[发明专利]一种透射电镜磁性样品的预处理方法及系统

权利要求书

1.一种透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述透射电镜磁性样品的平均尺寸为10～100nm，所述预处理方法包括以下步骤：

将透射电镜磁性样品分散在挥发性溶剂中，配成悬浊液；将悬浊液分散在载网上，烘干，获得载网样品；所述载网的支撑骨架上覆盖有不含孔洞的超薄支持膜；

在载网样品表面镀5～35nm厚的镀碳膜，即获得可直接在透射电镜下观察的样品。

2.根据权利要求1所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述挥发性溶剂为无水乙醇、水、环己烷、丙酮、氯仿中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述支撑骨架为铜、钼、镍中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述在载网样品表面镀5～35nm厚的镀碳膜包括：

将一根碳棒的尖锥状端部和另一根碳棒的平面状端部接触后置于载网样品正上方，组成镀碳膜装置；

将镀碳膜装置置于真空腔室中并抽真空；

在两根碳棒未接触的一端施加电流使碳棒尖锥状端部气化后沉积在载网样品表面。

5.根据权利要求4所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：两根碳棒的直径均为5mm～20mm。

6.根据权利要求4所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述真空的气压为1×10^-6Pa～1×10^-4Pa。

7.根据权利要求4所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述尖锥状端部与载网样品的距离为5cm～20cm。

8.根据权利要求4所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：所述电流为30A～80A。

9.根据权利要求4所述的透射电镜磁性样品的预处理方法，其特征在于：每次施加电流的时间为1s～10s。

10.一种透射电镜磁性样品的预处理系统，其特征在于，包括：

样品放置区，其用于放置待镀膜样品；

第一碳棒，其至少具有一个平面状端部；

第二碳棒，其至少具有一个尖锥状端部；所述第二碳棒的尖锥状端部与所述第一碳棒的平面状端部接触，尖锥状端部位于样品放置区正上方；第一碳棒和第二碳棒的另一端连接电源；和

真空腔室，其用于在第一碳棒和第二碳棒间通电流时提供真空环境。