[实用新型]一种电镀自动调节进液通道有效
| 申请号: | 202320550485.6 | 申请日: | 2023-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN219363847U | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
| 发明(设计)人: | 刘树财;刘婕;王涛 | 申请(专利权)人: | 天津优润美金属制品有限公司 |
| 主分类号: | C25D17/02 | 分类号: | C25D17/02;C25D21/00;C25D21/12 |
| 代理公司: | 茂名市穗海专利事务所 44106 | 代理人: | 王士爱 |
| 地址: | 300000 天津市静海区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电镀 自动 调节 通道 | ||
本实用新型涉及电镀装置技术领域,具体为一种电镀自动调节进液通道,包括电镀池,所述电镀池右侧分别设置有安装槽和防护罩,所述安装槽的内部固定安装有控制器,所述电镀池的后侧固定设置有储液箱,所述储液箱的顶部固定安装有进液口,所述储液箱的内部开设有储液仓,所述储液箱与电镀池之间设置有自动进液机构,通过在电镀自动调节进液通道中设置的自动进液机构,从而利用自动进液机构中的结构设计,在液位传感器和水泵间的配合下,实现了电镀池中电镀液的注入,进而达到了对电镀池进行自动加液的目的,避免了电镀池中电镀液出现过少的情况,保证了电镀池中电镀反应的进行,提高了设备的电镀效率。
技术领域
本实用新型涉及电镀装置技术领域,具体为一种电镀自动调节进液通道。
背景技术
目前在电镀加工过程中所使用的一种电镀自动调节进液通道,其电镀设备中大多不具备对电镀液的液面的高度进行调节的功能,因此在使用时,电镀液的液面会随着电镀反应的进行而出现降低了的情况,而电镀设备无法及时的对电镀液进行补充,进而影响设备电镀反应的进行,不利于设备电镀效率的提高。
综上所述,本实用新型通过设计一种电镀自动调节进液通道来解决上述背景技术中的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种电镀自动调节进液通道,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种电镀自动调节进液通道,包括电镀池,所述电镀池右侧分别设置有安装槽和防护罩,所述安装槽的内部固定安装有控制器,所述电镀池的后侧固定设置有储液箱,所述储液箱的顶部固定安装有进液口,所述储液箱的内部开设有储液仓,所述储液箱与电镀池之间设置有自动进液机构;
所述自动进液机构的包括固定安装在储液箱右侧的水泵以及分别固定安装在电镀池内部前侧的一号液位传感器和二号液位传感器,所述水泵的输入端固定安装有一号水管,且其的输出端固定设置有二号水管。
作为本实用新型优选的方案,所述防护罩通过铰链与电镀池的右侧表面转动连接,且其完全覆盖于安装槽内部的后侧表面。
作为本实用新型优选的方案,所述进液口内部底端表面贯穿于储液箱的顶部表面并延伸至储液仓的内部,且其的外侧固定安装有阀门。
作为本实用新型优选的方案,所述储液仓内部盛放有电镀液。
作为本实用新型优选的方案,所述一号水管远离水泵的一端密封贯穿于储液箱的右侧底端表面并延伸至储液仓的内部,所述二号水管的竖截面形状呈U形结构,且其竖置端的外侧表面与电镀池的左侧内壁相接触。
作为本实用新型优选的方案,所述一号液位传感器位于二号液位传感器的上方,且其顶部中轴线与二号液位传感器的顶部中轴线相重合。
作为本实用新型优选的方案,所述水泵的输入端通过导线与控制器的输出端电性连接,所述一号液位传感器和二号液位传感器的输出端分别通过导线与控制器的输入端电性连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型中,通过在电镀自动调节进液通道中设置的自动进液机构,从而利用自动进液机构中的结构设计,在液位传感器和水泵间的配合下,实现了电镀池中电镀液的注入,进而达到了对电镀池进行自动加液的目的,避免了电镀池中电镀液出现过少的情况,保证了电镀池中电镀反应的进行,提高了设备的电镀效率。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图;
图2为本实用新型自动进液机构的结构示意图;
图3为本实用新型储液箱的剖面结构示意图;
图4为本实用新型的图1中A点放大结构示意图。
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