[发明专利]一种光发射器件测试方法在审
| 申请号： | 202310533564.0 | 申请日： | 2023-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN116465606A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 傅琰;吕利平;顾陈焘 | 申请（专利权）人： | 上海剑桥科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01R31/00 |
| 代理公司： | 上海港慧专利代理事务所(普通合伙) 31402 | 代理人： | 郭嘉莹 |
| 地址： | 201114 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 发射 器件 测试 方法 | ||
1.一种光发射器件测试方法，其特征在于：包括，
于测试装置上连接光发射器件，用以对所述光发射器件进行测试；
于测试状态下，改变所述光发射器件的工作电流，以分别获取在不同的所述工作电流下所述光发射器件的测试数据；
基于所述测试数据判断所述光发射器件受反射光的影响程度。
2.根据权利要求1所述的光发射器件测试方法，其特征在于：执行于测试状态下，改变所述光发射器件的工作电流，以分别获取在不同的所述工作电流下所述光发射器件的测试数据的步骤时，具体包括，
于不同的所述工作电流下，分别获取所述光发射器件的发光芯片所发出的光的波长λ；
基于所述发光芯片所发出的光的波长λ，获取所述波长λ与所述发光芯片前端面到反射面的距离L之间的光程差公式2L＝n×λ；
基于所述光程差公式判断所述光发射器件受反射光的影响程度。
3.根据权利要求2所述的光发射器件测试方法，其特征在于：
于所述光程差公式满足2L＝n×λ时，表征所述光发射器件不受所述反射光的影响；
于所述光程差公式满足2L＝(n+1/2)×λ时，表征所述光发射器件受所述反射光的影响；
其中，n为正整数。
4.根据权利要求1或2所述的光发射器件测试方法，其特征在于：执行于测试状态下，改变所述光发射器件的工作电流，以分别获取在不同的所述工作电流下所述光发射器件的测试数据的步骤时，具体包括，
提供示波器，所述示波器连接所述光发射器件；
于不同的所述工作电流下，通过所述示波器分别获取所述光发射器件的实测眼图；
基于所述实测眼图判断所述光发射器件受反射光的影响程度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海剑桥科技股份有限公司，未经上海剑桥科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310533564.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种水利工程水体净化过滤设备及其方法
- 下一篇：具有定量给液功能的制饼机
