[发明专利]足型显示方法及相关设备在审
申请号: | 202310962682.3 | 申请日: | 2023-08-02 |
公开(公告)号: | CN116661663A | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 陈伟;翟睿;张向阳;边超;陈伟达 | 申请(专利权)人: | 北京华益精点生物技术有限公司 |
主分类号: | G06F3/04845 | 分类号: | G06F3/04845;G06T3/60;G06T7/13 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 郑颖颖 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 方法 相关 设备 | ||
本申请提供一种足型显示方法及相关设备。足型显示方法包括:获取双脚足型数据,至少包括足型轮廓的坐标数据矩阵;其中,足型轮廓包括第一足型轮廓和第二足型轮廓,第一足型轮廓朝向第一方向;第二足型轮廓朝向第二方向;根据足型轮廓的坐标数据矩阵,旋转第二足型轮廓,使第二足型轮廓朝向第一方向;根据第一足型轮廓的坐标数据矩阵和旋转后的第二足型轮廓的坐标数据矩阵,移动第一足型轮廓和旋转后的第二足型轮廓中的至少一个,使第一足型轮廓和旋转后的第二足型轮廓区分显示。能够使得以动态检测方式检测得到的双脚足型轮廓朝向一致,且双脚足型轮廓不会重叠,能够更加直观准确地展示双脚足型轮廓,便于用户观察分析,提高用户体验。
技术领域
本申请涉及足型分析技术领域,尤其涉及一种足型显示方法及相关设备。
背景技术
检测足型,能够了解人体的足部的压力分布,分析所得的足部的压力分布数据,对于足部的压力分布的检测具有重要的意义。
以自然行走的动态检测方式检测足型时,无法在同一时间内得到双脚的足型,存在双脚足型显示时竖向方位不一致且双脚的足型轮廓可能存在重叠的问题,不利于直观显示双脚的足型。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的在于提出一种足型显示方法及相关设备。
基于上述目的,本申请实施例提供的足型显示方法,包括:
获取双脚足型数据,所述双脚足型数据至少包括足型轮廓的坐标数据矩阵;其中,所述足型轮廓包括第一足型轮廓和第二足型轮廓,所述第一足型轮廓朝向第一方向;所述第二足型轮廓朝向第二方向;
根据所述足型轮廓的坐标数据矩阵,旋转所述第二足型轮廓,以使所述第二足型轮廓朝向第一方向;
根据所述第一足型轮廓的坐标数据矩阵和旋转后的第二足型轮廓的坐标数据矩阵,移动所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓中的至少一个,以使所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓区分显示。
在其中一些实施例中,所述获取双脚足型数据包括:接收足底压力检测设备检测的原始坐标数据矩阵;所述足型轮廓的坐标数据矩阵包括横坐标数据和纵坐标数据;
所述根据所述足型轮廓的坐标数据矩阵,旋转所述第二足型轮廓包括:
根据原始坐标数据矩阵的横坐标最大值和第二足型轮廓的坐标点的横坐标数据,计算得到旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标;
根据原始坐标数据矩阵的纵坐标最小值和第二足型轮廓的坐标点的纵坐标数据,计算得到旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标。
在其中一些实施例中,所述旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标根据式X2=X0-X1计算,其中,X2为旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标;X0为原始坐标数据矩阵的横坐标最大值;X1为第二足型轮廓的坐标点的横坐标;
所述旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标根据式Y2=Y0-Y1计算,其中,Y2为旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标;Y0为原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值;Y1为第二足型轮廓的坐标点的纵坐标。
在其中一些实施例中,所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓区分显示包括所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓分别在坐标系居中显示;所述根据所述第一足型轮廓的坐标数据矩阵和所述第二足型轮廓的坐标数据矩阵,移动所述第一足型轮廓和所述第二足型轮廓中的至少一个包括:根据所述第一足型轮廓的第一足长、第一足宽、原始坐标数据矩阵的横坐标最大值、原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值,得到第一足型轮廓的第一起始坐标点;
根据第一起始坐标点和第一足型轮廓的坐标数据矩阵,得到第一足型轮廓的显示坐标数据矩阵;和/或
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