[发明专利]一种基于区域分割的S型排序切割路径优化方法在审
| 申请号: | 202310420116.X | 申请日: | 2023-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN116394327A | 公开(公告)日: | 2023-07-07 |
| 发明(设计)人: | 朱志松;解昆;周任杰;林长彬 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
| 主分类号: | B26D5/00 | 分类号: | B26D5/00;B26D1/15 |
| 代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 许洁 |
| 地址: | 226000 江苏省南通市崇*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 区域 分割 排序 切割 路径 优化 方法 | ||
1.一种基于区域分割的S型排序切割路径优化方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤一:区域分割:将排样图逐步分割成多个区域;
步骤二:区域排序:通过整体排序和局部排序将分割出的区域样片进行排序,确立好单个区域的样片搜索顺序;
步骤三:加工路径规划:经过排序后的区域样片在搜索时生成加工路径,合理选择切入点和切出点,生成最短的加工路径;
步骤四:碰撞处理:样片与样片之间形成的加工路径可能会与其他样片发生碰撞,确立碰撞区域,对发生碰撞的地方进行碰撞处理。
2.根据权利要求1所述的基于区域分割的S型排序切割路径优化方法,其特征在于:所述的步骤一中将排样图分割成多个区域的步骤如下:
步骤(1):找到未搜索样片集合中的拐点样片LA;
步骤(2):切割向上,通过拐点样片将其上方符合扩展原则1的样片扩展到同一个区域中;切割向下,通过拐点样片将其下方符合扩展原则的样片扩展到同一个区域中;
步骤(3):从步骤(2)扩展得到的区域存在着一些体积较小但未被放置到区域的样片,需要按照扩展原则2将这些样片扩展到区域中,得到区域REG。
3.根据权利要求2所述的基于区域分割的S型排序切割路径优化方法,其特征在于:所述的步骤(1)中,寻找到拐点样片LA的具体步骤如下:
步骤A:将样片图中未搜索样片放置到一个空集合P;
步骤B:找到集合形心X坐标值最小的样片A;
步骤C:按照规则fls将样片集合中符合条件的样片加入到一个空集合中;
步骤D:记从步骤C得到的集合为S,集合S中样片数为t,如果t=0,此时选择A作为拐点样片;如果t=1,选择S中样片作为拐点样片;t>1,对S进行步骤B操作。
4.根据权利要求2所述的基于区域分割的S型排序切割路径优化方法,其特征在于:所述的步骤(2)中,切割方向分为向上和向下两种,区域REG从底端样片开始搜索,称为向上切割;区域REG从顶端样片开始搜索,称为向下切割;每次搜索完一个区域的样片,改变切割方向为反方向;
所述的扩展原则1为:满足以下两个条件之一:a.待选样片C的包络矩形的左边界处于拐点样片LA的左边;b.待选样片C的形心位于LA包络矩形的右边界右边;
所述的扩展原则2为:找到当前区域中包络矩形的右边界最右的样片,将形心位于该样片的包络矩形右边界左边的样片加入至当前区域;
其中,规则fk为:待加入样片B的包络矩形的左边界要位于A的形心左边,切割向上时,B的形心要位于A的形心下方;切割向下时,B的形心要位于A的形心上方。
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