[其他]电解用阴极及其制法无效

专利信息
申请号: 87102588 申请日: 1987-04-03
公开(公告)号: CN87102588A 公开(公告)日: 1987-10-14
发明(设计)人: 雅克·克莱一雷诺;弗郎西斯·勒鲁;多朱尼奎·雷维尔 申请(专利权)人: 阿托化学公司
主分类号: C25B11/08 分类号: C25B11/08
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 杨松坚
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电解 阴极 及其 制法
【权利要求书】:

1、一种特别适用于电解碱金属卤化物水溶液的阴极,是由导电基材以及包括了贵金属和/或贵金属衍生物的覆盖层所构成,其特征是,导电基材带有至少由a导及b层所组成的非均质覆盖层,所述a层与基材相接触,并由至少包括一种下列各组分的覆盖层所组成:

贵金属,

贵金属氧化物,

贵金属氧化物的混合物,及至少一种镍、钴、铁、钛、铪、铌、钽及锆的氧化物;而b层则与电解质及a层相接触,并且是由一种高遮盖能力的金属所组成。

2、按权利要求1的阴极,其特征是,b层投影面和基材投影面之间的比率大于95%。

3、按照权利要求1或2的阴极,其特征是,形成b层的金属可以是镍、钴、铁及其合金,或所含的磷、硼或硫的原子比率小于15%的上述金属的合金。

4、按照权利要求1至3中任一项的阴极,其特征是,a层是由至少一种下列各组分所组成,所述组分包括:铂、钌、铑、各种金属(钌、铱、铑、铂)的氧化物,上述各种氧化物的混合物,以及钛或镍的氧化物,并且b层是由镍或钴所组成。

5、按照权利要求1至3中任一项的阴极,其特征是,组成与基材相接触的a层的一种或多种化合物,是以0.2至5毫克/厘米2的数量进行沉积。

6、按照权利要求1至5中任一项的阴极,其特征是,组成与电解质相接触的b层的一种或多种化合物,是以1-15毫克/厘米2的数量进行沉积。

7、按照权利要求1至6中任一项的阴极的制造方法,其特征是,其中包括任选地使基材经过适宜的预处理后,在基材上沉积一种或数种化合物的覆盖层,它们可以产生组成a层及b层的金属或化合物,然后将其整体再经过处理,而得到所需的化学形式(金属、氧化物)。

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