[其他]光学信息记录介质及信息的记录与擦抹的方法和装置无效

专利信息
申请号: 85109508 申请日: 1985-12-04
公开(公告)号: CN85109508A 公开(公告)日: 1986-07-09
发明(设计)人: 越野长明;前田已代三;后藤康之;柴田格;内海研一;潮田明;伊藤健一;居石浩三 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B11/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 沙捷
地址: 211日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 信息 记录 介质 方法 装置
【权利要求书】:

1、用记录薄膜形成光学信息记录介质,当用光能量在不同条件下照射该薄膜时,它能有选择地形成两种稳定的晶态,它们在晶体结构及光学性质上有区别,因此可以进行信息的记录和(或)擦抹。

2、根据权项1制备的光学信息记录介质,用光学能量在不同条件下照射该记录膜上一点,该点可以熔化,而后又固化,因此形成了不同的结晶分布,因此该点具有不同的反射率或透射率,以至来自或通过记录膜上这点的光束反射或透射也就不同。

3、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由能形成一种共晶混合物的两种或更多种的元素组成,在所述的两种或多种元素的平衡图中具有接近于共晶混合物的结构。

4、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为80或更少的介质(In)和原子百分数为20或更多的介质(Sb)组成。

5、根据权项4的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数15~50的In和原子百分数为50~85的Sb组成。

6、根据权项5的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数35~45的In和原子百分数为55~65的Sb组成。

7、根据权项4的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组中的一种或多种元素:Al、Si、P、S、Zn、Ga、Ge、As、Se、Ag、Cd、Sn、Te、Tl、Pb及Bi。

8、根据权项4的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数5~20的下述元素组中的一种或多种元素:Se,Si,P,S,Ge,As,Zn,Al,Ag,Cd,Sn,Pb,Te,Bi及Ga。

9、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数等于或小于70的铊(Tl)和原子百分数等于或大于30的铋(Bi)组成。

10、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为10~40的Tl和原子百分数为60~90的Bi组成。

11、根据权项10的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为20~30的Tl和原子百分数为70~80的Bi组成。

12、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组的一种或多种元素:Al,Si,P,S,Zn,Ga,Ge,As,Se,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Te和Pb。

13、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数5~20的下述元素组中的一种或多种元素:A,P,S,Se,Te,Zn,Al,Si,Ge,Ag,Cd,Sn,Pb,Sb,和In。

14、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数等于或小于85的镓(Ga)和原子百分数等于或大于15的铋(Bi)组成。

15、根据权项14的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为30~60的Ga和原子百分数为40~70的Bi组成。

16、根据权项15的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为40~60的Ga和原子百分数为40~60的Bi组成。

17、根据权项14的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组中的一种或多种元素:Al,Si,P,S,Zn,Ge,As,Ag,Cd,In,SnSb,Te,Tl和Pb。

18、根据权项14的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数为5~20的Se,P,S,Ge,As,Zn,Al,Ag,Cd,Sn,Pb,Te,Sb和In。

19、根据权项1的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数等于或小于65的铟(In)和原子百分数等于或大于35的砷(As)组成。

20、根据权项19的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数等于或小于50的In和原子百分数等于或大于50的As组成。

21、根据权项20的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数为15~25的In和原子百分数为75~85的As组成。

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