[发明专利]一种物理气象沉积真空蒸镀器在审

专利信息
申请号: 202310193315.1 申请日: 2023-03-03
公开(公告)号: CN116219371A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 桑春峰 申请(专利权)人: 兆默半导体设备(上海)有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/50;C23C14/56
代理公司: 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 代理人: 雍常明
地址: 200540 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 物理 气象 沉积 真空 蒸镀器
【说明书】:

本发明公开了一种物理气象沉积真空蒸镀器,包括固定罩、活动罩和转盘,所述固定罩的前端活动安装有活动罩,所述固定罩内壁的底部固定安装有固定环,所述固定环的内侧固定连接有齿轮环,所述固定环的顶部转动安装有转盘,所述固定环内侧的转盘底部固定安装有电机,所述转盘的内侧转动连接有转杆,所述转盘顶部的转杆外侧固定安装有挂钩架。本发明通过设置有固定环、转杆与挂钩架之间的相互配合,使蒸镀更加均匀,通过设置有支撑台与固定柱之间的相互配合,可以提高材料的活跃性,可以提高蒸镀的效率,通过设置有固定罩、活动罩、密封圈与密封槽之间的相互配合,可以方便对固定罩与活动罩形成的空腔进行密封操作。

技术领域

本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体为一种物理气象沉积真空蒸镀器。

背景技术

物理气相沉积技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等,物理气相沉积真空蒸镀是主要的表面处理技术之一,真空蒸镀是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,然后沉积在基体表面上,通常的在对物体进行蒸镀时,需要利用到物理气象沉积真空蒸镀器。

虽然现有专利(公告号:CN107475677A)公开了一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置,包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室,所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连接,所述原材料单元具有铜电极棒和用于提供溅射镀膜的原材料,所述原材料设置在靠近所述原材料单元与所述真空溅镀工作主室的连接处,所述铜电极棒的一端与所述等离子体发生器连接,所述铜电极棒的另一端与所述原材料相接触,所述真空溅镀工作主室具有一容纳所述旋转轴的工作空间,所述旋转轴的轴线与所述原材料所在平面平行,所述旋转轴套设有多个待处理工件。但是在实现本发明过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决:

1、该装置在工作的过程中,蒸镀的物体位置大多都是固定的,在蒸镀时不方便使物体进行转动,不方便对蒸镀的物体进行均匀处理,使蒸镀的范围较为单一,容易使物体的蒸镀造成不均匀的情况,导致造成物体存在大量瑕疵;

2、该装置在放置需要进行蒸镀的物品时,不方便对蒸镀的材料进行提前加热,使蒸镀的材料活跃性较为一般,给蒸镀带来较多不便,降低蒸镀时的效率;

3、该装置在关闭后,密封性较为一般,容易使灰尘进入到装置的内部,使在进行蒸镀操作时容易附带灰尘粘附在物体表面,容易导致降低物体的蒸镀质量,使蒸镀的材料容易飘入空气中对空气造成污染,同时给蒸镀的材料带来较多的浪费。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,如:现有的物理气象沉积真空蒸镀器在进行蒸镀时,不方便使进行蒸镀的物体进行转动翻面,使物体蒸镀的位置固定,容易造成蒸镀的不均匀,使蒸镀后的物体容易产生大量瑕疵品,造成浪费的情况,同时在放置需要进行蒸镀的物品时,不方便提起对蒸镀的材料进行加热,导致蒸镀的材料外度低,活跃性较为一般,导致蒸镀的效率较为缓慢,给工作带来较多麻烦,现有的蒸镀器在关闭后,密封性较为一般,在蒸镀时容易使灰尘进入到内部,使灰尘随着蒸镀的材料同步贴合在物体的表面,使蒸镀的质量较为一般,同时容易使蒸镀的材料飘入空气中对空气造成污染。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种物理气象沉积真空蒸镀器,包括固定罩、活动罩和转盘,所述固定罩的前端活动安装有活动罩,所述固定罩内壁的底部固定安装有固定环,所述固定环的内侧固定连接有齿轮环,所述固定环的顶部转动安装有转盘,所述固定环内侧的转盘底部固定安装有电机,所述转盘的内侧转动连接有转杆,所述转盘顶部的转杆外侧固定安装有挂钩架,所述转杆的底部固定连接有与齿轮环啮合的第二齿轮盘,所述转杆内侧的转盘顶部固定安装有与挂钩架对应的固定套,所述固定套的内部固定连接有导线圈,所述转盘顶部的固定罩内固定安装有支撑台,所述支撑台的内部固定连接有加热板;

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