[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀方法，其中，准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板，其中，所述隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部，

将从第1蒸镀头喷出的第1材料的蒸气的扩展角度设定为第1角度，在所述处理基板上蒸镀所述第1材料，

将从第2蒸镀头喷出的第2材料的蒸气的扩展角度设定为比所述第1角度大的第2角度，在蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀所述第2材料。

2.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其中，在蒸镀所述第1材料的工序中，在所述第1蒸镀头中以第1长度的套筒包围喷嘴，

在蒸镀所述第2材料的工序中，在所述第2蒸镀头中以比所述第1长度短的第2长度的套筒包围喷嘴。

3.根据权利要求2所述的蒸镀方法，其中，所述第2蒸镀头中从所述喷嘴的前端到所述套筒的前端为止的距离小于所述第1蒸镀头中从所述喷嘴的前端到所述套筒的前端为止的距离。

4.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其中，所述第1材料形成构成有机EL元件的有机层的下层，并被蒸镀在所述下电极、所述肋部及所述上部中的各自之上，且与所述下部分离，

所述第2材料形成构成有机EL元件的有机层的上层，并覆盖所述第1材料且与所述下部分离。

5.根据权利要求1所述的蒸镀方法，其中，所述第1材料形成构成有机EL元件的有机层，并被蒸镀在所述下电极、所述肋部及所述上部的各自之上，且与所述下部分离，

所述第2材料形成构成有机EL元件的上电极，并覆盖所述第1材料且与所述下部相接。

6.一种蒸镀方法，其中，准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板，其中，所述隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部，

将所述处理基板配置在第1载置台上，将第1蒸镀头的喷嘴的延5伸方向与所述第1载置台的法线所成的角度设定为第1角度，从所述第1蒸镀头的所述喷嘴喷出第1材料的蒸气，在所述处理基板上蒸镀所述第1材料，

将蒸镀有所述第1材料的所述处理基板配置在第2载置台上，将第2蒸镀头的喷嘴的延伸方向与所述第2载置台的法线所成的角度设0定比为所述第1角度大的第2角度，从所述第2蒸镀头的所述喷嘴喷出第2材料的蒸气，在所述处理基板上蒸镀所述第2材料。

7.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其中，所述第1蒸镀头的所述喷嘴的延伸方向与所述第1载置台的法线平行，

所述第2蒸镀头的所述喷嘴的延伸方向相对于所述第2载置台的5法线倾斜。

8.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其中，所述第1材料形成构成有机EL元件的有机层，并被蒸镀在所述下电极、所述肋部及所述上部的各自之上，且与所述下部分离，

所述第2材料形成构成有机EL元件的上电极，并覆盖所述第10材料，且与所述下部相接。

9.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其中，从所述第2蒸镀头喷出的所述第2材料的蒸气的扩展角度小于从所述第1蒸镀头喷出的所述第1材料的蒸气的扩展角度。

10.一种蒸镀装置，其包括：

5第1载置台；

第1蒸镀头，其构成为在配置于所述第1载置台之上的处理基板上蒸镀第1材料；

第2载置台；和

第2蒸镀头，其构成为在配置于所述第2载置台之上且蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀第2材料，

所述第1蒸镀头及所述第2蒸镀头的各自分别具备：

蒸镀源，其对材料进行加热以产生蒸气；和

喷嘴，其与所述蒸镀源连接，喷出由所述蒸镀源产生的蒸气，

从所述第1蒸镀头喷出的所述第1材料的蒸气的扩展角度被设定为第1角度，

从所述第2蒸镀头喷出的所述第2材料的蒸气的扩展角度被设定为与所述第1角度不同的第2角度。