[发明专利]一种表面改性处理设备及改性处理方法

说明书

本发明公开了一种表面改性处理设备及改性处理方法，表面改性处理设备包括真空腔、等离子体源装置、滚筒和驱动组件，真空腔包括可开合的腔体和腔门，腔体和/或腔门上设有真空抽气口；等离子体源装置设置在真空腔外，其被配置为产生等离子物质；被配置为容纳待处理材料的滚筒设置在真空腔内，滚筒的内部与真空腔连通；驱动组件被配置为驱动滚筒转动；其中，等离子体源装置产生的等离子通过导流通道输入至真空腔内。本发明通过将等离子激发区和材料处理区分隔设计，使得等离子放电过程不受处理物以及处理物的运动影响，实现稳定放电，进而提高材料处理质量。

技术领域

本发明涉及等离子改性领域，尤其涉及一种表面改性处理设备及改性处理方法。

背景技术

相比于化学法和加热法，等离子改性粉体材料具备安全、环保、高效、以及低成本的优点。

目前等离子处理粉体材料主要采用滚筒式等离子设备，例如射频感应等离子处理装置和介质阻挡放电等离子处理装置。这些设备存在上下料的时候需要单独把滚筒拆卸下来再安装上去，操作极其不方便；为了满足处理过程中供气、抽气和密封性要求，使得结构复杂以及极高的部件精度和安装要求，使得维修和保养及其不方便；另外，在处理过程中，滚筒转动，滚筒和设置在滚筒内的离子发生装置都处于运动状态，容易造成放电不稳定。

综上所述，现有的处理颗粒/粉体材料的等离子设备存在结构复杂、维护保养和操作不方便、放电不稳定以及处理质量不高等问题。

以上背景技术内容的公开仅用于辅助理解本发明的发明构思及技术方案，其并不必然属于本专利申请的现有技术，也不必然会给出技术教导；在没有明确的证据表明上述内容在本专利申请的申请日之前已经公开的情况下，上述背景技术不应当用于评价本申请的新颖性和创造性。

发明内容

本发明的目的是提供一种表面改性处理设备及改性处理方法，通过将等离子激发区和材料处理区分隔，使得等离子放电过程不受处理物以及处理物的运动影响，实现稳定放电，进而提高材料处理质量。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种表面改性处理设备，包括：

真空腔，其包括可开合的腔体和腔门，所述腔体和/或腔门上设有真空抽气口；

等离子体源装置，其设置在所述真空腔外，其被配置为产生等离子物质；

被配置为容纳待处理材料的滚筒，其设置在所述真空腔内，所述滚筒的内部与所述真空腔连通；

驱动组件，其被配置为驱动所述滚筒转动；

其中，所述等离子体源装置产生的等离子通过导流通道输入至所述真空腔内。

进一步地，承前所述的任一技术方案或多个技术方案的组合，所述滚筒的端面上设有开口，和/或，所述滚筒的筒身上设有孔径小于待处理材料粒径的开孔，以使所述滚筒的内部与所述真空腔连通；

所述导流通道的内端延伸至所述滚筒内、延伸至所述真空腔内距离所述滚筒5cm以内的区域、与至少一延伸至所述滚筒内的导管连通，或者与至少一延伸至距离所述滚筒5cm以内区域的导管连通。

进一步地，承前所述的任一技术方案或多个技术方案的组合，所述滚筒被配置为绕着其轴心线转动或绕着轴心线的平行线离心转动；

所述滚筒在轴心线方向的两端的至少一个端面上设有开口；

所述导流通道满足以下配置中的任意一种：

所述导流通道为穿过所述开口并延伸至所述滚筒内部的管道；

或者，所述导流通道延伸至位于所述滚筒外部且与所述开口距离小于5cm的区域；

或者，所述导流通道连接一个或多个导管，所述导管穿过所述开口并延伸至所述滚筒内部；

或者，所述导流通道连接一个或多个导管，所述导管延伸至位于所述滚筒外部且与所述开口距离小于5cm的区域；

或者，所述导流通道和/或导管贯穿所述滚筒。