[实用新型]一种光刻胶制备的反应装置

说明书

本实用新型公开了一种光刻胶制备的反应装置，涉及光刻胶反应技术领域，包括光刻胶混合反应器本体，所述光刻胶混合反应器本体包括耐腐套壳，所述耐腐套壳的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构，所述耐腐套壳的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构，所述升降机构包括限位升降单元，所述耐腐套壳的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元。本实用新型当原料混合完后，配合固定板一侧表面上的转动器一对螺纹转动杆进行转动，从而使得螺纹转动杆外侧表面上的滑套向上进行滑动，从而将滑套外表面上的闭合密封板在耐腐套壳的内壁面上进行移动，使得耐腐套壳内部的原料通过导流管的一端向外进行流淌出去。

技术领域

本实用新型涉及光刻胶反应技术领域，具体涉及一种光刻胶制备的反应装置。

背景技术

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体；一般混合装置是将感光树脂、增感剂和溶剂3种主要原料放入搅拌筒之后，通过电机带动搅拌器在搅拌筒内转动，从而将原料混合均匀，但是在实际生产中，由于同种原料会同时放置，且每种原料放入的重量不同，导致搅拌器无法快速将原料进行混合，搅拌器一般只能将处于同一高度的原料混合均匀，处于不同高度的原料往往达不到相同的均匀程度，针对上述情况，在现有的光刻胶生产加工用原料混合装置基础上进行技术创新。

如中国专利公开号：CN217746567U一种光刻胶生产加工用原料混合装置；本实用新型光刻胶生产加工用原料混合装置，包括混合桶，所述混合桶的顶部设置有驱动机构，所述混合桶的内腔设置有混合机构，所述混合机构包括螺旋杆，所述螺旋杆倾斜45度设置在混合桶的内腔，所述螺旋杆的顶部贯穿混合桶的顶部，所述螺旋杆的前后两侧均设置有搅拌柱，所述搅拌柱顶部贯穿混合桶的顶部，所述螺旋杆的顶部设置有第一锥形齿轮，所述搅拌柱顶部设置有第一限位柱，所述驱动机构位于第一锥形齿轮的顶部，电机通过第二锥形齿轮和第二锥形齿轮带动螺旋杆转动，螺旋杆将原料从低处输送到高处，然后落入低处，原料在搅拌桶内处于流动状态。

为了解决光刻胶在进行混合不够均匀的问题，现有技术是采用一样一样逐渐添加的方式进行处理，但是还会出现重量不同会分层的情况，进而导致原料混合不够均匀的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光刻胶制备的反应装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

一种光刻胶制备的反应装置，包括光刻胶混合反应器本体，所述光刻胶混合反应器本体包括耐腐套壳，所述耐腐套壳的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构，所述耐腐套壳的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构，所述升降机构包括限位升降单元，所述耐腐套壳的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元。

所述闭合密封机构包括对接密封单元，所述对接密封单元的外表面上可拆卸式安装有搅拌混合单元。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述对接密封单元包括活动套接在耐腐套壳顶部外表面上的密封顶盖，所述密封顶盖的顶部外表面上固定安装有转动器二，所述转动器二的输出端穿过密封顶盖延伸至底部外表面上。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述限位升降单元包括固定连接在耐腐套壳背面且位于顶部边缘位置上的双股转动器，所述双股转动器的输出端上固定连接有螺纹杆。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述螺纹杆的外表面上固定连接有滑块，所述滑块的底部外表面上固定连接在密封顶盖的顶部外表面上。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述转动器二的输出端的外表面上固定连接有空心支撑臂，所述搅拌混合单元包括固定连接在空心支撑臂一端上的弧形上流搅拌臂，所述弧形上流搅拌臂的内侧表面上固定连接有破碎爪。