[实用新型]一种光刻胶制备的反应装置

权利要求书

1.一种光刻胶制备的反应装置，包括光刻胶混合反应器本体(1)，所述光刻胶混合反应器本体(1)包括耐腐套壳(11)，其特征在于：所述耐腐套壳(11)的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构(2)，所述耐腐套壳(11)的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构(3)，所述升降机构(2)包括限位升降单元，所述耐腐套壳(11)的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元；

所述闭合密封机构(3)包括对接密封单元，所述对接密封单元的外表面上可拆卸式安装有搅拌混合单元。

2.根据权利要求1所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述对接密封单元包括活动套接在耐腐套壳(11)顶部外表面上的密封顶盖(31)，所述密封顶盖(31)的顶部外表面上固定安装有转动器二(32)，所述转动器二(32)的输出端穿过密封顶盖(31)延伸至底部外表面上。

3.根据权利要求1所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述限位升降单元包括固定连接在耐腐套壳(11)背面且位于顶部边缘位置上的双股转动器(21)，所述双股转动器(21)的输出端上固定连接有螺纹杆(22)。

4.根据权利要求3所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述螺纹杆(22)的外表面上固定连接有滑块(23)，所述滑块(23)的底部外表面上固定连接在密封顶盖(31)的顶部外表面上。

5.根据权利要求2所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述转动器二(32)的输出端的外表面上固定连接有空心支撑臂(33)，所述搅拌混合单元包括固定连接在空心支撑臂(33)一端上的弧形上流搅拌臂(34)，所述弧形上流搅拌臂(34)的内侧表面上固定连接有破碎爪(35)。

6.根据权利要求1所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述升降密封单元包括固定连接在耐腐套壳(11)内壁面且位于顶部边缘位置上的固定板(13)，所述固定板(13)的正面上固定连接有转动器一(14)，所述转动器一(14)的输出端上固定连接有螺纹转动杆(15)。

7.根据权利要求6所述的一种光刻胶制备的反应装置，其特征在于：所述螺纹转动杆(15)的外表面上活动套接有滑套(16)，所述滑套(16)的一侧外表面上固定连接有闭合密封板(17)，所述耐腐套壳(11)的正面上且位于底部外表面上固定连接有导流管(12)。