅲ)借助等离子气体把二氧化硅和固体还原剂载到反应器的反应区中；
(Ⅳ)从反应区域中回收熔化态的硅和气体付产品。
2、如权利要求1所述的方法，其特征在于馈入二氧化硅和固体还原剂的方式是，先馈入二氧化硅和固体还原剂的混合物，再馈入二氧化硅;馈入方式也可以以相反的程序进行。
3、如权利要求2所述的方法，其特征在于馈入的二氧化硅和固体还原剂的混合物中的二氧化硅和固体还原剂的比率是这样控制的，即使其中的碳对二氧化硅的克分子当量比超过化学计算当量的20%。
4、如权利要求2所述的方法，其特征在于馈入的二氧化硅和固体还原剂的混合物中的二氧化硅和固体还原剂的比率是这样控制的，即使其中的碳对二氧化硅的克分子当量比超过化学计算当量的1%～10%。
5、如权利要求2所述的方法，其特征在于馈入二氧化硅的量是这样控制的，即使碳与二氧化硅的总体比率基本上等于总体反应的化学计算当量。
6、如权利要求1所述的方法，其特征在于馈入的二氧化硅和固体还原剂的混合物是一种化合混合物。
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