[发明专利]一种用于显微镜下原位力学性能测试的装置

权利要求书

1.一种用于显微镜下原位力学性能测试的装置，其特征在于，所述用于显微镜下原位力学性能测试的装置包括测试机构、控制机构和观测机构；

测试机构包括力传感器(1)、试样台(2)、微型线性位移平台(3)、压头(4)、盖板(5)、单轴位移平台(6)和双轴位移平台(7)；试样台(2)安装在力传感器(1)的上方；盖板(5)安装在微型线性位移平台(3)上；压头(4)固定安装在微型线性位移平台(3)与盖板(5)之间；微型线性位移平台(3)安装在单轴位移平台(6)上；压头(4)在试样台(2)的正上方，压头(4)可以随单轴位移平台(6)左右移动；试样台(2)位于双轴位移平台(7)上；

控制机构包括微型线性位移平台控制盒(8)和电脑(9)；电脑(9)给微型线性位移平台控制盒(8)传输信号，微型线性位移平台控制盒(8)再将信号传输给微型线性位移平台(3)，以此控制微型线性位移平台(3)的运行方式与运行速度；

观测机构包括显微镜(10)、支架(11)和底座(12)；显微镜(10)安装在支架(11)上；支架(11)安装在底座(12)上；显微镜(10)用于观测试样台(2)上的试样的变形破坏过程。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述设备还包括组合夹头(13)，组合夹头(13)的下夹头安装在力传感器(1)的上方；组合夹头(13)的上夹头安装在微型线性位移平台(3)上，上夹头可以随微型线性位移平台(3)上下移动。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，力传感器(1)的量程为1N或4.5N，1N传感器的最小精度为1mN，4.5N传感器的最小精度为4.5mN；1N传感器的响应频率为300Hz，4.5N传感器的响应频率为930Hz。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，微型线性位移平台(3)的最大行程为12mm，最小位移增量为2nm。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，压头(4)为长圆柱型，直径为0.5mm或2mm。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，盖板(5)中间有一凹槽。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，组合夹头(13)由上夹头与下夹头组成。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，单轴位移平台(6)位移范围为13mm，平行度为10μm，位移精度为10μm。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，双轴位移平台(7)可以沿两个方向移动，两个方向的位移范围为13mm，平行度为10μm，位移精度为10μm。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，微型线性位移平台控制盒(8)用于给微型线性位移平台(3)供能、传输指令；

优选地，支架(11)用于安装显微镜(10)；支架(11)可以辅助显微镜(10)对焦；

优选地，底座(12)用于安装双轴位移平台(7)和支架(11)；

优选地，显微镜(10)的最大放大倍数为1600倍，显微镜(10)拍摄到的图像可以实时传输到电脑(9)内。