[发明专利]一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 202310417369.1 申请日: 2023-04-19
公开(公告)号: CN116156775B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 章恒 申请(专利权)人: 圆周率半导体(南通)有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;G06F17/18
代理公司: 南通领众知识产权代理事务所(普通合伙) 32700 代理人: 吕晨熠
地址: 226300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 数据 分析 提高 蚀刻 均匀 方法
【权利要求书】:

1.一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,其包括以下步骤:

S1、数据采集分类:首先对蚀刻机(1)上端各加工端进行单独分析,各加工端工作过程中的变化对电路板表面蚀刻均匀性的影响为正向影响、负向影响或者无影响,各加工端工作过程中的变化,生成了相对应加工后电路板表面蚀刻均匀性变化的变量,将带有正向影响或者负向影响相对应的变量统称为x,电路板上端加工后蚀刻均匀性的结果统称y,将x与y之间变化的关系统计到数据中心的表格中,其中每天把搜集到的y与各个x的值记录在表格内,以此观察x的稳定性及x变化时y随之带来的变化;

S2、实时监控安装监测:将监控机构安装到蚀刻机(1)上端,并把监控后得到的x进行反馈和分类统计,对于不稳定的x加工端进行调整,当x的稳定性或者能力值提高时,y不随之变化的,则考虑将x剔除,当x的稳定性或者能力值提高时,y随之变化的,将x的测量值转化为CPK,以此循环,不断完善直到把所有影响的因子x纳入表格,最终得x与y之间关系的表格;

S3、循环分析提高稳定性:通过对统计后的数据x进行分析计算,分析x为稳定或不稳定,再查询稳定中的x中的属于正向影响部分或者负向影响部分,经计算分析后对负向影响的部分进行剔除,并对合格的x进行记录搜集;

S4、线性回归统计分析:再对各个加工端经过1-2个月的调整以及数据搜集后,并对搜集后的数据传输到外部的数据进行分析,此时各x的统计结果的数值趋向于稳定,且处于无法再提高的状态,此时通过线性回归的方式寻找出y与各x的关系式。

2.根据权利要求1所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述蚀刻机(1)还包括大数据收集分析稳定机构(10)、数据采集防意外机构(21)和提醒警示机构(24)。

3.根据权利要求2所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述大数据收集分析稳定机构(10)包括安装凹口(4)、推动弹簧(5)、活动安装杆(6)、定位磁块(7)、固定电磁块(8)和活动阻挡气囊(9),所述蚀刻机(1)外部四周中部上端均开设有安装凹口(4),所述安装凹口(4)内部上端均安装有活动安装杆(6),所述活动安装杆(6)上端均通过铰链与安装凹口(4)内腔上端相连接,所述活动安装杆(6)底端通过螺栓安装有活动阻挡气囊(9),所述活动安装杆(6)在靠近安装凹口(4)的一侧上端与安装凹口(4)内部均通过螺栓安装有推动弹簧(5),所述安装凹口(4)内腔一侧中下端通过螺栓安装有固定电磁块(8),所述固定电磁块(8)的控制电路通过导线与蚀刻机(1)内部的控制电路电性连接,所述活动安装杆(6)在位于固定电磁块(8)的相对位置均安装有定位磁块(7)。

4.根据权利要求3所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述活动安装杆(6)和活动阻挡气囊(9)侧视均呈倒T型结构,所述活动阻挡气囊(9)截面均呈圆形结构,所述推动弹簧(5)均采用弹簧钢材质制成,所述推动弹簧(5)均呈压缩状态。

5.根据权利要求3所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述安装凹口(4)均呈倒T型结构,所述安装凹口(4)内腔一侧在位于推动弹簧(5)的相对位置均开设有安装口,所述蚀刻机(1)底端四周均通过螺钉安装有固定支脚,所述蚀刻机(1)上端固定安装有加工台板(11)。

6.根据权利要求3所述的一种基于大数据分析提高蚀刻均匀性的方法,其特征在于,所述提醒警示机构(24)包括输送通孔(22)和发声哨头(23),所述活动阻挡气囊(9)在靠近安装凹口(4)的一侧中部均开设有输送通孔(22),所述活动阻挡气囊(9)在位于输送通孔(22)的相对位置通过粘接安装有发声哨头(23)。

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