[发明专利]一种光罩的制作方法及所制得光罩的应用

权利要求书

1.一种光罩的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、将所述光罩划分为透光区域和不透光区域，二者间通过设置在所述光罩上的框架分隔开；所述透光区域设置在所述框架内，而所述不透光区域设置在所述框架外；

步骤S2、在所述透光区域内设置不透光的第一图形和第二图形；所述第一图形的数量为多个，且间隔布设在所述透光区域内的中部；所述第二图形的数量为多个，且环向间隔设置在所有第一图形的外部；所述第二图形的宽度尺寸小于所述第一图形的宽度尺寸。

2.根据权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，在步骤S2中，令所述第一图形的宽度尺寸为D1，所述第二图形的宽度尺寸为D2，所述D1与D2满足关系式D2＝Y·D1，其中，Y表示系数，其取值小于1；采用黄光工艺调控系数Y的取值范围为0.92-0.97。

3.根据权利要求2所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述黄光工艺调控过程如下：

步骤S2.1、确认黄光制程工艺窗口，采用曝光工艺参数曝光第一图形，获得第一图形的宽度尺寸为D1微米；所述曝光工艺参数包括曝光时间为175-190ms，曝光焦距为-0.2-0.2微米；

步骤S2.2、更新曝光时间，对第二图形进行单shot曝光，获得第二图形的宽度尺寸为D2微米；显影后采用扫描电镜测量D2，并用显微镜观察单shot曝光的颜色变化；

步骤S2.3、若颜色变化存在色差，则再次更新曝光时间重复步骤S2.2，直至颜色变化无色差为止；此时，计算D2与D1的比值，即获得系数Y的取值范围为0.92-0.97。

4.根据权利要求3所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述曝光时间的更新范围是185-190ms。

5.根据权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述透光区域为矩形区域。

6.根据权利要求2-5任意一项所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述第一图形的形状和第二图形的形状均包括圆形、三角形和多边形中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述第一图形的形状和所述第二图形的形状均为圆形，且相邻圆形间的圆心距相同。

8.根据权利要求7所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述圆形的宽度尺寸与所述圆心距间的比值为K，所述K的取值范围为2:1-3:1。

9.一种采用如权利要求8所述的光罩的制作方法所制得的光罩在生产图形化衬底方面的应用。

10.根据权利要求9所述的光罩在生产图形化衬底方面的应用，其特征在于，所述图形化衬底上的单元图案的几何中心间距为W，与所述光罩适配的光刻机的投影倍率为X，定义所述透光区域内相邻圆形间的圆心距为D3，所述D3＝W·X；

所述D1＝(K/(K+1))·W·X。