[发明专利]用于从由3D成像提供的3D虚拟物体的点集合中移除错误点的方法和装置在审
| 申请号: | 202310108914.9 | 申请日: | 2023-02-13 |
| 公开(公告)号: | CN116664412A | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
| 发明(设计)人: | J·艾德哈码;M·约翰尼森;A·兰格斯乔;A·奥伯格 | 申请(专利权)人: | 西克IVP股份公司 |
| 主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T19/00;G06V10/764 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
| 地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 成像 提供 虚拟 物体 集合 除错 误点 方法 装置 | ||
1.一种用于从借助于具有图像传感器(331)的相机(330)对对应现实世界物体(320)的三维3D成像所提供的3D虚拟物体的点集合(355-1..355-15)中移除错误点的方法,其中所述方法包括:
-获得(401)所述点集合(355-1..355-15);
-针对相应点(355)识别(403)集合中的冲突点,如果有的话,其中冲突点是集合中根据预定义的一个或多个准则不能与相应点(355)有效共存的点;以及
-基于针对集合中的相应点(355)的所述识别,从集合中移除(404)与集合中涉及冲突的其它点相比涉及冲突次数更多的集合中的一个或多个点,其中每次针对相应点在集合中识别出冲突点和/或每次相应点本身(355)被识别为集合中的另一个点的冲突点时,集合中的所述相应点(355)被认为涉及冲突。
2.如权利要求1所述的方法,其中从集合中移除涉及冲突次数超过预定阈值的点。
3.如权利要求1-2中的任一项所述的方法,其中所述预定义的一个或多个准则至少基于相机(330)从其在所述点集合(355-1..355-15)的坐标系(353)中的对应位置虚拟可见的内容。
4.如权利要求1-3中的任一项所述的方法,其中所述方法还包括:
-针对相应点(355)获得(402)与从现实世界物体(320)的对应点朝着相机(330)的光发射的方向对应的相应相机方向(352),所述光发射在所述3D成像期间被图像传感器(331)感测;
其中冲突点是集合中至少基于其相机方向(352)不能与相应点(355)有效共存的点。
5.如权利要求1-4中的任一项所述的方法,其中,基于集合中的点(355-1..355-15)通过连贯表面与最近的邻域表面点连接并且该连贯表面会阻挡光的假设,冲突点是集合中不能与所述相应点(355)有效共存的点。
6.如权利要求1-5中的任一项所述的方法,其中针对相应点的冲突点的识别限于集合中存在于距所述相应点一定距离内的点。
7.如权利要求7所述的方法,其中3D成像基于光三角测量,其包括光源(310)对所述现实世界物体(320)的照明,其中所述光发射是由所述照明引起的来自所述现实世界物体(320)的表面的反射光。
8.一种计算机程序(603),包括当由一个或多个处理器(604)执行时使一个或多个设备(600)执行根据权利要求1-7中的任一项所述的方法的指令。
9.一种载体,包括根据权利要求8所述的计算机程序(603),其中所述载体是电信号、光信号、无线电信号或计算机可读存储介质(701)中的一种。
10.一个或多个设备(600),用于从借助于具有图像传感器(331)的相机(330)对对应现实世界物体(320)的三维3D成像所提供的3D虚拟物体的点集合(355-1..355-15)中移除错误点,其中所述一个或多个设备被配置为:
获得(401)所述点集合(355-1..355-15);
针对相应点(355)识别(403)集合中的冲突点,如果有的话,其中冲突点是集合中根据预定义的一个或多个准则不能与所述相应点(355)有效共存的点;以及
基于对集合的相应点(355)的所述识别,从集合中移除(404)与集合中涉及冲突的其它点相比涉及冲突次数更多的集合中的一个或多个点,其中每次针对相应点在集合中识别出冲突点和/或每次相应点本身(355)被识别为集合中的另一个点的冲突点时,集合中的所述相应点(355)被认为涉及冲突。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西克IVP股份公司,未经西克IVP股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310108914.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:可延伸的货厢底板
- 下一篇:基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置





