[发明专利]用于晶粒观测的样品的制备方法在审
| 申请号： | 202310295625.4 | 申请日： | 2023-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN116337909A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 刘燕;汪聪颖;陈国兴 | 申请（专利权）人： | 上海新傲科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2202 | 分类号： | G01N23/2202;G01N23/2251;G01N1/32 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 201821 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 晶粒 观测 样品 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于晶粒观测的样品的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供一晶圆，所述晶圆表面为多晶硅层；
采用HF溶液腐蚀所述多晶硅层表面的氧化物；
采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蚀所述晶圆表面的多晶硅层，形成用于晶粒观测的样品。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蚀所述晶圆表面的多晶硅层后，再次采用HF溶液腐蚀所述多晶硅层表面的氧化物。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用HF溶液腐蚀所述多晶硅层表面的氧化物的时间为5～30s。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蚀所述多晶硅层的时间为5～30s。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所采用的HF溶液的浓度为49％。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液中，CH3OOCH：HNO3：HF的体积比在(20～30)：
(25～40)：(0.5～2)之间，KI的浓度在0.1g/100ml～0.4g/100ml之间。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在扫描透射显微镜下观测所述多晶硅层的晶粒。
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