[发明专利]用于超表面的抗反射涂层

权利要求书

1.一种光学系统，包括：

包括超表面的光学元件，所述超表面包括多个纳米结构，所述纳米结构形成重复单位基元，其中，当在俯视图中观看时，每个单位基元包括：

多个第一纳米结构，其具有第一长度和第一宽度，其中所述第一长度在第一方向上伸长，并且其中所述第一宽度彼此不同；以及

多个第二纳米结构，其具有第二长度和第二宽度，其中所述第二长度在第二方向上伸长，并且其中所述第二宽度彼此不同,

其中，所述第二方向与所述第一方向交叉；以及

用于包括所述超表面的所述光学元件的抗反射涂层，所述抗反射涂层包括：

光学透明材料的层，其具有大于1且小于包括所述超表面的材料的折射率的折射率，

其中，聚合物材料层的所述层共形地设置在所述超表面的所述纳米结构之上以遵循所述纳米结构的轮廓，而不完全填充分离所述纳米结构中的每一个的体积。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学透明材料包括聚合物。

3.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学透明材料包括光致抗蚀剂。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学透明材料具有约1.2至约2的折射率。

5.根据权利要求1所述的光学系统，其中，从所述超表面的最顶部表面到所述抗反射涂层的最顶部表面的距离为约10nm至约1微米。

6.根据权利要求1所述的光学系统，其中，与由不包括所述抗反射涂层的基本类似的超表面反射的入射光的量相比，所述抗反射涂层将由所述超表面反射的入射光的量减少超过约50％。

7.根据权利要求6所述的光学系统，其中，所述入射光具有约-20°至20°的入射角。

8.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述抗反射涂层具有被配置为提供从所述抗反射涂层的顶表面反射的光与从所述抗反射涂层的底表面反射的光之间的相消干涉的厚度。

9.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述超表面包括衍射光栅。

10.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述超表面包括不对称衍射光栅。