[发明专利]足型显示方法及相关设备

权利要求书

1.一种足型显示方法，其特征在于，包括：

获取双脚足型数据，所述双脚足型数据至少包括足型轮廓的坐标数据矩阵；其中，所述足型轮廓包括第一足型轮廓和第二足型轮廓，所述第一足型轮廓朝向第一方向；所述第二足型轮廓朝向第二方向；

根据所述足型轮廓的坐标数据矩阵，旋转所述第二足型轮廓，以使所述第二足型轮廓朝向第一方向；

根据所述第一足型轮廓的坐标数据矩阵和旋转后的第二足型轮廓的坐标数据矩阵，移动所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓中的至少一个，以使所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓区分显示。

2.根据权利要求1所述的足型显示方法，其特征在于，所述获取双脚足型数据包括：接收足底压力检测设备检测的原始坐标数据矩阵；所述足型轮廓的坐标数据矩阵包括横坐标数据和纵坐标数据；

所述根据所述足型轮廓的坐标数据矩阵，旋转所述第二足型轮廓包括：

根据原始坐标数据矩阵的横坐标最大值和第二足型轮廓的坐标点的横坐标数据，计算得到旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标；

根据原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值和第二足型轮廓的坐标点的纵坐标数据，计算得到旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标。

3.根据权利要求2所述的足型显示方法，其特征在于，所述旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标根据式X₂=X₀-X₁计算，其中，X₂为旋转后的第二足型轮廓的坐标点的横坐标；X₀为原始坐标数据矩阵的横坐标最大值；X₁为第二足型轮廓的坐标点的横坐标；

所述旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标根据式Y₂=Y_0-Y₁计算，其中，Y₂为旋转后的第二足型轮廓的坐标点的纵坐标；Y₀为原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值；Y₁为第二足型轮廓的坐标点的纵坐标。

4.根据权利要求2所述的足型显示方法，其特征在于，所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓区分显示包括所述第一足型轮廓和所述旋转后的第二足型轮廓分别在坐标系居中显示；所述根据所述第一足型轮廓的坐标数据矩阵和所述第二足型轮廓的坐标数据矩阵，移动所述第一足型轮廓和所述第二足型轮廓中的至少一个包括：根据所述第一足型轮廓的第一足长、第一足宽、原始坐标数据矩阵的横坐标最大值、原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值，得到第一足型轮廓的第一起始坐标点；

根据第一起始坐标点和第一足型轮廓的坐标数据矩阵，得到第一足型轮廓的显示坐标数据矩阵；和/或

根据所述旋转后的第二足型轮廓的第二足长、第二足宽、原始坐标数据矩阵的横坐标最大值、原始坐标数据矩阵的纵坐标最大值，得到旋转后的第二足型轮廓的第二起始坐标点；

根据第二起始坐标点和旋转后的第二足型轮廓的坐标数据矩阵，得到旋转后的第二足型轮廓的显示坐标数据矩阵。