[发明专利]一种阴离子型共价有机框架材料的制备方法及其在染料吸附中的应用

权利要求书

1.一种阴离子型共价有机框架材料的制备方法，其特征在于，将六氯环三膦腈和4,4'-二氨基二苯乙烯-2,2'-二磺酸与溶剂混合均匀，然后密闭条件下加热进行缩聚反应，再经后处理，即得。

2.根据权利要求1所述阴离子型共价有机框架材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将六氯环三膦腈和4,4'-二氨基二苯乙烯-2,2'-二磺酸加入至反应器内，然后加入由二甲基亚砜和吡啶组成的溶剂，超声振荡将反应物混合均匀；

2）将反应器密封好，加热至100-200℃并保持10-16小时进行缩聚反应；

3）反应结束后，自然冷却至室温，反应产物经离心分离、分级洗涤并离子化处理，以及真空干燥，即得。

3.根据权利要求2所述阴离子型共价有机框架材料的制备方法，其特征在于，步骤1）中，六氯环三膦腈和4,4'-二氨基二苯乙烯-2,2'-二磺酸的摩尔比是1:2-4。

4.根据权利要求2所述阴离子型共价有机框架材料的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述二甲基亚砜和吡啶的体积比为4-6:1。

5.根据权利要求2所述阴离子型共价有机框架材料的制备方法，其特征在于，步骤3）中，所述分级洗涤并离子化处理具体为：依次用二甲基亚砜洗涤、0.5 M氢氧化钠或0.5 M氢氧化钾洗涤至上清液无色、去离子水洗涤、乙醇洗涤。

6.采用权利要求1至5任一所述制备方法制备得到的阴离子型共价有机框架材料。

7.权利要求6所述阴离子型共价有机框架材料在染料吸附中的应用。

8.根据权利要求7所述阴离子型共价有机框架材料在染料吸附中的应用，其特征在于，将所述阴离子型共价有机框架材料分散在含染料的待处理废水中，在室温条件下振荡至吸、脱附平衡，完成吸附过程；吸附染料的阴离子型共价有机框架材料进行再生处理；

所述染料为亚甲基蓝、结晶紫、孔雀石绿、罗丹明B、苯胺紫、阳离子黄X-6G和阳离子红GTL中的一种或两种以上。

9.根据权利要求8所述阴离子型共价有机框架材料在染料吸附中的应用，其特征在于，所述含染料的待处理废水中染料浓度为150-300 mg/L，所述阴离子型共价有机框架材料的投料浓度为200-300 mg/L。

10.根据权利要求8所述阴离子型共价有机框架材料在染料吸附中的应用，其特征在于，吸附染料的阴离子型共价有机框架材料再生处理具体为：将吸附染料的阴离子型共价有机框架材料用去离子水清洗，然后转入到0.4-0.6 M的氢氧化钠或氢氧化钾溶液中超声振荡，再经去离子水清洗、离心分离，即完成再生。