[其他]光学信息记录介质及信息的记录与擦抹的方法和装置无效
| 申请号: | 85109508 | 申请日: | 1985-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN85109508A | 公开(公告)日: | 1986-07-09 |
| 发明(设计)人: | 越野长明;前田已代三;后藤康之;柴田格;内海研一;潮田明;伊藤健一;居石浩三 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B11/12 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 沙捷 |
| 地址: | 211日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 信息 记录 介质 方法 装置 | ||
1、用记录薄膜形成光学信息记录介质,当用光能量在不同条件下照射该薄膜时,它能有选择地形成两种稳定的晶态,它们在晶体结构及光学性质上有区别,因此可以进行信息的记录和(或)擦抹。
2、根据权项1制备的光学信息记录介质,用光学能量在不同条件下照射该记录膜上一点,该点可以熔化,而后又固化,因此形成了不同的结晶分布,因此该点具有不同的反射率或透射率,以至来自或通过记录膜上这点的光束反射或透射也就不同。
3、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由能形成一种共晶混合物的两种或更多种的元素组成,在所述的两种或多种元素的平衡图中具有接近于共晶混合物的结构。
4、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为80或更少的介质(In)和原子百分数为20或更多的介质(Sb)组成。
5、根据权项4的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数15~50的In和原子百分数为50~85的Sb组成。
6、根据权项5的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数35~45的In和原子百分数为55~65的Sb组成。
7、根据权项4的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组中的一种或多种元素:Al、Si、P、S、Zn、Ga、Ge、As、Se、Ag、Cd、Sn、Te、Tl、Pb及Bi。
8、根据权项4的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数5~20的下述元素组中的一种或多种元素:Se,Si,P,S,Ge,As,Zn,Al,Ag,Cd,Sn,Pb,Te,Bi及Ga。
9、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数等于或小于70的铊(Tl)和原子百分数等于或大于30的铋(Bi)组成。
10、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为10~40的Tl和原子百分数为60~90的Bi组成。
11、根据权项10的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为20~30的Tl和原子百分数为70~80的Bi组成。
12、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组的一种或多种元素:Al,Si,P,S,Zn,Ga,Ge,As,Se,Ag,Cd,In,Sn,Sb,Te和Pb。
13、根据权项9的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数5~20的下述元素组中的一种或多种元素:A,P,S,Se,Te,Zn,Al,Si,Ge,Ag,Cd,Sn,Pb,Sb,和In。
14、根据权项1的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数等于或小于85的镓(Ga)和原子百分数等于或大于15的铋(Bi)组成。
15、根据权项14的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为30~60的Ga和原子百分数为40~70的Bi组成。
16、根据权项15的光学信息记录介质,其记录薄膜由原子百分数为40~60的Ga和原子百分数为40~60的Bi组成。
17、根据权项14的光学信息记录介质,其记录薄膜进一步包括原子百分数等于或小于20的下述元素组中的一种或多种元素:Al,Si,P,S,Zn,Ge,As,Ag,Cd,In,SnSb,Te,Tl和Pb。
18、根据权项14的光学信息记录介质,其记录膜进一步包括原子百分数为5~20的Se,P,S,Ge,As,Zn,Al,Ag,Cd,Sn,Pb,Te,Sb和In。
19、根据权项1的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数等于或小于65的铟(In)和原子百分数等于或大于35的砷(As)组成。
20、根据权项19的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数等于或小于50的In和原子百分数等于或大于50的As组成。
21、根据权项20的光学信息记录介质,其记录膜由原子百分数为15~25的In和原子百分数为75~85的As组成。
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