[发明专利]一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀方法

权利要求书

1.一种掩膜组件，其特征在于，包括至少一个掩膜框和设置在所述掩膜框的承载面上的掩膜片；

所述掩膜框包括掩膜边框和位于所述掩膜边框围绕区域内的至少一个支撑梁；所述支撑梁的承载面与所述掩膜框的承载面平齐。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜框上设置有多列依次排布的所述掩膜片；所述掩膜片的延伸方向平列于所述支撑梁的延伸方向；同一所述掩膜框的相邻两列所述掩膜片边缘的一部分以及间隙与所述支撑梁重叠。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜片的边缘固定在所述支撑梁和/或所述掩膜边框上。

4.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，同一所述掩膜框的相邻两列所述掩膜片的间隙处设置有垫片；所述垫片位于所述支撑梁上。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述垫片固定在所述支撑梁上。

6.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括目标基板设置区，所述目标基板设置区中用于放置目标基板；

所述垫片结构与所述目标基板设置区外的所述掩膜边框固定。

7.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，同一所述掩膜框的相邻两列所述掩膜片的间隙小于预设值。

8.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑梁的承载面设置有沟槽；所述掩膜片固定在所述沟槽中。

9.根据权利要求5所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑梁的承载面设置有沟槽，所述垫片的边缘紧固定于所述沟槽内。

10.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑梁内设置有恒温液管道。

11.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑梁的承载面设置有沟槽；所述沟槽内设置有支撑平台；

所述掩膜片的边缘固定在所述沟槽内，且所述支撑平台的承载面与所述掩膜片背离所述掩膜框的一侧齐平。

12.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，设置在所述掩膜框的承载面上的掩膜片为整片结构。

13.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，同一所述掩膜框的相邻两列掩膜片间隙处的所述垫片，与该所述相邻两列掩膜片的边缘交叠，所述掩膜片位于所述垫片背离所述支撑梁的一侧。

14.根据权利要求13所述的掩膜组件，其特征在于，沿平行于所述支撑梁的延伸方向，所述垫片的长度小于所述掩膜片的长度。

15.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜边框与所述支撑梁一体成型。

16.根据权利要求1-15中任一项所述的掩膜组件，其特征在于，包括x个掩膜框；x个掩膜框上的各掩膜片对应蒸镀图案；

x个掩膜框上的各掩膜片划分为x组；

满足第i+nx列的掩膜片，按照列序号依次排布设置在第i掩膜框上，形成第i掩膜板；

同一掩膜框上的相邻列掩膜片的边缘之间的距离小于该相邻列掩膜片列序号之间的其它列掩膜片的宽度之和；

其中，i以及x均为正整数，且i小于等于x；x大于1；n为非负整数。

17.一种蒸镀设备，其特征在于，包括蒸发源以及权利要求1-16中任一项所述的掩膜组件，所述掩膜组件设置在所述蒸发源与目标基板之间。

18.一种采用掩膜组件的蒸镀方法，其特征在于，应用权利要求1-16中任一项所述的掩膜组件，所述方法包括：

采用所述掩膜组件对目标基板进行蒸镀。