[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法在审

专利信息
申请号: 202310029963.3 申请日: 2023-01-09
公开(公告)号: CN116426881A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 竹中贵史;武田笃 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置 方法
【说明书】:

本发明涉及蒸镀装置及蒸镀方法。根据一个实施方式,在蒸镀方法中,准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板,其中,该隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部,将从第1蒸镀头喷出的第1材料的蒸气的扩展角度设定为第1角度,在所述处理基板上蒸镀所述第1材料,将从第2蒸镀头喷出的第2材料的蒸气的扩展角度设定为比所述第1角度大的第2角度,在蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀所述第2材料。

关联申请的交叉参照

本申请基于2022年1月12日提出的日本专利申请第2022-003106号主张优先权,并引用该日本申请所记载的全部记载内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

近年来,作为显示元件应用有机发光二极管(OLED)的显示装置被实用化。该显示元件具备包含薄膜晶体管的像素电路、与像素电路连接的下电极、覆盖下电极的有机层和覆盖有机层的上电极。有机层除了发光层以外,还包含空穴传输层、电子传输层等功能层。

例如,在使用掩模蒸镀有机层的情况下,应用具有与各像素对应的开口的精细掩模。但是,由于精细掩模的加工精度、开口形状的变形等而可能导致通过蒸镀形成的薄膜的形成精度降低。因此,需要不应用精细掩模就在期望的区域形成薄膜的技术。

发明内容

实施方式的目的在于提供一种无需应用精细掩模就能够形成期望的薄膜的蒸镀装置及蒸镀方法。

根据一个实施方式,在蒸镀方法中,

准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板,其中,所述隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部,将从第1蒸镀头喷出的第1材料的蒸气的扩展角度设定为第1角度,在所述处理基板上蒸镀所述第1材料,将从第2蒸镀头喷出的第2材料的蒸气的扩展角度设定为比所述第1角度大的第2角度,在蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀所述第2材料。

根据一个实施方式,在蒸镀方法中,

准备在基板上形成有下电极、具有与所述下电极重叠的开口的肋部、和隔壁的处理基板,其中,所述隔壁包含配置在所述肋部之上的下部及配置在所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部,将所述处理基板配置在第1载置台上,将第1蒸镀头的喷嘴的延伸方向与所述第1载置台的法线所成的角度设定为第1角度,从所述第1蒸镀头的所述喷嘴喷出第1材料的蒸气,在所述处理基板上蒸镀所述第1材料,将蒸镀有所述第1材料的所述处理基板配置在第2载置台上,将第2蒸镀头的喷嘴的延伸方向与所述第2载置台的法线所成的角度设定比为所述第1角度大的第2角度,从所述第2蒸镀头的所述喷嘴喷出第2材料的蒸气,在所述处理基板上蒸镀所述第2材料。

根据一个实施方式,蒸镀装置包括:

第1载置台;第1蒸镀头,其构成为在配置于所述第1载置台之上的处理基板上蒸镀第1材料;第2载置台;和第2蒸镀头,其构成为在配置于所述第2载置台之上并蒸镀有所述第1材料的所述处理基板上蒸镀第2材料,所述第1蒸镀头及所述第2蒸镀头的各自具备:蒸镀源,其对材料进行加热以产生蒸气;和喷嘴,其与所述蒸镀源连接,喷出由所述蒸镀源产生的蒸气,从所述第1蒸镀头喷出的所述第1材料的蒸气的扩展角度被设定为第1角度,从所述第2蒸镀头喷出的所述第2材料的蒸气的扩展角度被设定为与所述第1角度不同的第2角度。

根据实施方式,能够提供无需应用精细掩模就能够形成期望的薄膜的蒸镀装置及蒸镀方法。

附图说明

图1是示出显示装置DSP的构成例的图。

图2是示出子像素SP1、SP2、SP3的布局的一例的图。

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